基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种过滤器的清洗干燥工艺及装置，具体涉及一种基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺及装置。将过滤器转移至微波干燥炉中；将进出口与微波干燥炉内设的进出气管道分别接上；启动微波电源进行加热，启动高压喷射气流，进行排气，关闭高压喷射气流，当过滤器表面温度低于35℃且超过10s时，干燥完成；关闭微波电源，排出微波干燥炉内的气体；当过滤器表面温度不高于30℃时，停止输入空气流，清洗干燥工艺完毕。本发明专利技术能有效去除过滤器和内部滤芯上的有机物残余，能延长过滤器使用寿命，效率高、干燥速度快、能耗低、安全性高、控温精度高，本发明专利技术同时提供其装置，结构简单，操作维护方便，基本免维护，适合工业化大生产。

Cleaning and drying process and device of filter based on microwave treatment

【技术实现步骤摘要】
基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺及装置
本专利技术涉及一种过滤器的清洗干燥工艺及装置，具体涉及一种基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺及装置。
技术介绍
2018年全球膜市场将达到44亿美元，用于半导体、平板显示和光伏市场工业清洗领域的膜是过滤器市场中最大的部分，该领域中膜应用于各种纯水的制备、用于清洗半导体芯片的纯净水、用于清洗硅晶圆的超净高纯化学品，以及用于机械化学抛光的抛光液等。在整个半导体产业，处于产业链最上游的半导体设备产业起着举足轻重的作用。在半导体设备市场中，据统计清洗工艺的次数占到了在整个芯片制造工艺步骤的三分之一，是芯片制造的重要环节。举个例子，假设一条月产能在10万片的DRAM产线，良率下降1％，将会导致企业一年3000-5000万美元的损失。所以企业为了提高良率，必然会采用更多的清洗次数。根据ICINSIGHT统计的2016-2020年全球晶圆产能报告显示，到2020年底，预期全球12寸晶圆厂总数达到117座。从2018下半年，中国大陆已经建成的的12英寸晶圆生产厂共有13座。目前国内产线总投资额为2230.5亿美元，按照半导体设备在晶圆制造产线70％、晶圆制造本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)将过滤器转移至微波干燥炉中；(2)将过滤器的进出口与微波干燥炉内设的进出气管道分别接上；(3)启动微波电源，进行加热，并利用红外温度传感器监控过滤器表面温度；(4)启动高压喷射气流，进行排气，并利用气体流量控制器监控气流情况；(5)关闭高压喷射气流，并利用红外温度传感器监控过滤器表面温度，当过滤器表面温度低于35℃且超过10s时，干燥完成；(6)干燥完成后，关闭微波电源，开启微波干燥炉下方排气口，从下方输入空气流，排出微波干燥炉内的气体；当过滤器表面温度不高于30℃时，停止输入空气流，清洗干燥工艺完毕；(7)将过滤器的...

【技术特征摘要】
1.一种基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)将过滤器转移至微波干燥炉中；(2)将过滤器的进出口与微波干燥炉内设的进出气管道分别接上；(3)启动微波电源，进行加热，并利用红外温度传感器监控过滤器表面温度；(4)启动高压喷射气流，进行排气，并利用气体流量控制器监控气流情况；(5)关闭高压喷射气流，并利用红外温度传感器监控过滤器表面温度，当过滤器表面温度低于35℃且超过10s时，干燥完成；(6)干燥完成后，关闭微波电源，开启微波干燥炉下方排气口，从下方输入空气流，排出微波干燥炉内的气体；当过滤器表面温度不高于30℃时，停止输入空气流，清洗干燥工艺完毕；(7)将过滤器的进出口与微波炉内设进出口管道分开，并将过滤器进出口封口保存。2.根据权利要求1所述的基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：步骤(3)中微波电源功率为2000W-5000W。3.根据权利要求1所述的基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：步骤(3)中加热时间为介于10分钟到60分钟之间。4.根据权利要求1所述的基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：步骤(3)中加热开始后，过滤器表面温度随时间升高，在60-120s达到稳定值60-99℃，根据红外温度传感器的回馈，温度稳定10-30s后，关掉微波电源，加热完成。5.根据权利要求1所述的基于微波处理的过滤器的清洗干燥工艺，其特征在于：步骤(4)中高压喷射气...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾杰，
申请(专利权)人：曾杰，
类型：发明
国别省市：新加坡,SG