温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种沉积装置以及沉积方法。该沉积方法包括以下步骤：S1，混合第一气态反应物质和第一辅助气体得到第一混合物，混合第二气态反应物质和第二辅助气体得到第二混合物；S2，从一输出面将第一混合物与第二混合物相邻地输出至一基片的上方，输出面...
该专利属于纳晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳晶科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。