一种阵列基板及发声装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供的一种阵列基板及发声装置，该阵列基板包括：衬底基板，位于衬底基板上依次层叠设置的弹性层、压电层和匹配层；阵列基板包括发声区域和非发声区域；衬底基板至少在发声区域内具有多个第一空腔结构；发声区域的图形为中心对称图形，发声区域的对称中心与衬底基板的对称中心位于同一区域；在发声区域内，匹配层具有的结构与第一空腔结构的发声参数相匹配；在非发声区域内，匹配层具有的结构与衬底基板的发声参数失配。通过对匹配层和衬底基板内的空腔结构进行设计，使发声区域能够发射对应频率的声波，而非发声区域不能发射对应频率的声波，从而降低了阵列基板所发射声波的旁瓣强度，以增加阵列基板所发射声波的指向性。

An Array Substrate and Sound Producing Device

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及发声装置
本专利技术涉及发声
，尤指一种阵列基板及发声装置。
技术介绍
相关技术中的阵列基板包括衬底基板，以及排布于整个衬底基板上的多个发声单元，每个发声单元对应的位置该衬底基板均包括一空腔结构，以发出对应频率的声波，发声单元还包括依次位于衬底基板上的弹性层、压电层和匹配层。该发声单元的工作方式是对压电层的电极加载电激励，使得压电层在横向方向上产生横向振动，由于压电层的侧边都被固定，导致横向振动产生纵向弯曲，产生声波通过匹配层向外辐射。该种阵列基板发出的声波的旁瓣强度较大，导致所发出的声波的指向性较低。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种阵列基板及发声装置，用以解决相关技术中的阵列基板所发射声波的指向性较低的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上依次层叠设置的弹性层、压电层和匹配层；所述阵列基板包括发声区域和非发声区域；所述衬底基板至少在所述发声区域内具有多个第一空腔结构；所述发声区域的图形为中心对称图形，所述发声区域的对称中心与所述衬底基板的对称中心位于同一区域；在所述发声区域内，所述匹配层具有的结构与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上依次层叠设置的弹性层、压电层和匹配层；所述阵列基板包括发声区域和非发声区域；所述衬底基板至少在所述发声区域内具有多个第一空腔结构；所述发声区域的图形为中心对称图形，所述发声区域的对称中心与所述衬底基板的对称中心位于同一区域；在所述发声区域内，所述匹配层具有的结构与所述第一空腔结构的发声参数相匹配；在所述非发声区域内，所述匹配层具有的结构与所述衬底基板的发声参数失配。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上依次层叠设置的弹性层、压电层和匹配层；所述阵列基板包括发声区域和非发声区域；所述衬底基板至少在所述发声区域内具有多个第一空腔结构；所述发声区域的图形为中心对称图形，所述发声区域的对称中心与所述衬底基板的对称中心位于同一区域；在所述发声区域内，所述匹配层具有的结构与所述第一空腔结构的发声参数相匹配；在所述非发声区域内，所述匹配层具有的结构与所述衬底基板的发声参数失配。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板在所述非发声区域内具有多个所述第一空腔结构；所述匹配层仅覆盖所述发声区域；所述阵列基板还包括：位于所述非发声区域的吸收层，所述吸收层位于所述压电层背离所述衬底基板的一侧，所述吸收层被配置为对所述非发声区域内的声波进行吸收。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板在所述非发声区域内具有多个所述第二空腔结构；所述第二空腔结构与...

【专利技术属性】
技术研发人员：李佩笑，韩艳玲，姬雅倩，刘英明，王海生，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11