黑色矩阵及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种黑色矩阵及其制备方法、显示面板，黑色矩阵采用一种树脂组合物制成，该树脂组合物包括：螺吡喃衍生物、粘合树脂、光引发剂、可聚合单体、遮光材料、助剂与溶剂，该螺吡喃衍生物的分子结构式为:

Black Matrix, Its Preparation Method and Display Panel

【技术实现步骤摘要】
黑色矩阵及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种黑色矩阵及其制备方法、显示面板。
技术介绍
目前，在薄膜晶体管液晶显示面板中的CF(ColorFilter，彩色滤光片)基板上设置有BM(BlackMatrix，黑色矩阵)，用于阻止像素之间混色或CF基板边缘漏光。随着市场对产品高性能化要求，BM线宽越来越窄，也就要求BM的光学密度值的越来越高，而一般是通过在BM中增加碳的含量来提升BM的光学密度值。但是，BM线宽的减小以及BM中碳的含量的增加会导致薄膜晶体管液晶显示面板中的BM与基板、框胶之间的附着力降低，进而导致气泡进入面板，引起面板品质不良。综上所述，有必要提供一种高品质的黑色矩阵及其制备方法、显示面板。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种黑色矩阵及其制备方法、显示面板，通过在制备黑色矩阵的树脂组合物中添加螺吡喃衍生物，该螺吡喃衍生物发生结构异构后可以驱动聚合物链和掺杂分子的重排，从而消除了黑色矩阵与基板之间的间隙，提高了显示面板的良品率。本专利技术实施例提供一种黑色矩阵，所述黑色矩阵采用一种树脂组合物制成，所述树脂组合物包括螺吡喃衍生物，所述螺吡喃衍生物的分子结构式为:其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。在一实施例中，所述树脂组合物还包括：粘合树脂，所述粘合树脂在所述树脂组合物中的质量百分比5～15％；光引发剂，所述光引发剂在所述树脂组合物中的质量百分比0.01～2％；可聚合单体，所述可聚合单体在所述树脂组合物中的质量百分比0.01～1％；遮光材料，所述遮光材料在所述树脂组合物中的质量百分比5～12％；助剂，所述助剂在所述树脂组合物中的质量百分比0～0.5％；溶剂，所述溶剂在所述树脂组合物中的质量百分比70～85％；其中所述螺吡喃衍生物在所述树脂组合物中的质量百分比1～5％。在一实施例中，所述粘合树脂包括多官能基丙烯酸类树脂，所述官能基包括不饱和双键、环氧基、羟基、羧基中的至少一种。在一实施例中，所述光引发剂包括苯乙酮类化合物、咪唑类化合物、二苯酮类化合物、苯偶姻类化合物、酰基氧化膦衍生物中的至少一种。在一实施例中，所述可聚合单体包括具有不饱和双键结构的苯乙烯、丙烯酸脂或甲基丙烯酸脂。在一实施例中，所述助剂包括附着助剂和流平助剂，所述附着助剂包括硅烷偶联剂。在一实施例中，所述溶剂包括四氢呋喃、环己酮、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇单甲基乙基乙酸酯、丙酮、乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇丁醚醋酸酯乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、1，4-二氧六环、甲基乙基酮、甲基异丁酮、甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、甲苯、二甲苯、乙苯、二甲亚砜、二甲基乙酰胺中的至少一种。在一实施例中，所述黑色矩阵的组成材料包括螺吡喃衍生物的结构异构体，所述螺吡喃衍生物的结构异构体的分子结构为：其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。本专利技术实施例还提供一种黑色矩阵的制备方法，包括：提供粘合树脂、光引发剂、可聚合单体、遮光材料、螺吡喃衍生物、助剂、溶剂；将所述粘合树脂、光引发剂、可聚合单体、遮光材料、螺吡喃衍生物和助剂与所述溶剂混合，形成溶液；将所述溶液涂布于基板表面，形成一层薄膜；将所述薄膜进行刻蚀，形成黑色矩阵，所述黑色矩阵的组成材料包括螺吡喃衍生物的结构异构体，所述螺吡喃衍生物的结构异构体的分子结构为：其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。本专利技术实施例还提供一种显示面板，所述显示面板包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板以及设置在所述第二基板上的靠近所述第一基板的黑色矩阵；其中，所述黑色矩阵的组成材料包括螺吡喃衍生物的结构异构体，所述螺吡喃衍生物的结构异构体的分子结构为：其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。本专利技术提供了一种黑色矩阵及其制备方法、显示面板，该树脂组合物包括分子结构式为的螺吡喃衍生物，其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。本专利技术中该螺吡喃衍生物发生结构异构后生成的螺吡喃衍生物的结构异构体可以驱动聚合物链和掺杂分子的重排，消除了黑色矩阵与基板之间的间隙，提高了显示面板的良品率。附图说明下面通过附图来对本专利技术进行进一步说明。需要说明的是，下面描述中的附图仅仅是用于解释说明本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种黑色矩阵的制备方法的流程图。图2为本专利技术实施例提供的另一种黑色矩阵的制备方法的流程图。图3为本专利技术实施例提供的又一种黑色矩阵的制备方法的流程图。图4为本专利技术实施例提供的再一种黑色矩阵的制备方法的流程图。图5为本专利技术实施例提供的显示面板的截面结构的示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“靠近”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，其中，“上”只是表面在物体上方，具体指代正上方、斜上方、上表面都可以，只要居于物体水平之上即可，“靠近”则是指相比较而言，与目标距离更小的一侧，以上方位或位置关系仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。另外，还需要说明的是，附图提供的仅仅是和本专利技术关系比较密切的结构和/或步骤，省略了一些与专利技术关系不大的细节，目的在于简化附图，使专利技术点一目了然，而不是表明实际中装置和/或方法就是和附图一模一样，不作为实际中装置和/或方法的限制。本专利技术提供一种黑色矩阵，所述黑色矩阵包括一种树脂组合物。本专利技术提供所述的树脂组合物，所述树脂组合物包括螺吡喃衍生物、粘合树脂、光引发剂、可聚合单体、遮光材料、助剂与溶剂。其中，所述粘合树脂在所述树脂组合物中的质量百分比为5～15％，所述光引发剂在所述树脂组合物中的质量百分比为0.01～2％，所述可聚合单体在所述树脂组合物中的质量百分比为0.01～1％，所述遮光材料在所述树脂组合物中的质量百分比为5～12％，所述螺吡喃衍生物在所述树脂组合物中的质量百分比为1～5％，所述助剂在所述树脂组合物中的质量百分比为0～0.5％，所述溶剂在所述树脂组合物中的质量百分比为70～85％。特别的，所述螺吡喃衍生物的分子结构式为：其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3；所述螺吡喃衍生物在光照的条件下可以发生结构异构，生成的螺吡喃衍生物的结构异构体的分子结构式为：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种黑色矩阵，所述黑色矩阵采用一种树脂组合物制成，其特征在于，所述树脂组合物包括螺吡喃衍生物，所述螺吡喃衍生物的分子结构式为:

