【技术实现步骤摘要】
一种平面抛光装置
本专利技术主要涉及平面抛光机领域，具体涉及一种平面抛光装置。
技术介绍
现今的电子工艺产品如水晶振子基片、硅片、铌酸锂基片等，不仅对表面平整度有极高的要求，而且也要求基板的两端平行且不具有晶体取向误差，根据传统的抛光方法，抛光模具的表面似乎符合要求，但其表面形状易于更换，需要进一步修改，而且传统的抛光方法加工时，操作者的加工工艺更加严格，所以使用传统的抛光方法生产效率低，难度更大。因此，为了保证元件的性能和降低抛光成本，目前这些电子元件最终采用超精密抛光技术进行处理。超精密平面抛光机是用于各种精度要求很高的零件的加工机器，其工作时，电机带动主轴旋转，主轴再带动抛光盘旋转，而零件在抛光盘上做从动运动，但是其摩擦的轨迹比较单一，抛光效果不好，而且对抛光盘同一位置的磨损较严重，影响抛光盘的寿命。
技术实现思路
为了解决克服现有的平面抛光机的抛光效果不好、使用寿命较短的不足，本专利技术设计一种平面抛光装置，以曲柄摇杆为核心原理的摆动机构，配合上端的往复平动的抓手，使得工件在抛光盘上的运动更加复杂无序，从而使得工件的抛光精度更高，也使得抛光盘的研磨更加均匀，寿...
【技术保护点】
1.一种平面抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括平行摆动机构和顶部摆动机构，所述平行摆动机构为曲柄摇杆机构，所述顶部摆动机构为曲柄滑块机构；所述平行摆动机构包括调速制动电机、主动轮、皮带、从动轮、支撑杆、连接杆和抓手，所述调速制动电机带动主动轮，主动轮通过皮带带动从动轮转动，两连接杆分别于主从动轮联接，每个连接杆另一端分别与抓手联接，形成曲柄摇杆机构，从而带动抓手在抛光盘上带动加工工件摆动；所述抓手呈圆弧状，两抓手的相对位置不变。
【技术特征摘要】
1.一种平面抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括平行摆动机构和顶部摆动机构，所述平行摆动机构为曲柄摇杆机构，所述顶部摆动机构为曲柄滑块机构；所述平行摆动机构包括调速制动电机、主动轮、皮带、从动轮、支撑杆、连接杆和抓手，所述调速制动电机带动主动轮，主动轮通过皮带带动从动轮转动，两连接杆分别于主从动轮联接，每个连接杆另一端分别与抓手联接，形成曲柄摇杆机构，从而带动抓手在抛光盘上带动加工工件摆动；所述抓手呈圆弧状，两抓手的相对位置不变。2.如权利要求1所述的一种平面抛光装置，其特征在于，所述抓手呈圆心角为150°的圆弧状，尾部做一定的延长，并在延长杆上开出两个大小不同的孔，用于与支撑杆和连接杆的联接。3.如权利要求1或2所述的一种平面抛光装置，其特征在于，所述圆弧状抓手内环半径为r1，外环半径为r2，r1＜r2，并且r1、r2根据不同的抛光机，不同的抛光盘大小可取不同的值。4.如权利要求3所述的一种平面抛光装置，其特征在于，开...
【专利技术属性】
技术研发人员：周佩剑，颜朝寿，蒋豪杰，郑水华，牟介刚，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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