显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本公开涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括在衬底基板上由像素界定层隔开的多个子像素，每个子像素包括：发光层；第一电极层，位于所述发光层面向所述衬底基板一侧，包括由间隙隔开的多个电极，其中，所述间隙位于所述衬底基板与所述像素界定层之间；和第二电极层，位于所述发光层远离所述衬底基板一侧。

Display Substrate and Its Preparation Method and Display Device

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本公开涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的快速发展和广泛应用，显示基板作为显示装置的重要基础，受到了越来越多的关注。对于高PPI(像素/英寸，PixelsPerInch)显示装置，例如VR(虚拟现实，VirtualReality)和AR(增强现实，AugmentedReality)这种对PPI要求非常高(>2000)的微显示产品，由于像素和像素之间的间距较近(通常小于1微米)，像素之间容易产生串扰。所谓串扰即当一个像素加载驱动电压或电流点亮时，会造成相邻像素甚至同行同列像素微弱发光。相关技术在像素的阳极之间填充像素界定层，以降低由于阳极之间的间距较近所导致的串扰。
技术实现思路
为此，本公开提出一种能够有效降低像素之间串扰的技术方案。根据本公开实施例的第一方面，提供了一种显示基板，包括在衬底基板上由像素界定层隔开的多个子像素，每个子像素包括：发光层；第一电极层，位于所述发光层面向所述衬底基板一侧，包括由间隙隔开的多个电极，其中，所述间隙位于所述衬底基板与所述像素界定层之间；和第二电极层，位于所述发光层远离所述衬底基板一侧。可选地，所述间隙填充有气体。可选地，所述气体是空气或氮气。根据本公开实施例的第二方面，提供了一种显示装置，包括前述任一实施例的显示基板。根据本公开实施例的第三方面，提供了一种显示基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成第一电极层，所述第一电极层包括由间隙隔开的多个电极，并在牺牲基板上形成塑性材料层；压合所述衬底基板与所述牺牲基板，使所述塑性材料层与所述多个电极贴合；移除所述牺牲基板；和图案化所述塑性材料层，使得所述多个电极被暴露且所述间隙位于所述塑性材料层与所述衬底基板之间。可选地，所述制备方法还包括：在图案化后的塑性材料层上依次形成发光层和第二电极层。可选地，所述塑性材料是热塑性材料。可选地，利用热压来压合所述衬底基板与所述牺牲基板。可选地，在空气或氮气氛围中压合所述衬底基板与所述牺牲基板。可选地，在牺牲基板上形成塑性材料层包括：在所述牺牲基板上形成牺牲层；和在所述牺牲层上形成所述塑形材料层。可选地，利用激光剥离移除所述牺牲层和所述牺牲基板。可选地，利用纳米压印图案化所述塑性材料层。在上述实施例中，通过在显示基板的电极之间引入间隙，可以将电极的寄生电容减小，从而显著减小像素之间的串扰电流，提高显示质量。通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。附图说明构成说明书的一部分的附图描述了本公开的实施例，并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。参照附图，根据下面的详细描述，可以更加清楚地理解本公开，其中：图1是相关技术的阳极结构示意图；图2是示意性地示出根据本公开一些实施例的显示基板的结构示意图；图3A是示意性地示出根据本公开一些实施例的显示基板的制备方法的流程图。图3B是示意性地示出根据本公开另一些实施例的显示基板的制备方法的流程图；图3C是示意性地示出根据本公开又一些实施例的显示基板的制备方法的流程图；图4是示意性地示出根据本公开一些实施例在形成第一电极层后的结构示意图；图5A是示意性地示出根据本公开一些实施例在形成塑形材料层后的结构示意图；图5B是示意性地示出根据本公开另一些实施例在形成塑形材料层后的结构示意图；图6A是示意性地示出根据本公开一些实施例在压合后的结构示意图；图6B是示意性地示出根据本公开另一些实施例在压合后的结构示意图；图7是示意性地示出根据本公开一些实施例在移除牺牲基板后的结构示意图；图8是示意性地示出根据本公开一些实施例在图案化塑形材料层后的结构示意图。应当明白，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。此外，相同或类似的参考标号表示相同或类似的构件。具体实施方式现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。对示例性实施例的描述仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。本公开可以以许多不同的形式实现，不限于这里所述的实施例。提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分、表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“包括”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。在本公开中，当描述到特定元件位于第一元件和第二元件之间时，在该特定元件与第一元件或第二元件之间可以存在居间元件，也可以不存在居间元件。本公开使用的所有术语(包括技术术语或者科学术语)与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。图1是相关技术的阳极结构示意图。如图1所示，像素界定层PDL填充在阳极AL之间。PDL通常是树脂材料，其介电常数较大，在2.7～6之间。下面以阳极是金属电极板为例，分析阳极之间的寄生电容。寄生电容可以表示为C＝εs/d，ε是电极板之间介质的介电常数，s是电极板的面积，d是电极板之间的间距。对于微显示产品而言，阳极之间的间距d较小，通常小于1微米，这导致C较大。由于像素之间的串扰电流I与寄生电容C成正比，因此C越大，I越大，即串扰越严重。为了解决上述问题，本公开提出一种通过减小介电常数ε来减小电极之间的寄生电容C，从而有效降低像素之间的串扰的技术方案。图2是示意性地示出根据本公开一些实施例的显示基板的结构示意图。如图2所示，显示基板包括在衬底基板1上的多个子像素10。多个子像素10由像素界定层20隔开。每个子像素10包括发光层200和分别位于发光层200两侧的第一电极层100和第二电极层300。在一些实施例中，像素界定层20包括塑性材料，例如聚酰亚胺(PI)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)等高分子材料。第一电极层100位于发光层200面向衬底基板1一侧。第一电极层100包括多个电极110，多个电极110由间隙120隔开。间隙120也位于衬底基板1与像素界定层220之间。从图2可以看出，相邻的电极110、像素界定层20与衬底基板1所限定的间隙120为空腔。间隙或空腔限定出未被固体或液体占用的空间。间隙可以是真空，也可以填充有气体。真空的介电常数最小，为1。诸如氢、氦、氧、氮、氩等气体的介电常数也较小，接近1。在一些实施例中，间隙中的气体是空气。空气作为氢、氧、氮等多种气体的混合物，其介电常数也接近1，远小于像素界定层的介电常数。由于电极之间的寄生电容与其间介质的介电常数正相关，例如成正比，因此，电极之间填充有空气能够有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括在衬底基板上由像素界定层隔开的多个子像素，每个子像素包括：发光层；第一电极层，位于所述发光层面向所述衬底基板一侧，包括由间隙隔开的多个电极，其中，所述间隙位于所述衬底基板与所述像素界定层之间；和第二电极层，位于所述发光层远离所述衬底基板一侧。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括在衬底基板上由像素界定层隔开的多个子像素，每个子像素包括：发光层；第一电极层，位于所述发光层面向所述衬底基板一侧，包括由间隙隔开的多个电极，其中，所述间隙位于所述衬底基板与所述像素界定层之间；和第二电极层，位于所述发光层远离所述衬底基板一侧。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述间隙填充有气体。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述气体是空气或氮气。4.一种显示装置，其特征在于，包括：根据权利要求1至3中任一项所述的显示基板。5.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成第一电极层，所述第一电极层包括由间隙隔开的多个电极，并在牺牲基板上形成塑性材料层；压合所述衬底基板与所述牺牲基板，使所述塑性材料层与所述多个电极贴合；移除所述牺牲基板；和图案化所述塑性材料层，使得...

【专利技术属性】
技术研发人员：王灿，张粲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11