【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于具有多个辐射检测器的放射性同位素递送系统的屏蔽组件交叉引用本申请要求美国临时专利申请62/397,022、美国临时专利申请62/397,025和美国临时专利申请62/397,026的权益，其每个申请均于2016年9月20日提交。这些申请的全部内容通过引用并入本文。
本公开涉及用于核医学的放射性药物，更具体地，涉及用于产生和递送放射性药物的系统和技术。
技术介绍
核医学使用放射性物质进行治疗和诊断成像。正电子发射断层扫描(PET)是一种诊断成像，其利用放射性药物剂量。放射性药物剂量可以在PET扫描程序之前或期间注射或输注到患者体内。注入剂量的放射性药物可以被患者的目标器官的细胞吸收并发射辐射。PET扫描仪可以检测发射的辐射，以便产生器官的图像。例如，为了使身体组织如心肌成像，患者可以被注入或输注铷-82(82Rb)。铷-82可以表现出与钾相似的生理摄取，因此可以在钾途径后进入心肌。使用锶-铷发生器(82Sr/82Rb发生器)可以为核医学程序生成铷-82。铷-82是锶-82的放射性衰变产物。通常，锶-铷发生器含有与发生器柱结合的锶，在操作过程中通过该发生器柱冲洗洗...
【技术保护点】
1.一种系统，其包括：屏蔽组件，其具有多个隔室，每个隔室由屏蔽材料形成，提供对放射性辐射的屏障，所述屏蔽组件包括：第一隔室，其配置成接收通过洗脱产生放射性洗出液的放射性同位素发生器；第二隔室，其配置为接收β检测器，和第三隔室，其配置为接收γ检测器。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.20 US 62/397,022;2016.09.20 US 62/397,025;1.一种系统，其包括：屏蔽组件，其具有多个隔室，每个隔室由屏蔽材料形成，提供对放射性辐射的屏障，所述屏蔽组件包括：第一隔室，其配置成接收通过洗脱产生放射性洗出液的放射性同位素发生器；第二隔室，其配置为接收β检测器，和第三隔室，其配置为接收γ检测器。2.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室配置成接收洗出液接收容器，使得所述γ检测器和所述洗出液接收容器均可定位在所述第三隔室中。3.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室包括限定开口的侧壁，所述洗出液接收容器可通过所述开口插入。4.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述γ检测器被定位成检测由所述洗出液接收容器接收的放射性洗出液的静态部分发射的γ发射。5.根据本文任一权利要求所述的系统，还包括定位在所述开口中的可移除插入件，其中所述可移除插入件限定腔，所述腔配置成接收所述洗出液接收容器。6.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述侧壁具有向内延伸的支撑装置，所述可移除插入件包括具有封闭的底壁的主体，并且所述可移除插入件的所述封闭的底壁的一部分位于所述侧壁的向内延伸的支撑装置上。7.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述向内延伸的支撑装置选自肩部、脊部和向内突出的元件。8.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述可移除插入件还包括从所述主体向外延伸并且搁置在限定所述第三隔室的所述开口的边缘上的套环。9.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第一隔室、所述第二隔室和所述第三隔室彼此垂直和水平地定位在不同的平面中。10.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室定位在比所述第一隔室更高的高度处，并且所述第二隔室定位在所述第一隔室和所述第二隔室之间。11.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第一隔室限定开口，并且所述第三隔室限定开口，并且所述第三隔室的开口从所述第一隔室的开口垂直和水平地偏移。12.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室的开口比所述第一隔室的开口高至少25厘米。13.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室的开口与所述第一隔室的开口水平间隔开至少35厘米。14.根据本文任一权利要求所述的系统，其中从当安装在第一隔室中时的放射性同位素发生器至当安装在第三隔室中时的γ检测器限定辐射路径，并且其中所述辐射路径相对于地面具有30度至75度的角度。15.根据本文任一权利要求所述的系统，其中从当安装在第一隔室中时的放射性同位素发生器至当安装在第三隔室中时的γ检测器限定辐射路径，并且其中所述辐射路径穿过第二隔室的一部分。16.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室的所述辐射路径穿过的部分包括至少10厘米的所述屏蔽材料。17.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室的所述辐射路径穿过的部分包括小于4厘米的所述屏蔽材料。18.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室被定位成使得所述第二隔室的所述屏蔽材料内的辐射路径最大化。19.根据本文任一权利要求所述的系统，其中通过将所述辐射路径配置为穿过比所述第二隔室的空隙空间更大长度的屏蔽材料来最大化所述屏蔽材料内的所述辐射路径。20.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述辐射路径穿过所述第三隔室的一部分。21.根据本文任一权利要求所述的系统，其中：所述屏蔽组件还包括第四隔室，所述第四隔室配置成接收废物容器，从当安装在第一隔室中时的放射性同位素发生器至当安装在第三隔室中时的γ检测器限定辐射路径，所述辐射路径穿过第三隔室的一部分和第四隔室的一部分，并且所述辐射路径穿过的第三隔室的部分和第四隔室的部分组合地包括至少15厘米的屏蔽材料。22.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室被定位成使得所述第三隔室的所述屏蔽材料内的辐射路径最大化。23.根据本文任一权利要求所述的系统，其中从当安装在第一隔室中时的放射性同位素发生器至当安装在第三隔室中时的γ检测器限定辐射路径，并且其中沿着所述辐射路径所述屏蔽组件具有至少30厘米的所述屏蔽材料。24.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室位于所述第一隔室和所述第三隔室之间，使得所述γ检测器当定位在所述第三隔室中时通过所述第一隔室、所述第二隔室和所述第三隔室的侧壁与放射性辐射隔离。25.