【技术特征摘要】
1.一种黑色矩阵，所述黑色矩阵采用一种树脂组合物制成，其特征在于，所述树脂组合物包括螺吡喃衍生物，所述螺吡喃衍生物的分子结构式为:其中，所述R为：-CnH2n+1、-CmH2mOH、-Ar或者-Ar-CHO，n取值为1～20，m取值为1～3。2.如权利要求1所述的黑色矩阵，其特征在于，所述树脂组合物还包括：粘合树脂，所述粘合树脂在所述树脂组合物中的质量百分比5～15％；光引发剂，所述光引发剂在所述树脂组合物中的质量百分比0.01～2％；可聚合单体，所述可聚合单体在所述树脂组合物中的质量百分比0.01～1％；遮光材料，所述遮光材料在所述树脂组合物中的质量百分比5～12％；助剂，所述助剂在所述树脂组合物中的质量百分比0～0.5％；溶剂，所述溶剂在所述树脂组合物中的质量百分比70～85％；其中所述螺吡喃衍生物在所述树脂组合物中的质量百分比1～5％。3.如权利要求2所述的黑色矩阵，其特征在于，所述粘合树脂包括多官能基丙烯酸类树脂，所述官能基包括不饱和双键、环氧基、羟基、羧基中的至少一种。4.如权利要求2所述的黑色矩阵，其特征在于，所述光引发剂包括苯乙酮类化合物、咪唑类化合物、二苯酮类化合物、苯偶姻类化合物、酰基氧化膦衍生物中的至少一种。5.如权利要求2所述的黑色矩阵，其特征在于，所述可聚合单体包括具有不饱和双键结构的苯乙烯、丙烯酸脂或甲基丙烯酸脂。6.如权利要求2所述的黑色矩阵，其特征在于，所述助剂包括附着助剂和流平助剂，所述附着助剂包括硅烷偶联剂。7.如权利要求2所述的黑色矩阵，其特征在于，所述溶剂包括四氢呋喃、环己酮、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基...

【专利技术属性】
技术研发人员：张霞，邵源，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44