一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法技术

本发明专利技术公开了一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法。所述方法包括：中频感应炉及喷雾快速冷凝装置进行喷雾制粉；对基体管进行除锈、除油和喷砂预处理；在预处理后的基体管上喷涂打底层；对真空喷涂腔体抽真空；真空喷涂稀土‑过渡金属粉末，制备稀土‑过渡金属旋转靶材。利用本发明专利技术制备的稀土‑过渡金属旋转靶材的尺寸不受限制，厚度可达到3～13mm，是大尺寸一体化靶材，克服了绑定拼接靶材容易引起的电弧放电和靶材黑化问题，另外喷涂是在真空保护气氛中进行的，靶材纯度高，克服了传统等离子喷涂工艺制备的靶材纯度低、致密度差、氧、氮含量高等问题。

Fabrication and Method of Rotating Target for Optical Communication and Magnetic Storage Coating

【技术实现步骤摘要】
一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法
本专利技术涉及一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材制备及其方法。
技术介绍
稀土-过渡金属(Gd,Tb,Dy-Fe,Co,Ge)靶材广泛应用于光通信、磁储存镀膜等领域，这就要求稀土-合金金属靶材具有高纯度、高密度、大尺寸一体化等优点。目前，主要使用真空熔炼和真空热压烧结的方法制备小尺寸的平面稀土-过渡金属靶材，靶材成分偏析，成膜质量差，此外，大尺寸的靶材是通过小尺寸靶材拼接绑定而成，铟焊料价格昂贵，导致靶材成本增加。另外，拼接绑定靶材存在缝隙，容易导致靶材在溅射过程中产生电弧放电，降低薄膜质量。另外，平面靶材的利用率低，只有20-30%；容易产生节瘤；而旋转靶材不仅利用率高（在于80-90%），而且能有效减少节瘤。随着光通信和磁储存镀膜技术的快速发展，迫切需要一种新的技术制备出高质量的稀土-过渡金属旋转溅射靶材。可控气氛热喷涂工艺制备靶材时，靶材始终处于惰性气体保护的氛围中，避免了靶材的氧化，降低了氧、氮含量，可有效的保证靶材的纯度。另一方面，粉末在热喷时，颗粒速度快（大于600m/s），高速颗粒冲击到基体表面产生剧烈的变形形成涂层，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材，其特征在于：所述旋转靶材厚度3～15mm，靶材相对密度≥97%，纯度≥99.99%，长度达到4000mm。

【技术特征摘要】
1.一种用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材，其特征在于：所述旋转靶材厚度3～15mm，靶材相对密度≥97%，纯度≥99.99%，长度达到4000mm。2.一种制备权利要求1中的用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、稀土-过渡金属粉末的制备：将纯度99.99%的稀土-过渡金属块按比例置于中频感应炉的石墨坩埚中加热；待合金完全熔化为液体后，加入精炼清渣剂，对溶液搅拌、除渣和精炼；然后加热至熔炼温度1580-1650℃并保温1-2小时；保温完成后，将合金溶液倒入雾化快速冷凝装置的坩埚中进行雾化制粉，制得的稀土-过渡金属粉末的平均尺寸D50为50微米；步骤二、对基体背管表面进行预处理，包括除锈、除油和喷砂预处理；步骤三、在预处理后的基体表面上喷涂打底层；步骤四、对真空喷涂腔体抽真空，充入保护气体；步骤五、采用真空等离子喷涂技术喷涂稀土-过渡金属，制备稀土-过渡金属旋转靶材。3.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤一中，稀土-过渡金属粉末为Tb20(Fe95Co5)80;Tb20(Fe85Co10Ge5)80；(DyTb)20(Fe95Co5)80;(DyTb)20(Fe90Co5Ge5)80；Dy20(Fe95Co5)80,Dy20(Fe90Co5Ge5)80中的一种或多种。4.如权利要求2所述的制备用于光通信和磁储存镀膜的旋转靶材的方法，其特征在于，步骤一中，中频感应炉参数为电流20A、频率30...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐从康，
申请(专利权)人：苏州康科斯柔性电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32