一种OVD沉积系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种OVD沉积系统，该装置包括沉积罩、芯棒、排气系统和至少一沉积喷灯组，所述沉积罩包括左右间隔设置的第一沉积罩和第二沉积罩，所述第一沉积罩与第二沉积罩形成沉积通道，所述芯棒设于所述沉积通道中并可绕自身轴向旋转，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒两侧的喷灯，每一所述沉积均用于向处于旋转中的所述芯棒喷射沉积料，所述排气系统包括与沉积通道的下端连通的排气通道，用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。本实用新型专利技术的目的在于提供的OVD沉积系统，通过将传统沉积装置的上下结构转变为左右结构，解决了沉积过程中从沉积罩上剥落的碎片落到预制棒上的问题，实用性强。

An OVD Deposition System

【技术实现步骤摘要】
一种OVD沉积系统
本技术涉及光纤预制棒研发和制造
，具体涉及一种OVD沉积系统。
技术介绍
在通信光纤的制备过程中，光纤预制棒的制备是其重要内容之一，外气相沉积法OVD是制作光纤预制棒的其中一种工艺，主要步骤为首先将原料掺杂剂以气态的形式送入喷灯，使其在火焰中发生化学反应，生成二氧化硅SiO2(石英)玻璃微粒粉尘，然后经喷灯喷出，沉积在芯棒的外表层，一定时间后，芯棒逐渐形成具有一定尺寸的预制棒，最后，将预制棒在高温下脱水并烧结成透明的实心玻璃棒，即获得所需的光纤预制棒。一般预制棒的沉积过程在沉积罩中进行，沉积罩呈上下结构，芯棒位于沉积罩的中间，而在实际操作过程中，沉积罩的内壁往往由于长时间的高温容易产生劣化而出现缝隙，继而导致碎片剥落，而位于芯棒上方的沉积罩剥落的碎片可能会落在正在沉积的预制棒的表面，影响预制棒的质量。而随着目前母材的大型化，增加了制造的时间，继而增加了沉积罩内壁的粉末附着量和受热时间，导致沉积罩的劣化更加显著，因此，产生的碎片可能会更多，严重影响了预制棒的质量。
技术实现思路
针对现有技术中存在的缺陷，本技术的目的在于提供一种OVD沉积系统，通过将传统沉积装置的上下本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OVD沉积系统，其特征在于，其包括：沉积罩(1)，其包括左右间隔设置的第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)，所述第一沉积罩(10)与第二沉积罩(11)形成沉积通道；横向设于所述沉积通道内并可绕自身轴向旋转的芯棒(2)；至少一沉积喷灯组，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒(2)两侧的喷灯(30)，每一所述喷灯(30)均用于向所述芯棒(2)喷射沉积料；位于所述沉积罩(1)下方的排气系统(4)，所述排气系统(4)包括与所述沉积通道下端连通的排气通道(40)，所述排气通道(40)用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。

【技术特征摘要】
1.一种OVD沉积系统，其特征在于，其包括：沉积罩(1)，其包括左右间隔设置的第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)，所述第一沉积罩(10)与第二沉积罩(11)形成沉积通道；横向设于所述沉积通道内并可绕自身轴向旋转的芯棒(2)；至少一沉积喷灯组，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒(2)两侧的喷灯(30)，每一所述喷灯(30)均用于向所述芯棒(2)喷射沉积料；位于所述沉积罩(1)下方的排气系统(4)，所述排气系统(4)包括与所述沉积通道下端连通的排气通道(40)，所述排气通道(40)用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。2.如权利要求1所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)尺寸一致且左右对称。3.如权利要求2所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)靠近所述芯棒(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪涛，
申请(专利权)人：藤仓烽火光电材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42