组合物和涂膜制造技术

本发明专利技术提供一种组合物，其可提供耐候性和耐污染性优异的涂膜。一种组合物，其包含聚合物、以及选自由反应性聚二烷基硅氧烷和氟聚醚组成的组中的至少一种化合物；上述聚合物包含全卤烯烃单元和含羟基单体单元，具有110mgKOH/g～210mgKOH/g的羟值。

Compositions and coatings

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】组合物和涂膜
本专利技术涉及组合物和涂膜。
技术介绍
对于可溶于有机溶剂或水且可在室温下交联的含氟共聚物来说，由于分子内的C-F键的高键能和低极化率，因而耐候性、耐化学药品性、防水防油性、耐污染性等优异，被用于各种用途中。例如，专利文献1中记载了一种太阳能电池组件用背板，该背板在基材片的单侧或两侧形成了包含含氟聚合物(A)的涂料的固化涂膜层，该含氟聚合物(A)具有基于氟代烯烃(a)的重复单元、基于含交联性基团的单体(b)的重复单元、以及基于含烷基单体(c)的重复单元，该含烷基单体(c)是将不含季碳原子的碳原子数为2～20的直链或支链烷基和聚合性不饱和基团通过醚键或酯键连结而成的。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2009/157449号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，要求进一步改善涂膜的耐候性和耐污染性。鉴于上述现状，本专利技术的目的在于提供一种可提供耐候性和耐污染性优异的涂膜的组合物、以及该涂膜。用于解决课题的手段本专利技术涉及一种组合物，其特征在于，该组合物包含聚合物、以及选自由反应性聚二烷基硅氧烷和氟聚醚组成的组中的至少一种化合物，上述聚合物包含全卤烯烃单元和含羟基单体单元、具有110～210mgKOH/g的羟值。上述全卤烯烃优选为选自由四氟乙烯、三氟氯乙烯以及六氟丙烯组成的组中的至少一种。上述含羟基单体优选为羟基烷基乙烯基醚。上述聚合物优选进一步包含乙烯酯单元，该乙烯酯不包含羟基和芳香环中的任一种。上述乙烯酯优选为选自由乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、叔碳酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯和环己基甲酸乙烯酯组成的组中的至少一种。上述反应性聚二烷基硅氧烷优选不包含聚醚基。上述反应性聚二烷基硅氧烷优选为选自由下述通式(I)所表示的化合物以及下述通式(II)所表示的化合物组成的组中的至少一种，通式(I)：[化1](式中，R相互独立地表示碳原子数为1～8的烷基或芳基。X1表示下述基团：-RL-NH2、-RL-NH-Ra1-NH2(Ra1为亚烷基)、-RL-ORa2(Ra2为H或烷基)、-RL-CRa3(Ra4OH)2(Ra3为烷基、Ra4为亚烷基)、-RL-Ar1-ORa5(Ar1为亚芳基、Ra5为H或烷基)、-RL-O(C＝O)-CRa6＝CH2(Ra6为H或烷基)、-RL-SH、-RL-COORa7(Ra7为H或烷基)、-H、[化2][化3][化4](式中，RL表示单键或者不包含2个以上的醚键的亚烷基)。其中，2个以上的X1中，一部分可以为-RL-(C2H4O)a(C3H6O)b-Ra9(RL与上述定义相同。Ra9表示烷基、a表示0～50的整数、b表示0～50的整数。其中a+b为2以上的整数)。p表示0～100000的整数、q表示1～100000的整数)；通式(II)：[化5](式中，R与上述定义相同。X2相互独立地表示与上述X1相同的基团或-RL-(C2H4O)a(C3H6O)b-H(RL、a和b与上述定义相同)。r表示1～100000的整数)。上述反应性聚二烷基硅氧烷优选比重为0.80～1.15。上述反应性聚二烷基硅氧烷优选折射率为1.370～1.540。上述氟聚醚优选为通式：R11-(R12O)n-R13(式中，R11和R13独立地为H、F、碳原子数为1～16的烷基、碳原子数为1～16的烷氧基、碳原子数为1～16的氟代烷基、碳原子数为1～16的氟代烷氧基、-R14-X11(R14为单键或二价有机基团，X11为-NH2、-OH、-COOH、-CH＝CH2、-OCH2CH＝CH2、卤原子、磷酸基、磷酸酯基、烷氧羰基、巯基、硫醚基、芳基、芳基醚基或氨基)，R12是碳原子数为1～4的氟代亚烷基，n为2以上的整数)所表示的化合物。上述组合物优选进一步包含多异氰酸酯化合物。上述组合物优选进一步包含溶剂。本专利技术还涉及一种涂膜，其特征在于，其由上述组合物形成。专利技术的效果本专利技术的组合物由于具有上述构成，因而能够提供耐候性和耐污染性优异的涂膜。本专利技术的涂膜由于具有上述构成，因而耐候性和耐污染性优异。具体实施方式以下具体说明本专利技术。本专利技术的组合物包含聚合物。通过该特征能够提供耐候性和耐污染性优异的涂膜。上述组合物能够适当地用作涂料。上述聚合物的特征之一在于，其羟值为110～210mgKOH/g。作为上述羟值，优选为115mgKOH/g以上、更优选为120mgKOH/g以上，优选为200mgKOH/g以下、更优选为180mgKOH/g以下。上述羟值由上述聚合物的重量和-OH基的摩尔数进行计算来求出。-OH基的摩尔数可以通过NMR测定、IR测定、滴定、元素分析等求出。上述聚合物包含全卤烯烃单元和含羟基单体单元。