【技术实现步骤摘要】
一种纳米结构的制造方法
本申请涉及纳米
，特别涉及一种纳米结构的制造方法。
技术介绍
随着科学技术的不断发展，电子科学、光子科学、光电科学、生物科学等领域都对纳米结构的加工技术提出了更高的要求，需要提供一种更加可靠、更加快速、更低成本的纳米加工技术。现有技术中，通常采用表面化学改性的方法制造纳米结构。具体来说，首先可以采用微纳加工技术制备表面化学性质不同的纳米图案，然后通过化学反应或化学吸附的手段引入纳米颗粒，从而形成纳米结构。然而，由于化学反应或化学吸附不可控性较高，因此，上述方法存在严重的非特异性吸附问题，容易导致形成的纳米结构不干净。基于此，目前亟需一种纳米结构的制造方法，用于解决现有技术中纳米加工技术存在非特异性吸附的问题。
技术实现思路
本申请提供一种纳米结构的制造方法，可用于解决现有技术中纳米加工技术存在非特异性吸附的技术问题。第一方面，本申请实施例提供一种纳米结构的制造方法，所述方法包括：提供第一图案模板，所述第一图案模板包括具有低表面能的衬底和待形成的纳米图案；根据所述待形成的纳米图案，在所述具有低表面能的衬底上写入电荷，以使所述衬底在写入电荷的...
【技术保护点】
1.一种纳米结构的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供第一图案模板，所述第一图案模板包括具有低表面能的衬底和待形成的纳米图案；根据所述待形成的纳米图案，在所述具有低表面能的衬底上写入电荷，以使所述衬底在写入电荷的区域产生化学改性，形成具有高表面能的第一纳米图案；在所述具有高表面能的第一纳米图案所在的区域引入第一纳米颗粒，形成第一纳米结构。
【技术特征摘要】
1.一种纳米结构的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供第一图案模板，所述第一图案模板包括具有低表面能的衬底和待形成的纳米图案；根据所述待形成的纳米图案，在所述具有低表面能的衬底上写入电荷，以使所述衬底在写入电荷的区域产生化学改性，形成具有高表面能的第一纳米图案；在所述具有高表面能的第一纳米图案所在的区域引入第一纳米颗粒，形成第一纳米结构。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述形成第一纳米结构之后，所述方法还包括：采用定位系统确定所述第一纳米结构的空间位置；根据所述第一纳米结构之间的空间位置，调整二次形成的纳米图案的位置信息；所述位置信息包括位置坐标、图案方向和图案尺寸中的至少一项；根据调整后的二次形成的纳米图案的位置信息，在所述具有低表面能的衬底上写入电荷，以使所述衬底在写入电荷的区域产生化学改性，形成具有高表面能的第二纳米图案；在所述具有高表面能的第二纳米图案所在的区域引入第二纳米颗粒，以使所述衬底在写入电荷的区域产生化学改性，形成第二纳米结构；组装所述第一纳米结构和所述第二纳米结构，得到复合纳米结构。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一纳米颗粒为原子、分子、离子、团簇、半导体量子点、金属纳米颗粒、绝缘体纳米颗粒、超顺磁纳米颗粒中的任意一项；所述第二纳米颗粒为原子、分子、离子、团簇、半导体量子点、金属纳米颗粒、绝缘体纳米颗粒、超顺磁纳米颗粒中除所述第一纳米颗粒以外的任意一项。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述形成第一纳米图案之前，还包括：在导电衬底上涂覆一层具有低表面能的驻极体薄层，组成所述具有低表面能的衬底。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述具有低表面能的衬底为含氟的化合物制成的具有低表面能的衬底、含氟的聚合物制成的具有低表面能的衬底、含氯的化合物制成的具有低表面能的衬底、含氯的聚合物制成的具有低表面能的衬底中的任意一项。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张伟华，鲁振达，满再琴，边捷，邢星，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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