一种沉积装置以及沉积方法制造方法及图纸

技术编号:21678830 阅读:35 留言:0更新日期:2019-07-24 12:56
本发明专利技术公开了一种沉积装置以及沉积方法。该沉积方法包括以下步骤:S1,混合第一气态反应物质和第一辅助气体得到第一混合物,混合第二气态反应物质和第二辅助气体得到第二混合物;S2,从一输出面将第一混合物与第二混合物相邻地输出至一基片的上方,输出面与基片之间形成反应区域,第一气态反应物质与第二气态反应物质在反应区域发生反应,生成的产物沉积于基片表面形成膜层。

A Deposition Device and Deposition Method

【技术实现步骤摘要】
一种沉积装置以及沉积方法
本专利技术涉及薄膜物质沉积
,尤其涉及一种沉积装置以及沉积方法。
技术介绍
原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处,但是,原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。电致发光二极管(OLED或QLED)相比于薄膜晶体管有源驱动液晶显示器具有自发光、对比度高、视角广、响应速度快、使用温度范围广以及可弯折性等优异的特性,被广泛认为是下一代显示的核心技术。但是由于电致发光二极管对水汽和氧气非常敏感,所以有效的封装技术对器件的产业化发展尤为关键。薄膜封装可以对刚性或柔性基板(如PEN、PES、PC、PET等)的器件进行封装,从而使器件向更薄的方向发展,并且可以实现柔性电致发光器件的可曲折性以及可卷绕性,为柔性显示技术带来了突破性进展。现有的电致发光器件薄膜封装中通常采用原子层沉积技术配合三甲基铝溶剂成膜氧化铝薄膜,用于阻隔外部水氧对电致发光器件的侵蚀。虽然氧化铝薄膜能够有效地阻隔水氧对器件的侵蚀,但是原子沉积技术沉积氧化铝薄膜速度很慢,消本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种沉积装置,其特征在于,包括第一混合管路,具有用于输入第一气态反应物质的入口一、用于输入第一辅助气体的入口二、用于混合所述第一气态反应物质与所述第一辅助气体的第一腔体,所述入口一和所述入口二与所述第一腔体连通;第二混合管路,具有用于输入第二气态反应物质的入口三、用于输入第二辅助气体的入口四、用于混合所述第二气态反应物质与所述第二辅助气体的第二腔体,所述入口三和所述入口四与所述第二腔体连通;至少一输送头,所述输送头包括与所述第一腔体连通的入口六、与所述第二腔体连通的入口五以及输出面,所述输出面包括与所述入口五连通的出口一以及与所述入口六连通的出口二,从而所述第一腔体内的第一混合物经过所述入...

【技术特征摘要】
1.一种沉积装置,其特征在于,包括第一混合管路,具有用于输入第一气态反应物质的入口一、用于输入第一辅助气体的入口二、用于混合所述第一气态反应物质与所述第一辅助气体的第一腔体,所述入口一和所述入口二与所述第一腔体连通;第二混合管路,具有用于输入第二气态反应物质的入口三、用于输入第二辅助气体的入口四、用于混合所述第二气态反应物质与所述第二辅助气体的第二腔体,所述入口三和所述入口四与所述第二腔体连通;至少一输送头,所述输送头包括与所述第一腔体连通的入口六、与所述第二腔体连通的入口五以及输出面,所述输出面包括与所述入口五连通的出口一以及与所述入口六连通的出口二,从而所述第一腔体内的第一混合物经过所述入口六并从所述出口二输出,所述第二腔体内的第二混合物经过所述入口五并从所述出口一输出,所述第一混合物和所述第二混合物适于发生反应,反应生成的产物适于沉积在设于所述输出面下方的基片表面。2.根据权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,每一所述输送头的所述出口一与所述出口二相邻。3.根据权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,还包括用于驱动所述输送头在水平方向和/或竖直方向移动的第一驱动装置。4.根据权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,还包括用于放置基片的载体以及用于驱动所述载体在水平方向和/或竖直方向移动的第二驱动装置,所述载体与所述输送头的所述输出面相对,优选地,所述载体为可加热的载体。5.根据权利要求1所述的沉积装置,其特征在于,所述第一混合管路还包括第一混合器,所述第一腔体通过所述第一混合器分别与所述入口一和所述入口二连通;所述第二混合管路还包括第二混合器,所述第二腔体通过所述第二混合器分别与所述入口三和所述入口四连通。6.根据权利要求1-5任一所述的沉积装置,其特征在于,还包括抽气管路以及与所述抽气管路连通的至少一排气通道,所述排气通道设于所述输送头的一侧,所述排气通道的排气口靠近所述输送头的所述输出面,优选地,所述排气口与所述输出面共面。7.根据权利要求6所述的沉积装置,其特征在于,所述出口一内侧的通道以及所述出口二内侧的通道设置为向所述排气口方向倾斜,优选地,所述出口一内侧的通道以及所述出口二内侧的通道相对于所述输出面的倾斜角度为60°。8.根据权利要求6所述的沉积装置,其特征在于,至少一所述排气通道的所述排气口处设置有软X射线装置,所述软X射线装置适于将其附近的气体离子化。9.根据权利要求6所述的沉积装置,其特征在于,包括若干个所述输送头以及若干个排气通道,多个所述输...

【专利技术属性】
技术研发人员:王兵
申请(专利权)人:纳晶科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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