气体分配器及包括它的用于多晶体硅沉积的反应器制造技术

本申请涉及一种气体分配器及包括它的用于多晶体硅沉积的反应器，气体在该气体分配器中传输，该气体分配器包括：通过能易于拆卸的固定装置气密性地连接至彼此的至少两个部分、以及至少一个气体进口孔和至少一个气体出口孔，其中，气体分配器通过能易于拆卸的固定装置安装至用于多晶体硅沉积的反应器，其中，气体分配器的至少一个气体出口孔连通地连接至反应器的至少一个气体进口孔，和/或其中，气体分配器的至少一个气体进口孔连通地连接至反应器的介质供应部的至少一个气体进给管线。

【技术实现步骤摘要】
气体分配器及包括它的用于多晶体硅沉积的反应器本申请是分案申请，其母案申请的申请号为201480013844.8(国际申请号为PCT/EP2014/055472)，申请日为2014年3月19日，专利技术名称为“西门子反应器的气体分配器”。
本专利技术涉及一种用于使多晶体硅沉积的西门子反应器的气体分配器，具体地，涉及一种进给气体分配器和废气收集器。
技术介绍
高纯度多晶体硅(多晶硅)用作通过丘克拉斯基(Czochralski)(CZ)或者区域熔融(FZ)法生产用于半导体的单晶体硅的起始材料，并且还用作通过各种拉伸和铸造法生产用于制造光电太阳能电池的单晶体硅或者多晶体硅的起始材料。通常，通过西门子工艺制备多晶硅。在该工艺中，将包括一种或者多种含硅的组分(以及可选的，还包括氢气)的反应气体引入至反应器中，该反应器包括通过直接通电而被加热的衬底，其中，硅以固态形式沉积到衬底上。优选使用的含硅组分为硅烷(SiH4)、一氯硅烷(SiH3Cl，一氯三氢硅)、二氯硅烷(SiH2Cl2，二氯二氢硅)、三氯甲硅烷(SiHCl3，三氯氢硅)、四氯硅烷(SiCl4，四氯化硅)、或者所述物质的混合物。通常，在沉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体分配器，气体能够在所述气体分配器中传输，所述气体分配器包括：通过能易于拆卸的紧固装置气密性地连接至彼此的至少两个部分；至少一个气体进口孔；以及至少一个气体出口孔，其中，所述气体分配器能够通过能易于拆卸的紧固装置安装至用于多晶体硅沉积的反应器，其中，所述气体分配器的所述至少一个气体出口孔连通地连接至所述反应器的至少一个气体进口孔，和/或其中，所述气体分配器的所述至少一个气体进口孔连通地连接至所述反应器的介质供应部的至少一个气体进给管线。

【技术特征摘要】
2013.04.09 DE 102013206236.21.一种气体分配器，气体能够在所述气体分配器中传输，所述气体分配器包括：通过能易于拆卸的紧固装置气密性地连接至彼此的至少两个部分；至少一个气体进口孔；以及至少一个气体出口孔，其中，所述气体分配器能够通过能易于拆卸的紧固装置安装至用于多晶体硅沉积的反应器，其中，所述气体分配器的所述至少一个气体出口孔连通地连接至所述反应器的至少一个气体进口孔，和/或其中，所述气体分配器的所述至少一个气体进口孔连通地连接至所述反应器的介质供应部的至少一个气体进给管线。2.根据权利要求1所述的气体分配器，所述气体分配器适于将气体引入至所述反应器中，其中，所述至少一个气体进口孔被设置成用于进给气体并且连接至气体进给管线，其中，所述至少一个气体出口孔用于将气体进给至反应器喷嘴。3.根据权利要求1或2所述的气体分配器，其中，所述能易于拆卸的紧固装置是凸缘连接件。4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体分配器，其中，从所述气体分配器至喷嘴的进给管线具有相同形状。5.根据权利要求4所述的气体分配器，其中，所述进给管线竖直地延伸。6.根据权利要求1至5中任一项所述的气体分配器，其中，所述气体分配器为...

【专利技术属性】
技术研发人员：弗里德里克·波普，克里斯蒂安·库察，马丁·勒克尔，托比亚斯·韦斯，
申请(专利权)人：瓦克化学股份公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE