用于制造至少部分涂覆的物体的方法技术

本发明专利技术涉及用于制造至少部分涂覆的物体的方法，该方法包括借助于增材制造法由构建材料制造物体的步骤，其中所述构建材料包含热塑性聚氨酯材料。所述方法在制造之后包括此外将所述物体与选自以下的制剂至少部分地接触的步骤：‑水性聚氨酯分散体，‑具有OH基团的聚合物的水性分散体，其中该分散体还含有具有NCO基团的化合物，‑含NCO基团的化合物的水性制剂，其中该制剂不含具有OH基团的聚合物，或这些中至少两种的组合。本发明专利技术此外涉及通过根据本发明专利技术的方法获得的至少部分涂覆的物体。

Method for manufacturing at least partially coated objects

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造至少部分涂覆的物体的方法本专利技术涉及用于制造至少部分涂覆的物体的方法，该方法包括借助于增材制造法由构建材料制造物体的步骤，其中所述构建材料包含热塑性聚氨酯材料。本专利技术此外涉及通过根据本专利技术的方法获得的至少部分涂覆的物体。已知以增材制造法，例如以粉末烧结法，制造塑料物体，其中逐层构建所述物体。增材制造法也被称为3D打印法（“3D打印”）。作为用于以3D打印法制造的物体的起始材料可使用例如聚酰胺或热塑性聚氨酯。使用这种塑料用于以3D打印法制造塑料物体的缺点是，物体的表面是多孔的，并因此一方面受到增加的磨损，另一方面由于多孔的表面结构，污物相对容易粘附保留在该表面上。因此，物体的美观可能受到严重损害。此外，物体的多孔表面可能对触觉产生负面影响。此外，取决于所使用的打印材料，物体可能吸收水或水分，这会对物体的结构和/或稳定性产生负面影响。为了至少部分地消除这种物体的多孔表面，在现有技术中已知的是研磨和/或抛光塑料物体的表面。由此虽然可以使塑料物体的表面更光滑。然而，只能以相当大的耗费在很大程度上消除孔隙，以至于通常在抛光之后也不能保证没有污物粘附保留在表面上。然而，表面的抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于制造至少部分地涂覆的物体的方法，所述方法包括借助于增材制造法由构建材料制造物体的步骤，其中所述构建材料包含热塑性聚氨酯材料，其特征在于，所述方法在制造物体之后还包括以下步骤：将所述物体与选自以下的制剂至少部分地接触：‑水性聚氨酯分散体，‑具有OH基团的聚合物的水性分散体，其中该分散体还含有具有NCO基团的化合物，‑含有NCO基团的化合物的水性制剂，其中该制剂不含具有OH基团的聚合物，或这些中至少两种的组合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.25 EP 16200725.61.用于制造至少部分地涂覆的物体的方法，所述方法包括借助于增材制造法由构建材料制造物体的步骤，其中所述构建材料包含热塑性聚氨酯材料，其特征在于，所述方法在制造物体之后还包括以下步骤：将所述物体与选自以下的制剂至少部分地接触：-水性聚氨酯分散体，-具有OH基团的聚合物的水性分散体，其中该分散体还含有具有NCO基团的化合物，-含有NCO基团的化合物的水性制剂，其中该制剂不含具有OH基团的聚合物，或这些中至少两种的组合。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述水性聚氨酯分散体可通过如下来获得，A)由下述物质制造异氰酸酯官能的预聚物A1)有机多异氰酸酯,A2)聚合多元醇，其具有400-8000g/mol的数均分子量和1.5-6的OH官能度，和A3)任选的羟基官能的化合物，其具有62至399g/mol的分子量以及任选包含烯属不饱和化合物，以及A4)任选异氰酸酯反应性的阴离子或潜在阴离子和/或任选非离子的亲水化剂，和B)然后，使其游离的NCO基团全部或部分地B1)任选与分子量为32至400g/mol的氨基官能的化合物和B2)与氨基官能的阴离子或潜在阴离子的亲水化剂反应，使链延长，并在步骤B）之前、期间或之后将预聚物分散在水中。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，具有OH基团的聚合物的水性分散体，其还含有具有NCO基团的化合物，包含以下组分：A)一种或多种具有未交联的聚合物键合的(甲基)丙烯酸酯的化合物，其OH值为20-300mgKOH/g物质和/或B)任选不同于A）的化合物，其具有至少一个异氰酸酯反应性基团和至少一个可辐射固化的双键，C)任选一种或多种具有至少一个异氰酸酯反应性基团、但不具有可辐射固化双键的化合物，D)一种或多种具有至少一个异氰酸酯反应性基团和另外对聚氨酯丙烯酸酯起分散作用的非离子、阴离子或能够用于形成阴离子基团的基团的化合物，或D'）一种或多种具有至少一个异氰酸酯反应性基团和另外对聚氨酯丙烯酸酯起分散作用的阳离子或能够用于形成阳离子基团的基团的化合物，E)一种或多种具有2个或更多个异氰酸酯基团的有机化合物，F)任选与化合物D）组合的中和胺或F'）与化合物D'）组合的中和酸F'），G)任选氨基甲酸酯化催化剂，以及任选其他助剂和添加剂。4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，在含有NCO基团的化合物的含水制剂中，在该制剂中没有具有OH基团的聚合物，含有NCO基团的化合物是基于脂族、脂环族、芳脂族和/或芳族二异氰酸酯的化合物，其具有：a)至少2.0的平均异氰酸酯官能度b)5.0至25.0重量％的异氰酸酯基团的含量（作为NCO计算；分子量=42），和(c)阴离子和/或非离子亲水化组分。5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，与制剂接触的物体的部分具有≥0.01至≤0.6的孔隙率Φ，并且孔隙率Φ表示为：Φ=1–(ρ/ρ0)其中ρ表示物体的分配给与制剂接触的部分的体积的密度，和ρ0表示构建材料的真密度。6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，借助于增材制造法制造物体包括以下步骤：-将由具有构建材料的颗粒构成的层施加到目标面上；-将能量作用于相应于物体的截面的层的所选部分上，由此连接所选部分中的颗粒；-重复施加和能量作用的步...

【专利技术属性】
技术研发人员：D阿克滕，T比斯根，T米夏利斯，R瓦格纳，B梅特曼，L阿克巴斯，J赫蒂希，A盖多，
申请(专利权)人：科思创德国股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE