底座及电感器制造技术

本实用新型专利技术提供一种底座，用于承载电感器的磁环及线圈，所述底座包括基板及收容槽，所述收容槽由所述基板向下凹陷形成，且所述收容槽向下凹陷的深度大于所述基板的厚度，所述收容槽收容所述磁环，所述基板承载所述线圈。还提供一种包括所述底座的电感器。

Base and inductor

【技术实现步骤摘要】
底座及电感器
本技术涉及电源
，尤其涉及一种底座及具有该底座的电感器。
技术介绍
本部分旨在为权利要求书中陈述的本技术的具体实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。电感器是能够把电能转化为磁能而存储起来的元件，主要构件包括底座、线圈和磁芯，电感器的主要作用是阻止电流的变化。通常需要底座作为载体对线圈以及磁芯进行组装。现有技术中在对电感器对底座进行组装线圈及铜片时，经常因为底座高度太高造成电感器整体厚度较大。此外，底座的结构也较为复杂，导致组装不易。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供一种有效降低整体高度的底座及具有所述底座的电感器。一种底座，用于承载电感器的磁环及线圈，所述底座包括基板及收容槽，所述收容槽由所述基板向下凹陷形成，且所述收容槽向下凹陷的深度大于所述基板的厚度，所述收容槽收容所述磁环，所述基板承载所述线圈。较佳地，所述底座还包括支撑脚，所述基板呈长方体状，所述支撑脚呈圆柱体，所述支撑脚支撑所述基板一预定高度。较佳地，所述底座包括两个支撑脚，分别设置于所述基板的对角上。较佳地，所述底座还包括两个连接柱，分别设置于所述基板的两条长边的中部，所述连接柱呈圆柱体，所述连接柱支撑所述基板所述预定高度，并凸出于所述基板的上表面。较佳地，所述收容槽向下凹陷的深度小于所述支撑脚的高度。较佳地，所述收容槽设置有二圆弧坡及开口，所述二圆弧坡对称设置，以适应所述磁环，所述开口位于所述二圆弧坡之间。一种电感器，包括磁环、线圈及上述的底座。较佳地，所述磁环部分凹陷于所述基板的平面，所述线圈缠绕于所述磁环上，且线圈的下端承载于所述基板之上。较佳地，所述线圈包括对应设置的两个部分，每一部分包括一引脚，所述两个引脚分别连接至两个所述连接柱。较佳地，所述电感器还包括抵持块及盖板，所述线圈两个部分之间通过抵持块进行固定，每一所述引脚连接所述连接柱的位置盖设所述盖板。本技术提供的电感器中，所述底座包括向下凹陷形成的收容槽以承载所述磁环，使得磁环部分凹陷于所述基板的平面，从而降低了所述电感器的整体高度，提高了空间利用率高。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例/方式技术方案，下面将对实施例/方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例/方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术一实施方式提供的电感器的立体结构示意图。图2为图1所示的电感器的部分立体分解结构示意图。图3为本技术一实施方式提供的电感器的底座的立体结构示意图。图4为图3所示的电感器的底座的另一角度的立体结构示意图。主要元件符号说明电感器100底座10基板12支撑脚14连接柱16收容槽18圆弧坡182开口184磁环20线圈30引脚32抵持块42盖板44如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本技术。具体实施方式为了能够更清楚地理解本技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。请参阅图1及图2，图1为本技术一实施方式提供的电感器100的立体结构示意图，图2为所述电感器100的部分立体分解结构示意图。所述电感器100应用于电源及变压器领域中。所述电感器100包括底座10、磁环20及线圈30。进一步地，请参阅图3及图4，图3及图4分别为所述底座10的不同角度的立体结构示意图。所述底座10包括基板12、支撑脚14、连接柱16及收容槽18。所述基板12大致呈长方体状，并具有一定厚度。所述支撑脚14大致呈圆柱体。本实施例中，所述支撑脚14的数量为两个，分别设置于所述基板12的对角上。所述支撑脚14支撑所述基板12一预定高度。所述连接柱16大致呈圆柱体。本实施例中，所述连接柱16的数量为两个，分别设置于所述基板12的两条长边的中部。所述连接柱16支撑所述基板12所述预定高度，并凸出于所述基板12的上表面。所述收容槽18由所述基板12向下凹陷形成。所述收容槽18向下凹陷的深度大于所述基板12的厚度，但略小于所述支撑脚14的高度。本实施例中，所述收容槽18设置有二圆弧坡182及开口184。所述二圆弧坡182对称设置，以适应所述磁环20。所述开口184位于所述二圆弧坡182之间。所述磁环20容置于所述收容槽18内，且所述磁环20部分凹陷于所述基板12的平面，以使所述磁环20承载于收容槽18的整体高度降低。所述线圈30缠绕于所述磁环20上，且线圈30的下端可承载于所述基板12之上。所述线圈30包括对应设置的两个部分，每一部分包括一引脚32。所述线圈30两个部分之间通过抵持块42进行固定。所述两个引脚32分别连接至两个所述连接柱16。每一所述引脚32连接所述连接柱16的位置盖设有盖板44，并通过所述盖板44进行保护。所述磁环20及线圈30用于进行电压及电流变换。本技术实施方式中，所述底座10包括向下凹陷形成的收容槽18以承载所述磁环20，使得磁环20部分凹陷于所述基板12的平面，从而降低了所述电感器100的整体高度，提高了空间利用率高。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化涵括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，显然“包括”一词不排除其他单元或步骤，单数不排除复数。装置权利要求中陈述的多个装置也可以由同一个装置或系统通过软件或者硬件来实现。第一，第二等词语用来表示名称，而并不表示任何特定的顺序。最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本技术的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本技术技术方案的精神和范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种底座，用于承载电感器的磁环及线圈，其特征在于：所述底座包括基板及收容槽，所述收容槽由所述基板向下凹陷形成，且所述收容槽向下凹陷的深度大于所述基板的厚度，所述收容槽收容所述磁环，所述基板承载所述线圈。

【技术特征摘要】
1.一种底座，用于承载电感器的磁环及线圈，其特征在于：所述底座包括基板及收容槽，所述收容槽由所述基板向下凹陷形成，且所述收容槽向下凹陷的深度大于所述基板的厚度，所述收容槽收容所述磁环，所述基板承载所述线圈。2.如权利要求1所述的底座，其特征在于：所述底座还包括支撑脚，所述基板呈长方体状，所述支撑脚呈圆柱体，所述支撑脚支撑所述基板一预定高度。3.如权利要求2所述的底座，其特征在于：所述底座包括两个支撑脚，分别设置于所述基板的对角上。4.如权利要求3所述的底座，其特征在于：所述底座还包括两个连接柱，分别设置于所述基板的两条长边的中部，所述连接柱呈圆柱体，所述连接柱支撑所述基板所述预定高度，并凸出于所述基板的上表面。5.如权利要求4所述的底座，其特征在于：所述收容槽向下凹陷的深度小于所述支撑脚的高度。6.如权利要求5所述的底座，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘耀平，袁志军，
申请(专利权)人：深圳市京泉华科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44