一种双台面雕刻机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置，本实用新型专利技术的外罩能够防止雕刻过程中产生的烟尘飞扬，通过进风口和出风口能够有效过滤带有烟尘的空气，同时雕刻过程中，大块的废料可从雕刻平台的支架之间或支架与机架之间掉落至废料箱进行收集，设计更为合理，利于提高除尘和集废料效率，除尘效果更佳。

A Double Table Carving Machine

【技术实现步骤摘要】
一种双台面雕刻机
本技术涉及雕刻机加工
，特别是涉及一种双台面雕刻机。
技术介绍
随着社会的发展，智能数控雕刻机已取代人工雕刻，应用非常广泛，现有的多数雕刻机采用开放式雕刻，在雕刻时不能很好的起到防尘作用，对操作人员的健康以及周围环境带来很大影响。中国技术专利说明书CN206841034U公开一种CNC三轴雕刻机，其包括加工平台、横向驱动组件、支架、纵向驱动组件、滑座、升降驱动组件及雕刻头，但其在雕刻过程中，防尘效果不佳，大量的粉尘不仅影响生产车间的环境，而且会影响雕刻精度。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术提供一种双台面雕刻机，其设计合理，除尘效果佳。为解决上述目的，本技术采用的如下技术方案。一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置。作为本技术的进一步方案，所述机架装设有集尘框，集尘框围设于雕刻平台，集尘框与废料箱连通，集尘框的内径从上至下逐渐减小。作为本技术的进一步方案，雕刻平台设有两组，两组雕刻平台下方分别装设有所述废料箱。作为本技术的进一步方案，外罩设有活动门，所述活动门上嵌设有若干个亚克力透明窗。作为本技术的进一步方案，外罩两侧分别嵌设有若干个亚克力透明窗。本技术的有益效果如下：在实际应用过程中，外罩能够防止雕刻过程中产生的烟尘飞扬，通过进风口和出风口能够有效过滤带有烟尘的空气，同时雕刻过程中，大块的废料可从雕刻平台的支架之间或支架与机架之间掉落至废料箱进行收集，设计更为合理，利于提高除尘和集废料效率，除尘效果更佳。附图说明图1为本技术的立体结构示意图；图2为本技术的打开活动门的结构示意图。附图标记说明：1.机架、2.驱动模组、3.雕刻机构、4.雕刻平台、41.承载支架、5.外罩、51.活动门、52.亚克力透明窗、53.进风口、54.出风口、6.废料箱、7.集尘框、8.中空区域。具体实施方式下面将结合附图对本技术作进一步的说明。参考图1至图2，一种双台面雕刻机，包括机架1、装设于机架1的驱动模组2、与驱动模组2连接的雕刻机构3和用于承载待加工型材的雕刻平台4，驱动模组2可带动雕刻机构3沿X/Y/Z方向移动，还包括外罩5和废料箱6，雕刻平台4主要由至少两条间隔平行布置的承载支架41构成，至少两条承载支架41与机架1之间形成中空区域8，废料箱6设于雕刻平台4下方，外罩5上方开设有进风口53和出风口54，进风口53和出风口54分别连通至除尘装置，在实际应用过程中，外罩5能够防止雕刻过程中产生的烟尘飞扬，通过进风口53和出风口54能够有效过滤带有烟尘的空气，同时雕刻过程中，大块的废料可从雕刻平台4的支架之间或支架与机架1之间掉落至废料箱6进行收集，设计更为合理，利于提高除尘和集废料效率，除尘效果更佳。图2示出，本实施例的所述机架1装设有集尘框7，集尘框7围设于雕刻平台4，集尘框7与废料箱6连通，集尘框7的内径从上至下逐渐减小，利于废料或灰尘准确掉落至废料箱6内，设计合理，使用方便。本实施例的雕刻平台4设有两组，两组雕刻平台4下方分别装设有所述废料箱6，如此，本技术能够进行多组型材的雕刻加工，生产效率更高。参照图1和图2，本实施例的外罩5设有活动门51，所述活动门51上嵌设有若干个亚克力透明窗52，外罩5两侧分别嵌设有若干个亚克力透明窗52，透过亚克力透明窗52能够观察到内部的工作情况，设计更为合理。以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，其特征在于，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置。

【技术特征摘要】
1.一种双台面雕刻机，包括机架、装设于机架的驱动模组、与驱动模组连接的雕刻机构和用于承载待加工型材的雕刻平台，驱动模组可带动雕刻机构沿X/Y/Z方向移动，其特征在于，还包括外罩和废料箱，雕刻平台主要由至少两条间隔且平行布置的承载支架构成，至少两条承载支架与机架之间形成中空区域，废料箱设于雕刻平台下方，外罩上方开设有进风口和出风口，进风口和出风口分别连通至除尘装置。2.根据权利要求1所述的一种双台面雕刻机，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：李鑫，
申请(专利权)人：东莞市新法拉数控设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44