根据本文任一权利要求所述的系统，其中当放射性同位素发生器和γ检测器安装在屏蔽组件中时，γ检测器通过所述屏蔽组件与放射性同位素发生器充分隔离，使得由放射性同位素发生器引起的第三隔室中的背景辐射对于γ检测器检测在第三隔室中的洗出液接收容器中的放射性洗出液发出的期望辐射水平足够低。26.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.3微居里的锶-82。27.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.2微居里的锶-82。28.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.1微居里的锶-82。29.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.05微居里的锶-82。30.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.02微居里的锶-82。31.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述期望辐射水平小于0.01微居里的锶-82。32.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述屏蔽组件还包括第四隔室，所述第四隔室配置成接收废物容器。33.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室包括底壁和从所述底壁延伸的侧壁，所述侧壁限定开口，所述废物容器配置成通过所述开口插入，并且所述侧壁和所述底壁共同界定配置为接收和保持所述废物容器的空间。34.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室位于所述第一隔室和所述第三隔室之间。35.根据本文任一权利要求所述的系统，其中从当安装在第一隔室中时的放射性同位素发生器至当安装在第三隔室中时的γ检测器限定辐射路径，并且其中所述辐射路径穿过第四隔室的一部分。36.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室相对于所述辐射路径横向偏移，使得所述辐射路径行进通过所述屏蔽材料而不是所述第四隔室的空隙空间，从而最大化由所述第四隔室提供的辐射屏蔽。37.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室邻近所述第三隔室定位，使得所述第四隔室和所述第三隔室共用侧壁的邻接部分。38.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室和所述第四隔室均位于所述第一隔室和所述第三隔室之间，使得当位于所述第三隔室中时，所述γ检测器通过第一隔室、第二隔室、第三隔室和第四隔室的侧壁与放射性辐射隔离。39.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第一隔室相对于所述第三隔室定位，使得当所述放射性同位素发生器插入所述第一隔室并且所述γ检测器插入所述第三隔室时，延伸穿过所述放射性同位素发生器和所述γ检测器的轴线横切第二和第四隔室的侧壁。40.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室相对于所述轴线定位，使得所述轴线不平分所述第四隔室。41.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第四隔室从所述轴的二等分位置偏移至少4厘米。42.根据本文任一权利要求所述的系统，其中当放射性同位素发生器、β检测器和γ检测器安装在屏蔽组件中并且输注管道回路与放射性同位素发生器流体连通时，第二隔室配置成定位β检测器以测量由放射性同位素发生器产生并流过所述输注管道回路的放射性洗出物发射的β发射，以及第三隔室配置成定位γ检测器以测量由放置在第三隔室中的洗出液接收容器接收的放射性洗出液的静态部分发射的γ发射。43.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三隔室还配置成接收洗出液接收容器，所述第三隔室定位在所述屏蔽组件上相对于所述第一隔室的垂直升高的位置，以及洗出液接收容器配置成通过其插入的开口相对于重力向上定向。44.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室还配置成接收输注管道回路的一部分，使得所述β检测器和所述输注管道回路的所述部分都定位在所述第二隔室中。45.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述β检测器和所述输注管道回路的所述部分都安装在所述第二隔室中，并且所述β检测器定位成测量从流过所述输注管道回路的放射性洗出液发射的β发射。46.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第二隔室包括底壁和从所述底壁延伸的侧壁，所述侧壁限定开口，所述输注管道回路的所述部分配置成通过所述开口插入，并且所述侧壁和所述底壁共同界定被配置成接收和保持所述输注管道回路的所述部分的空间，所述底壁包括β检测器孔，β发射可以通过所述孔行进，并且所述β检测器位于所述底壁的所述β检测器孔的后面。47.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述屏蔽组件还包括第四隔室，所述第四隔室配置成接收废物容器，所述输注管道回路的所述部分包括洗出液管线、输注管线、废物管线和将所述洗出液管线连接到所述输注管线和所述废物管线的多路分流阀，当安装时，所述洗出液管线从第一隔室中的放射性同位素发生器延伸到第二隔室中的所述多路分流阀，所述废物管线从第二隔室中的所述多路分流阀延伸到第四隔室中的废物容器，所述输注管线从第二隔室中的所述多路分流阀延伸到第三隔室中的患者导管或洗出液接收容器。48.根据本文任一权利要求所述的系统，还包括通道和管锁件，所述通道形成在所述第二隔室的侧壁中，其中所述通道在所述第一隔室和所述第二隔室之间延伸，并且配置成接收从所述放射性同位素发生器延伸的洗出液管线，并且其中管锁件被配置成选择性地锁定和解锁所述通道中的所述洗出液管线。49.根据本文任一权利要求所述的系统，还包括：第一门，其被配置为覆盖第一隔室；第二门，其被配置为覆盖第二隔室；以及第三门，其被配置为覆盖第三隔室，每个门当打开时提供进入相应隔室的入口以及当关闭时提供进一步的辐射屏障。50.根据本文任一权利要求所述的系统，其中所述第三门包括开口，所述开口配置成接收插入其中的输注管线，从而在安装在所述屏蔽组件中时在放射性同位素发生器和洗出液接收容器之间建立流体连通。51.根据本文任一权利要求所述的系...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·施默勒，C·莫耶斯，艾德里安·纳恩，B·切伦多洛，J·丹尼斯，
申请(专利权)人：布拉科诊断公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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