粒子束输送装置、旋转机架和粒子束照射治疗系统制造方法及图纸

提供能使束传输路径简化且缩短的粒子束输送装置、旋转机架、和粒子束照射治疗系统。包括：真空导管(70)，使得粒子束(β)穿过真空导管行进，至少一个控制磁铁装置(31)，布置在真空导管(70)的弯曲部周围且被配置成控制粒子束(β)的行进方向或形状，和扫描磁铁(32)，布置在控制磁铁装置(31)的行进方向的下游侧且被配置成通过偏转粒子束(β)的各聚束来扫描粒子束(β)，控制磁铁装置(31)包括沿着弯曲部使粒子束的行进方向偏转的偏转磁铁(33)和使粒子束(β)会聚的四极磁铁(34)，偏转磁铁(33)和四极磁铁(34)构成布置在行进方向的相同位置处的功能结合型磁铁(38)。

Particle Beam Conveyor, Rotary Frame and Particle Beam Irradiation Therapy System

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粒子束输送装置、旋转机架和粒子束照射治疗系统
本专利技术的实施方式涉及通过用粒子束照射患病区域来对其进行治疗的粒子束治疗技术。
技术介绍
人们对通过使用诸如重粒子离子束等粒子束照射患者的癌细胞来进行治疗的粒子束治疗技术越来越感兴趣。粒子束治疗技术使得能在不损伤正常组织的情况下杀死精确定位的患处，由此使患者的负担相较于手术、药物治疗等变少。因而，还能期待患者在治疗后提早重返社会。为了根据患处的形状、体内的目标深度而将具有最佳剂量值及剂量分布的粒子束照射到患处，用旋转机架旋转照射器的旋转方法近年来一直受到关注。为了用旋转机架稳定地支撑粒子束输送装置，粒子束输送装置以蛇行进出旋转机架的方式连接至照射器。粒子束输送装置将粒子束引导至照射器。现有技术文献专利文献专利文献1：日本未审查专利申请公开JP2011-72717A
技术实现思路
专利技术要解决的问题由于用于控制粒子束轨迹的各种电磁铁和监视器设置在射束传输路径中，因而束输送装置变得复杂且更长。因此，在现有技术中，用于支撑束输送装置的旋转机架有可能增大而使旋转的可控性降低，从而降低了粒子束的照射精度。鉴于上述问题，本专利技术的实施例的目的是提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粒子束输送装置，包括：真空导管，粒子束穿过所述真空导管行进；至少一个控制磁铁装置，布置在所述真空导管的弯曲部周围且配置成控制所述粒子束的行进方向或形状；和扫描磁铁，布置在所述至少一个控制磁铁装置的所述粒子束的行进方向的下游侧，且配置成通过偏转所述粒子束的各聚束来扫描所述粒子束，其中，所述至少一个控制磁铁装置包括配置成沿着所述弯曲部使所述粒子束的行进方向偏转的偏转磁铁、和配置成使所述粒子束会聚的四极磁铁，并且所述偏转磁铁和所述四极磁铁构成布置在所述粒子束的行进方向上的同一位置处的功能结合型磁铁。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.15 JP 2016-2226891.一种粒子束输送装置，包括：真空导管，粒子束穿过所述真空导管行进；至少一个控制磁铁装置，布置在所述真空导管的弯曲部周围且配置成控制所述粒子束的行进方向或形状；和扫描磁铁，布置在所述至少一个控制磁铁装置的所述粒子束的行进方向的下游侧，且配置成通过偏转所述粒子束的各聚束来扫描所述粒子束，其中，所述至少一个控制磁铁装置包括配置成沿着所述弯曲部使所述粒子束的行进方向偏转的偏转磁铁、和配置成使所述粒子束会聚的四极磁铁，并且所述偏转磁铁和所述四极磁铁构成布置在所述粒子束的行进方向上的同一位置处的功能结合型磁铁。2.根据权利要求1所述的粒子束输送装置，其中，所述至少一个控制磁铁装置包括多个控制磁铁装置，并且所述多个控制磁铁装置使所述粒子束的行进方向沿着所述弯曲部偏转，以使得所述多个控制磁铁装置中的至少两个的使所述粒子束的行进方向偏转的偏转角是相同的。3.根据权利要求1所述的粒子束输送装置，其中，所述至少一个控制磁铁装置包括多个控制磁铁装置，并且由所述四极磁铁或所述偏转磁铁构成的控制磁铁装置的口径，在所述多个控制磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：高山茂贵，折笠朝文，长本义史，吉行健，
申请(专利权)人：株式会社东芝，东芝能源系统株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP