抛光垫及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种生产抛光垫的方法，该方法包括如下步骤：提供抛光层；形成穿透抛光层的第一通孔；提供面向抛光层的支撑层；在具有第一通孔的抛光层和支撑层之间插入粘接层，且通过该粘接层将抛光层和支撑层彼此粘接；以第一通孔为参考点，形成穿透粘接层在其设定区域上的第三通孔，以及形成穿透支撑层在其设定区域上的第二通孔；以及在第一通孔内部嵌入窗口。

Polishing pad and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抛光垫及其制备方法
下文中的实施例涉及一种用于半导体的化学机械平坦化(CMP)工艺中的抛光垫，及其制备方法。
技术介绍
在制备半导体工艺中的化学机械平坦化(CMP)工艺涉及以下步骤：将晶圆固定至抛光头(head)并与安装在压板(platen)上的抛光垫表面接触，且通过提供浆液(slurry)对该晶圆进行化学处理，同时相对移动压板和抛光头，从而机械地使晶圆表面的不规则部分(irregularities)平坦化(planarize)。同样重要的是，在CMP工艺中，通过检测获取晶圆理想表面特性或厚度的点从而确定终止CMP工艺的终点。因此，发展了用于确定终止平坦化的终点的各种方法；例如，一种将透明窗口嵌入抛光垫中并进行光学检测的技术已经广为人知。特别地，将一光束通过窗口指向正在进行平坦化的晶圆表面，且一旦反射光束通过窗口返回，则可在探测器上分析晶圆表面特征。具有窗口的传统层压抛光垫通常通过以下方式制成：形成通过抛光层和支撑层中每一者的孔，且然后结合各层。然而，这种传统方法有一个弊端，该弊端是指需要执行较为繁琐的对准步骤，其中需要以抛光层中形成的凹槽(notch)和支撑层中形成的凹槽所在的位置对齐。另外，发展了一种在对应于光传输区域的部分上形成可释放的保护构件并移除所需位置的底端部分的方法；然而，由于粘接层仍残留在光传输区域的底端，因此还涉及透光率降低的问题(参见韩国专利号No.1633766)。
技术实现思路
技术问题在具有窗口的层压抛光垫中，孔通常分别形成在而后彼此结合的抛光层和支撑层中。因此，在制造抛光垫时，很难在预定位置形成光传输区域。还具有的问题是由于存在粘接层使得透光率降低。因此，下文中的实施例旨在提供一种用于制造抛光垫的方法以及由此而制造的抛光垫，其在预定位置处容易形成光传输区域而不形成凹槽，并且在不降低透光率的情况下防止各层间的分层。解决办法根据实施例，提供了一种制造抛光垫的方法，其包括：(a)提供抛光层；(b)形成通过该抛光层的第一通孔；(c)提供与该抛光层相对的支撑层；(d)在具有第一通孔的抛光层和支撑层之间插入粘接层，通过该粘接层将抛光层和支撑层彼此结合；(e)基于第一通孔，在粘接层的预定区域中形成通过粘接层的第三通孔，并且在支撑层的预定区域中形成通过支撑层的第二通孔；以及(f)将窗口嵌入至第一通孔中。根据另一实施例，提供了一种抛光垫，其包括：抛光层，其具有形成其中的第一通孔；支撑层，其与抛光层相对，且具有在形成第一通孔的区域中形成的第二通孔；粘接层，其插入至抛光层和支撑层之间，且具有在形成第一通孔的区域中形成的第三通孔；以及窗口，其嵌入至第一通孔中并结合至粘接层。其中第一通孔和第二通孔彼此对齐，同时抛光层和支撑层中不形成用于对齐第一通孔和第二通孔的凹槽。专利技术的有益效果根据实施例制造抛光垫的方法可在不形成凹槽的情况下容易在预定位置处形成光传输区域。此外，根据上述方法，由于窗口底端不存在粘接层，因此可提供具有良好透光率的抛光垫。此外，由于上述方法使用热熔粘接剂用以结合抛光层和支撑层，而非使用双面粘接带，因此所制造的抛光垫能防止各层间的分层。附图说明图1根据实施例示意性地示出用于制造抛光垫的方法。图2根据实施例示意性地示出切割方法。图3根据另一实施例示意性地示出切割方法。图4根据实施例示出采用制造抛光垫的方法而制造的抛光垫。<附图的附图标记>101:抛光层102:支撑层103:粘接层104:窗口201:第一通孔202:第二通孔203:第三通孔301:导向构件302:导向构件303:切割构件304:切割构件WA:抛光垫横截面上第一通孔的宽度或窗口的宽度WB:抛光垫横截面上第二通孔的宽度或第三通孔的宽度具体实施方式下文将参照附图详细描述根据上述实施例的制造抛光垫的方法。在附图中，相同的附图标记表示相同的元件，且为便于解释，可放大每个元件的尺寸和厚度。同时，下面所描述的实施例是示例性的，且可对这些实施例进行各种修改。图1根据实施例示意性地示出用于制造抛光垫的方法。由制备抛光垫的方法制造的抛光垫包含：抛光层(101)，其具有形成在该抛光层(101)中的第一通孔(201)；支撑层(102)；粘接层(103)，其插入至该抛光层(101)和该支撑层(102)之间；以及窗口(104)，其嵌入至第一通孔(201)中。首先，设置抛光层(101)(如图1(a)所示)。抛光层(101)可以是泡沫或非泡沫，且优选地是具有微泡(microbubbles)的泡沫。