用于干熄焦装置的墙体结构、干熄焦装置制造方法及图纸

技术编号:22081713 阅读:46 留言:0更新日期:2019-09-12 16:16
本实用新型专利技术提供了一种用于干熄焦装置的墙体结构,墙体结构包括沿高度方向依次设置的地下结构和地上结构,地下结构围成包括物料传输区和物料输出区的第一空间,地上结构设置在物料输出区,且在物料输出区与地下结构连接,地上结构围成第二空间。本实用新型专利技术还提供了一种干熄焦装置,墙体结构保证焦炭运载坑不会坍塌,不会对周围建筑物地基产生扰动,具有很好的防渗性能。

Wall Structure and CDQ Device for CDQ Device

【技术实现步骤摘要】
用于干熄焦装置的墙体结构、干熄焦装置
本技术涉及干熄焦
,具体涉及一种用于干熄焦装置的墙体结构以及一种干熄焦装置。
技术介绍
清洁型热回收焦炉越来越多的采用干熄焦工艺对焦炉输出的焦炭进行熄焦,根据其工艺特点配套干熄焦装置进行生产时,需要对炼焦炉输出的焦炭执行二次推焦的工艺。为了执行所述二次推焦工艺,需要在地面上挖掘焦罐运载坑,将所述焦罐设置在焦罐运载坑中。但是,由于焦罐运载坑向地面下挖掘了一定深度,存在坍塌风险,一旦坍塌,还将影响到邻近建筑物的地基稳定性。因此,如何防止焦罐运载坑坍塌成为本领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术旨在至少解决上述技术问题,为此,本技术提供一种用于干熄焦装置的墙体结构,所述墙体结构可以承受巨大的坑壁压力,具有很好的防渗性能。为了实现上述目的,作为本技术的一个方面,提供了一种用于干熄焦装置的墙体结构,其中,所述墙体结构包括沿高度方向依次设置的地下结构和地上结构,所述地下结构围成包括物料传输区和物料输出区的第一空间,所述地上结构设置在所述物料输出区,且在所述物料输出区与所述地下结构连接,所述地上结构围成第二空间。可选地,所述地下结构包括多段第一连续墙和至本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于干熄焦装置的墙体结构,其特征在于,所述墙体结构包括沿高度方向依次设置的地下结构和地上结构,所述地下结构围成包括物料传输区和物料输出区的第一空间,所述地上结构设置在所述物料输出区,且在所述物料输出区与所述地下结构连接,所述地上结构围成第二空间。

【技术特征摘要】
1.一种用于干熄焦装置的墙体结构,其特征在于,所述墙体结构包括沿高度方向依次设置的地下结构和地上结构,所述地下结构围成包括物料传输区和物料输出区的第一空间,所述地上结构设置在所述物料输出区,且在所述物料输出区与所述地下结构连接,所述地上结构围成第二空间。2.根据权利要求1所述的墙体结构,其特征在于,所述地下结构包括多段第一连续墙和至少一段内衬墙,多段所述第一连续墙围成所述第一空间,所述内衬墙设置于所述第一空间内,至少一段所述第一连续墙的内表面上贴合有所述内衬墙。3.根据权利要求2所述的墙体结构,其特征在于,所述地下结构包括冠梁,所述冠梁设置在多段所述第一连续墙沿墙体高度方向的顶部,并连接相邻两段所述第一连续墙。4.根据权利要求2所述的墙体结构,其特征在于,所述地下结构包括第一结构板,所述第一结构板位于所述第一空间内,且位于所述第一空间的底部,所述第一结构板和所述内衬墙连接。5.根据权利要求4所述的墙体结构,其特征在于,所述地下结构包括垫层,所述垫层设置于所述第一结构板背离所述第一空间的表面上。6.根据权利要求4所述的墙体结构,其特征在于,所述地下结构还包括多段第二连续墙,多段所述第二连续墙与多段所述第一连续墙一一对应地连接,并且多段所述第二连续墙位于所述第一结构板与所述第一连续墙相反的一侧。7.根据权利要求2至6中任意一项所述的墙体结构,其特征在于,所述墙体结构还包括隔断墙,所述隔断墙设置在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:木双士解志运徐林张云毛旸
申请(专利权)人:鞍山华泰环能工程技术有限公司
类型:新型
国别省市:辽宁,21

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1