一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NOR FLASH存储器制造技术

技术编号:21812152 阅读:48 留言:0更新日期:2019-08-07 16:26
本实用新型专利技术公开了一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NOR FLASH存储器,四片NOR FLASH芯片依次堆叠设置于引线框架上,上端三层NOR FLASH芯片上表层设有接NOR FLASH芯片引脚的铜箔电引层,四片NOR FLASH芯片四周外侧设有灌封胶层和外部金属镀化层引线,上端三层NOR FLASH芯片上的铜箔电引层与外部金属镀化层引线连通,最下端的NOR FLASH芯片的引脚直接与外部金属镀化层引线连通,引线框架上设有垫片、外引线,外引线连通至外部金属镀化层引线,结构上采用三维堆叠结构,将芯片与互连铜箔在高度方向交替堆叠,形成堆叠体,可避免在平面上进行并置所有NOR FLASH单片器件,在与单层芯片所占面积接近的情况下实现了容量的扩充,显著减少存储器器件占用PCB板的平面空间,利于系统的小型化。

A NOR FLASH Memory with 16M*16bit Capacity and Non-airtight Three-Dimensional Packaging

【技术实现步骤摘要】
一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器
本技术涉及存储设备,具体涉及一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器。
技术介绍
编码型快闪存储器(NORFLASH)是计算机中的重要部件之一,是CPU能直接寻址的存储空间,用于存储代码和数据,对计算机以及其它电子设备的性能有重大影响。对于计算机尺寸要求严格的应用环境,如导弹、船舶、卫星等应用环境,内存部位所占PCB板的面积要求缩小,迫切需要一款能够按照用户实际需求容量及位宽的进行小型化,并且保存NORFLASH原有特点的存储器模块。近年来,随着技术的高速发展及国家战略安全的需要,对弹载系统的国产化、小型化和综合打击性能提出了更高的需求。系统迫切需要体积小、综合抗辐照能力强的编码型快闪存储器。很多电子产品都需要使用NORFLASH器件,而且电子产品处理数据量越来越大,要求存储空间越来越大。各种NORFLASH的容量有限,要实现大容量势必要在PCB板上放置多片NORFLASH器件,这些器件会占用相当大的面积,引起PCB板面积的增大。越来越多的电子产品对小型化的要求程度越来越高,PCB板的面积不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NOR FLASH存储器,其特征在于,包括引线框架(3)和四片4M×16bit的NOR FLASH芯片(1),四片NOR FLASH芯片(1)依次堆叠设置于引线框架(3)上,最下端一层NOR FLASH芯片下表层设有垫片(8),上端三层NOR FLASH芯片上表层设有接NOR FLASH芯片引脚的铜箔电引层(2),相邻两个NOR FLASH芯片之间通过固态胶膜(4)粘接,四片NOR FLASH芯片(1)四周外侧设有灌封胶层(5),灌封胶层(5)外侧设有外部金属镀化层引线(6),上端三层NOR FLASH芯片(1)上的铜箔电引层(2)与外部金属镀化...

【技术特征摘要】
1.一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器,其特征在于,包括引线框架(3)和四片4M×16bit的NORFLASH芯片(1),四片NORFLASH芯片(1)依次堆叠设置于引线框架(3)上,最下端一层NORFLASH芯片下表层设有垫片(8),上端三层NORFLASH芯片上表层设有接NORFLASH芯片引脚的铜箔电引层(2),相邻两个NORFLASH芯片之间通过固态胶膜(4)粘接,四片NORFLASH芯片(1)四周外侧设有灌封胶层(5),灌封胶层(5)外侧设有外部金属镀化层引线(6),上端三层NORFLASH芯片(1)上的铜箔电引层(2)与外部金属镀化层引线(6)连通,最下端的NORFLASH芯片的引脚直接与外部金属镀化层引线(6)连通,引线框架(3)上设有垫片(8)、外引线(7),外引线(7)连通至外部金属镀化层引线(6)。2.根据权利要求1所述的一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器,其特征在于,外部金属镀化层引线(6)外侧设有包覆层。3.根据权利要求1所述的一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器,其特征在于,外引线(7)通过引线框架(3)上的插槽固定在引线框架(3)上。4.根据权利要求1所述的一种容量为16M×16bit的非气密三维封装NORFLASH存储器,其特征在于,由下至上依次堆叠的四层NORFLASH芯片,分别为第1层NORFLASH芯片、第2层NORFLASH芯片、第3层NORFLASH芯片和第4层NORFLASH芯片;上端三层NORFLASH芯片的数据线通过外部金属镀化层引线和铜箔电引层(2)连通至引出线...

【专利技术属性】
技术研发人员:李宗源余欢
申请(专利权)人:西安微电子技术研究所
类型:新型
国别省市:陕西,61

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