抛光层(101)可包括：聚氨酯基树脂，聚酯基树脂，聚酰胺基树脂、丙烯酸基树脂、聚碳酸酯基树脂、卤素基树脂、聚苯乙烯基树脂、聚烯烃基树脂、环氧基树脂、感光树脂或其任意组合，但不限于此。聚氨酯树脂是用于形成抛光层(101)的优选材料，因为它具有优异的耐磨性，并且可通过改变原材料的构成而较容易地(readily)获得所需的物理性能。抛光层(101)的表面优选地具有凹凸结构，以便保持和更换浆液。此外，凹凸结构一般具有规律性(regularity)；然而，为了保持和更换浆液，可在特定位置改变槽距、槽宽及槽深等。抛光层(101)的形状没有特别限制，且抛光层(101)的尺寸可根据所使用的抛光设备进行适当地调整。抛光层(101)的厚度没有特别限制，且可以是0.8至5.0mm，优选地是1.0至3.0mm。然后，形成通过抛光层(101)的第一通孔(201)(见图1(b))。形成通过抛光层(101)的第一通孔(201)的方法包括：采用刀具挤压或磨削的方法；使用激光器(如碳酸激光器)的方法；以及将原材料注入具有符合第一通孔(201)的形状的模具中并对其进行固化的方法等，但不限于此。第一通孔(201)的平面形状不受特别限制，且可以是圆形、椭圆形、正方形、矩形或多边形。接着，设置与抛光层(101)相对的支撑层(102)(见图1(c))。支撑层(102)可以是浸有(impregnated)聚氨酯树脂的聚酯非织造布类型、聚氨酯树脂的绒面革类型、聚氨酯树脂的泡沫类型或其任意组合，但不限于此。支撑层(102)的厚度没有特别限制，且可以是0.1至3.0mm，优选地是0.4至1.5mm。然后，在具有第一通孔(201)的抛光层(101)与支撑层(102)之间插入粘接层(103)，抛光层(101)与支撑层(102)通过粘接层(103)彼此结合(见图1(d))。粘接层(103)可包括：聚氨酯基树脂、聚酯基树脂、乙烯-醋酸乙烯基树脂、聚酰胺基树脂、聚烯烃基树脂或其任意组合，但不限于此。优选地，粘接层(103)可以是聚氨酯基树脂、聚酯树脂基树脂或其组合。粘接层(103)可包括附接至抛光层(101)一侧的第一粘接层以及附接至支撑层(102)一侧的第二粘接层。例如，粘接层(103)可由第一粘接层和第二粘接层组成。第一粘接层和第二粘接层的材料可以与上述所列举的粘接层材料相同。粘接层(103)的厚度可以是10至400μm，优选地是20至250μm。此外，第一粘接层的厚度可以是5至200μm，优选地是10至125μm。此外，第二粘接层的厚度可以是5至200μm，优选地是10至125μm。如果粘接层(103)的厚度在上述范围内，可在低温下通过熔化(melting)该粘接层而结合抛光层和支撑层，且其优点是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制造抛光垫的方法，其包括：(a)提供抛光层；(b)形成通过所述抛光层的第一通孔；(c)提供与所述抛光层相对的支撑层；(d)在具有所述第一通孔的所述抛光层与所述支撑层之间插入粘接层，且通过所述粘接层将所述抛光层和所述支撑层彼此结合；(e)基于所述第一通孔，在所述粘接层的预定区域中形成通过所述粘接层的第三通孔，且在所述支撑层的预定区域中形成通过所述支撑层的第二通孔；以及(f)在所述第一通孔中嵌入窗口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.23 KR 10-2017-00104011.一种制造抛光垫的方法，其包括：(a)提供抛光层；(b)形成通过所述抛光层的第一通孔；(c)提供与所述抛光层相对的支撑层；(d)在具有所述第一通孔的所述抛光层与所述支撑层之间插入粘接层，且通过所述粘接层将所述抛光层和所述支撑层彼此结合；(e)基于所述第一通孔，在所述粘接层的预定区域中形成通过所述粘接层的第三通孔，且在所述支撑层的预定区域中形成通过所述支撑层的第二通孔；以及(f)在所述第一通孔中嵌入窗口。2.根据权利要求1所述的制造抛光垫的方法，其中，所述第三通孔形成在所述第一通孔所形成的区域中，且所述第三通孔的平面面积小于所述第一通孔的平面面积；且所述第二通孔形成在所述第一通孔所形成的区域中，所述第二通孔的平面面积小于所述第一通孔的平面面积。3.根据权利要求2所述的制造抛光垫的方法，其中，同时形成所述第三通孔和所述第二通孔，使所述第三通孔与所述第二通孔彼此对应。4.根据权利要求3所述的制造抛光垫的方法，其进一步包括将所述窗口结合至所述粘接层。5.根据权利要求4所述的制造抛光垫的方法，其中，在将所述窗口结合至所述粘接层的步骤中，熔化所述粘接层的一部分或全部，然后附接至窗口。6.根据权利要求5所述的制造抛光垫的方法，其中，通过加热或振动将所述窗口结合至所述粘接层。7.根据权利要求1所述的制造...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳俊城，权泰庆，徐章源，尹晟勋，
申请(专利权)人：SKC株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR