【技术实现步骤摘要】
测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法
本专利技术涉及一种用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法，其包含测量在测量方向上穿透陶瓷或玻璃质材料主体的测量波的光学路径长度或信号传播时间。
技术介绍
由陶瓷或玻璃质材料制成的主体的化学性质取决于其预期用途。例如，其部分或全部由玻璃，特别是石英玻璃组成。这里的石英玻璃应理解为是指掺杂或未掺杂的二氧化硅玻璃，其SiO2含量至少为85％。玻璃是多孔的、透明的、不透明的、有色的，特别是它也可以是黑色的。或者主体部分或全部由陶瓷，特别是单组分陶瓷(例如AlN、BN、Si3N4或SiC)组成。由陶瓷或玻璃质材料制成的主体的几何形状也取决于预期用途。例如，其被用作光纤制造、灯具生产、化学设备工程或半导体生产中的组件或半成品，并且其例如以管、实心圆筒、板、法兰、环、块、灯泡、盖板、反射器、反射器载体、镜基片坯、透镜、载体架、钟、坩埚、保护罩、反应器和设备的形式可用。材料的物理和化学性质受到不希望的杂质和有意添加的掺杂剂的影响。除主要材料之外的这些杂质和掺杂剂在下文中也称为“成分”。石英玻璃中的成分例如是羟基(OH)、氯(Cl)，...
【技术保护点】
1.一种用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法，其包含测量在测量方向上穿透所述玻璃主体的测量波的光学路径长度或信号传播时间，其特征在于将覆盖在20到300千兆赫兹之间的频率范围的调制千兆赫兹辐射用作所述测量波。
【技术特征摘要】
2017.11.29 EP 17204532.0;2017.12.19 EP 17208482.41.一种用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法，其包含测量在测量方向上穿透所述玻璃主体的测量波的光学路径长度或信号传播时间，其特征在于将覆盖在20到300千兆赫兹之间的频率范围的调制千兆赫兹辐射用作所述测量波。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述主体由具有高硅酸含量的玻璃制成，特别是由石英玻璃制成，并且所述成分包含羟基、氢、金属氧化物和/或卤素，其中所述成分优选为氟。3.根据权利要求1所述的方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·弗里德里克，
申请(专利权)人：贺利氏石英玻璃有限两合公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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