一种砷化镓多结太阳电池及制作方法技术

技术编号:21836696 阅读:64 留言:0更新日期:2019-08-10 19:33
本发明专利技术公开了一种砷化镓多结太阳电池及制作方法,该砷化镓多结太阳电池中,第一隧穿结和所述第二隧穿结的结构相同,通过在n型GaInP层和p型AlGaAs层之间插入一个GaAs薄层,与GaInP层和AlGaAs层相比,GaAs层具有更低的电子有效质量,更高的掺杂效率,因此可以获得更薄的耗尽区宽度和更短的隧穿深度,其相比GaInP层和AlGaAs层更低的带隙也会形成三明治的量子阱结构减少隧穿深度,最终获得更高的峰值隧穿电流密度。此外,GaAs层还可以作为过渡层,有效抑制P原子和掺杂剂向AlGaAs层的扩散,可以获得组分陡峭的界面,改善隧穿结的隧穿电流和热稳定性。

A Gallium Arsenide Multi-junction Solar Cell and Its Fabrication Method

【技术实现步骤摘要】
一种砷化镓多结太阳电池及制作方法
本专利技术涉及太阳电池
,更具体地说,涉及一种砷化镓多结太阳电池及制作方法。
技术介绍
太阳电池用于将太阳能直接转换为电能,是一种最有效的清洁能源形势。砷化镓多结太阳电池凭借其较高的转换效率、优良的抗辐射性能、稳定的温度特性和易于规模化生产等优势,已全面取代Si太阳电池成为空间飞行器的主要电源。在砷化镓多结太阳电池结构中,引入隧穿结可实现子电池间的串联,解决子电池直接相连导致的电池反偏,实现光生载流子的良好输运,提高了多结电池的转换效率。理想隧穿结应具有高晶体质量、高掺杂浓度和薄隧穿结厚度等特点;具有至少比下一结子电池更宽的带隙,降低隧穿结对入射光吸收造成的光辐照电流损失;具有高峰值的隧穿电流,满足聚光砷化镓多结太阳电池大电流输运的要求;具有较低的串联电阻,以减小其对电池开路电压的损耗等。1980年美国北卡罗来纳州立大学(NCSU)的Bedair等人第一次将隧穿结在砷化镓多结太阳电池中应用,采用的是n-AlGaAs/p-AlGaAs结构。由于减少隧穿结吸光的要求,同样来自该机构的Jung等人在1993年专利技术了n-GaInP/p-AlGaAs本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述砷化镓多结太阳电池包括:衬底;依次设置在所述衬底上的第一子电池、第一隧穿结、DBR反射层、第二子电池、第二隧穿结和第三子电池;其中,所述第一隧穿结和所述第二隧穿结的结构相同,所述第一隧穿结包括在第一方向上依次设置的n型GaInP层、GaAs层和p型AlGaAs层;所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述第一子电池。

【技术特征摘要】
1.一种砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述砷化镓多结太阳电池包括:衬底;依次设置在所述衬底上的第一子电池、第一隧穿结、DBR反射层、第二子电池、第二隧穿结和第三子电池;其中,所述第一隧穿结和所述第二隧穿结的结构相同,所述第一隧穿结包括在第一方向上依次设置的n型GaInP层、GaAs层和p型AlGaAs层;所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述第一子电池。2.根据权利要求1所述的砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述第一子电池为Ge底电池。3.根据权利要求1所述的砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述第二子电池为InGaAs中电池。4.根据权利要求1所述的砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述第三子电池为(Al)GaInP顶电池。5.根据权利要求1所述的砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述n型GaInP层的掺杂元素为Si或Se或Te;所述n型GaInP层的掺杂浓度为5E18-5E19,包括端点值。6.根据权利要求1所述的砷化镓多结太阳电池,其特征在于,所述p型AlGa...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴真龙韩效亚张策张海林王玉
申请(专利权)人:扬州乾照光电有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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