构成上述全卤烯烃单元的全卤烯烃是全部氢原子被卤原子取代而成的烯烃。作为构成上述全卤烯烃单元的全卤烯烃，可以举出四氟乙烯(TFE)、三氟氯乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、全氟(烷基乙烯基醚)等。其中，作为上述全卤烯烃，优选为选自由TFE、CTFE和HFP组成的组中的至少一种，更优选为选自由TFE和CTFE组成的组中的至少一种。作为构成上述含羟基单体单元的含羟基单体，优选为选自由羟基烷基乙烯基醚、羟基烷基烯丙基醚、羟基羧酸乙烯酯、羟基羧酸烯丙基酯和(甲基)丙烯酸羟基烷基酯组成的组中的至少一种，更优选为选自由羟基烷基乙烯基醚和羟基烷基烯丙基醚组成的组中的至少一种，进一步优选为羟基烷基乙烯基醚。作为上述羟基烷基乙烯基醚，可以举出2-羟基乙基乙烯基醚、3-羟基丙基乙烯基醚、2-羟基丙基乙烯基醚、2-羟基-2-甲基丙基乙烯基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基-2-甲基丁基乙烯基醚、5-羟基戊基乙烯基醚、6-羟基己基乙烯基醚等。作为上述羟基烷基烯丙基醚，可以举出2-羟基乙基烯丙基醚、4-羟基丁基烯丙基醚、甘油单烯丙基醚等。作为上述羟基羧酸乙烯酯，可以举出羟基乙酸乙烯酯、羟基丙烷酸乙烯酯、羟基丁烷酸乙烯酯、羟基己酸乙烯酯、4-羟基环己基乙酸乙烯酯等。作为上述羟基羧酸烯丙基酯，可以举出羟基乙酸烯丙基酯、羟基丙酸烯丙基酯、羟基丁酸烯丙基酯、羟基己酸烯丙基酯、4-羟基环己基乙酸烯丙基酯等。作为上述(甲基)丙烯酸羟基烷基酯，可以举出丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯等。作为上述含羟基单体，其中进一步优选为式(A)：CH2＝CH-(CH2)l-O-(CH2)m-OH(式中，l为0或1、m为2～20的整数)所表示的单体，特别优选为选自由4-羟基丁基乙烯基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基乙基烯丙基醚和4-羟基丁基烯丙基醚组成的组中的至少一种单体。作为上述全卤烯烃单元的含量，相对于上述聚合物的全部单体单元优选为30摩尔％～90摩尔％、更优选为30摩尔％～60摩尔％、进一步优选为40摩尔％～55摩尔％。作为上述含羟基单体单元的含量，相对于上述聚合物的全部单体单元优选为10摩尔％～70摩尔％、更优选为10摩尔％～40摩尔％、进一步优选为15摩尔％～40摩尔％、进而更优选为15摩尔％～35摩尔％、特别优选为20摩尔％～35摩尔％。本说明书中，构成聚合物的上述各单体单元的含量可以通过将NMR、FT-IR、元素分析、荧光X射线分析根据单体的种类适当地组合来计算出。上述聚合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种组合物，其特征在于，该组合物包含聚合物、以及选自由反应性聚二烷基硅氧烷和氟聚醚组成的组中的至少一种化合物，所述聚合物包含全卤烯烃单元和含羟基单体单元，具有110mgKOH/g～210mgKOH/g的羟值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.03 JP 2017-0187271.一种组合物，其特征在于，该组合物包含聚合物、以及选自由反应性聚二烷基硅氧烷和氟聚醚组成的组中的至少一种化合物，所述聚合物包含全卤烯烃单元和含羟基单体单元，具有110mgKOH/g～210mgKOH/g的羟值。2.如权利要求1所述的组合物，其中，所述全卤烯烃为选自由四氟乙烯、三氟氯乙烯以及六氟丙烯组成的组中的至少一种。3.如权利要求1或2所述的组合物，其中，所述含羟基单体为羟基烷基乙烯基醚。4.如权利要求1、2或3所述的组合物，其中，所述聚合物进一步包含乙烯酯单元，该乙烯酯不包含羟基和芳香环中的任一种。5.如权利要求4所述的组合物，其中，所述乙烯酯为选自由乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、叔碳酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯和环己基甲酸乙烯酯组成的组中的至少一种。6.如权利要求1、2、3、4或5所述的组合物，其中，所述反应性聚二烷基硅氧烷不包含聚醚基。7.如权利要求1、2、3、4、5或6所述的组合物，其中，所述反应性聚二烷基硅氧烷为选自由下述通式(I)所表示的化合物以及下述通式(II)所表示的化合物组成的组中的至少一种，通式(I)：[化1]通式(I)中，R相互独立地表示碳原子数为1～8的烷基或芳基，X1表示下述基团：-RL-NH2；-RL-NH-Ra1-NH2，其中Ra1为亚烷基；-RL-ORa2，其中Ra2为H或烷基；-RL-CRa3(Ra4OH)2，其中Ra3为烷基，Ra4为亚烷基；-RL-Ar1-ORa5，其中Ar1为亚芳基，Ra5为H或烷基；-RL-O(C＝O)-CRa6＝CH2，其中Ra6为H或烷基；-RL-SH；-RL-COORa7，其中Ra7为H或烷基；-H；[化2][化3]或[化4]其中，Ra8为3价的烃基；式中，RL表示单键或者不...

【专利技术属性】
技术研发人员：中谷安利，荻田耕一郎，井本克彦，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP