一种双抛光平台的化学抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌、连接臂、抛光平台、抛光垫和支撑架，所述抛光桌上方设置有桌槽，所述固定板正面设置有滑槽，所述连接臂通过滑槽与固定板相互连接，所述伸缩杆通过锁紧旋钮与伸缩套筒相互连接，所述抛光平台通过第一转轴与电机相互连接，所述抛光垫位于抛光平台上方，所述第一转轴通过传动带与第二转轴相互连接，所述皮带箱位于抛光桌的下方，所述支撑架位于抛光桌下方。该双抛光平台的化学抛光设备，采用两个抛光平台同时对两个物件进行抛光，从而提高了抛光机的工作效率，滑槽的设计使得抛光棒可以通过连接臂移动或取下，方便更换，且通过改变传统的抛光机结构，实现机身简单化，方便使用。

A Chemical Polishing Equipment with Double Polishing Platform

【技术实现步骤摘要】
一种双抛光平台的化学抛光设备
本技术涉及抛光设备
，具体为一种双抛光平台的化学抛光设备。
技术介绍
化学抛光机是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑的机器设备，现今高速发展的时代下，化学抛光机的应用越来越广泛。但是现有的化学抛光机，结构复杂，且抛光棒长时间使用磨损后不易更换，使用起来不够方便，同时只能对一个物件进行抛光，抛光速度慢，导致工作效率不够高。针对上述问题，急需在原有化学抛光机的基础上进行创新设计。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种双抛光平台的化学抛光设备，以解决上述
技术介绍
中提出结构复杂，且抛光棒长时间使用磨损后不易更换，使用起来不够方便，同时只能对一个物件进行抛光，抛光速度慢，导致工作效率不够高的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌、连接臂、抛光平台、抛光垫和支撑架，所述抛光桌上方设置有桌槽，且抛光桌与固定板相互连接，所述固定板正面设置有滑槽，且滑槽的一头安装有滑槽侧盖，所述连接臂通过滑槽与固定板相互连接，且连接臂与伸缩杆相互连接，所述伸缩杆通过锁紧旋钮与伸缩套筒相互连接，且伸缩套筒下方连接有抛光棒，所述抛光平台通过第一转轴与电机相互连接，且抛光平台位于桌槽内，所述抛光垫位于抛光平台上方，所述第一转轴通过传动带与第二转轴相互连接，且传动带位于皮带箱内，所述皮带箱位于抛光桌的下方，所述支撑架位于抛光桌下方，且支撑架上设置有连接杆。优选的，所述桌槽、连接臂、伸缩杆、锁紧旋钮、伸缩套筒、抛光棒和抛光平台均设置有两个，且桌槽和抛光平台均关于抛光桌中轴线相互对称。优选的，所述滑槽与连接臂卡合连接。优选的，所述抛光棒的长度等于抛光平台的半径。优选的，所述抛光垫的直径等于抛光平台的直径。优选的，所述支撑架设置有四根，且相互之间均连接有连接杆。与现有技术相比，本技术的有益效果是：该双抛光平台的化学抛光设备，采用两个抛光平台，可以同时对两个物件进行抛光，增加了抛光速度慢，提高了抛光机的工作效率，滑槽的设计使得抛光棒可以通过连接臂移动或取下，方便更换，且通过改变传统的抛光机结构，实现机身简单化，方便使用。附图说明图1为本技术侧面结构示意图；图2为本技术正面结构示意图；图3为本技术俯视结构示意图。图中：1、抛光桌；2、桌槽；3、固定板；4、滑槽；5、滑槽侧盖；6、连接臂；7、伸缩杆；8、锁紧旋钮；9、伸缩套筒；10、抛光棒；11、抛光平台；12、抛光垫；13、第一转轴；14、传动带；15、皮带箱；16、电机；17、支撑架；18、连接杆；19、第二转轴。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，本技术提供一种技术方案：一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌1、桌槽2、固定板3、滑槽4、滑槽侧盖5、连接臂6、伸缩杆7、锁紧旋钮8、伸缩套筒9、抛光棒10、抛光平台11、抛光垫12、第一转轴13、传动带14、皮带箱15、电机16、支撑架17、连接杆18和第二转轴19，抛光桌1上方设置有桌槽2，且抛光桌1与固定板3相互连接，固定板3正面设置有滑槽4，且滑槽4的一头安装有滑槽侧盖5，连接臂6通过滑槽4与固定板3相互连接，且连接臂6与伸缩杆7相互连接，伸缩杆7通过锁紧旋钮8与伸缩套筒9相互连接，且伸缩套筒9下方连接有抛光棒10，抛光平台11通过第一转轴13与电机16相互连接，且抛光平台11位于桌槽2内，抛光垫12位于抛光平台11上方，第一转轴13通过传动带14与第二转轴19相互连接，且传动带14位于皮带箱15内，皮带箱15位于抛光桌1的下方，支撑架17位于抛光桌1下方，且支撑架17上设置有连接杆18；进一步的，桌槽2、连接臂6、伸缩杆7、锁紧旋钮8、伸缩套筒9、抛光棒10和抛光平台11均设置有两个，且桌槽2和抛光平台11均关于抛光桌1中轴线相互对称，结构合理，且提高抛光效率；进一步的，滑槽4与连接臂6卡合连接，进行连接臂6的稳固移动；进一步的，抛光棒10的长度等于抛光平台11的半径，确保抛光平台11旋转时，抛光平台11上的物件能够完全进行抛光；进一步的，抛光垫12的直径等于抛光平台11的直径，确保抛光平台11被抛光垫12整体覆盖，增加物件与抛光平台11之间的阻力，方便抛光；进一步的，支撑架17设置有四根，且相互之间均连接有连接杆18，确保整体摆放更加稳定。工作原理：首先将需要进行抛光的物件涂上抛光剂之后分别两个放置抛光平台11上，再通过滑槽4将连接臂6分别移至两个抛光平台11的正上方，且通过伸缩杆7和伸缩套筒9对抛光棒10于需要进行抛光的物件之间的距离进行调整，调整至适合的高度时启动电机16，因为抛光平台11通过第一转轴13与电机16相互连接，且第一转轴13通过传动带14与第二转轴19相互连接，所以电机16同时带动两个抛光平台11同时转动，从而实在抛光棒10对物件进行抛光。最后应当说明的是，以上内容仅用以说明本技术的技术方案，而非对本技术保护范围的限制，本领域的普通技术人员对本技术的技术方案进行的简单修改或者等同替换，均不脱离本技术技术方案的实质和范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌（1）、连接臂（6）、抛光平台（11）、抛光垫（12）和支撑架（17），其特征在于：所述抛光桌（1）上方设置有桌槽（2），且抛光桌（1）与固定板（3）相互连接，所述固定板（3）正面设置有滑槽（4），且滑槽（4）的一头安装有滑槽侧盖（5），所述连接臂（6）通过滑槽（4）与固定板（3）相互连接，且连接臂（6）与伸缩杆（7）相互连接，所述伸缩杆（7）通过锁紧旋钮（8）与伸缩套筒（9）相互连接，且伸缩套筒（9）下方连接有抛光棒（10），所述抛光平台（11）通过第一转轴（13）与电机（16）相互连接，且抛光平台（11）位于桌槽（2）内，所述抛光垫（12）位于抛光平台（11）上方，所述第一转轴（13）通过传动带（14）与第二转轴（19）相互连接，且传动带（14）位于皮带箱（15）内，所述皮带箱（15）位于抛光桌（1）的下方，所述支撑架（17）位于抛光桌（1）下方，且支撑架（17）上设置有连接杆（18）。

【技术特征摘要】
1.一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌（1）、连接臂（6）、抛光平台（11）、抛光垫（12）和支撑架（17），其特征在于：所述抛光桌（1）上方设置有桌槽（2），且抛光桌（1）与固定板（3）相互连接，所述固定板（3）正面设置有滑槽（4），且滑槽（4）的一头安装有滑槽侧盖（5），所述连接臂（6）通过滑槽（4）与固定板（3）相互连接，且连接臂（6）与伸缩杆（7）相互连接，所述伸缩杆（7）通过锁紧旋钮（8）与伸缩套筒（9）相互连接，且伸缩套筒（9）下方连接有抛光棒（10），所述抛光平台（11）通过第一转轴（13）与电机（16）相互连接，且抛光平台（11）位于桌槽（2）内，所述抛光垫（12）位于抛光平台（11）上方，所述第一转轴（13）通过传动带（14）与第二转轴（19）相互连接，且传动带（14）位于皮带箱（15）内，所述皮带箱（15）位于抛光桌（1）的下方，所述支撑架（17）...

【专利技术属性】
技术研发人员：章建群，
申请(专利权)人：江西现代职业技术学院，
类型：新型
国别省市：江西,36