【技术实现步骤摘要】
GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法
本专利技术涉及一种GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序测量方法。
技术介绍
AlGaN/GaNHEMT器件是继硅基和碳化硅基MOSFET之后的全新一代宽禁带半导体器件,拥有硅基无可比拟的优越性能,相比碳化硅基成本也更低。由于AlGaN、GaN材料具备宽禁带、极化效应和导带不连续性等特点,使得制备得到的AlGaN/GaNHEMT器件是具有高频、高耐压、大电流、高耐温、强抗干扰等优越电气性能的场效应晶体管。特别的,HEMT器件层间材料禁带宽、介电常数高,从而可以将结电容控制到非常低的水平,AlGaN/GaNHEMT器件的输入电容(Ciss)、输出电容(Coss)和反馈电容(Crss)通常分别在数十pF、数十pF、数pF量级,远低于硅基和碳化硅基MOSFET的上千pF、上百pF、上百pF量级,因而HEMT在高频性能方面表现卓越,在高频应用(包括数MHz的开关电源)方面有着远大的前景。正因如此,针对GaNHEMT器件动态性能研究,并建立起HEMT器件动态功率损耗模型,对HEMT器件的高频实际应用有重要的指导作用。然而,不同与硅基或碳化硅材料的功率电力电子器件,在动态开关工作时,GaNHEMT器件相比传统Si/SiC器件有着独特的动态电学特性,在开关工作中主要体现在:GaNHEMT器件没有反向恢复的特性;其在开关回路中的寄生电容和寄生电感数值更小;器件在开关过程中寄生参数随工作电压和工作电流变化呈现非线性的改变,并且还伴随动态阻抗增加等问题。正因如此,直接套用Si或SiC的功率电力电子器件的动态损 ...
【技术保护点】
1.一种GaN HEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其步骤包括:(1)测量并计算在在HEMT器件开关过程中,HEMT器件处在关断状态时,高漏极电压下的HEMT器件关断损耗Poff;(2)测量并计算在HEMT器件完全开通后,HEMT器件处在饱和状态时,HEMT器件的开通损耗Pcon;(3)测量并计算HEMT器件处于从关断到开通之间的开启变换状态时,HEMT器件的开启变换损耗Pturn_on;(4)测量并计算HEMT器件处于从开通到关断之间的关断变换状态时,HEMT器件的关断变换损耗Pturn_off;(5)计算GaN HEMT器件总的的高频动态损耗Ptotal:Ptotal=Poff+Pcon+Pturn_on+Pturn_off其特征在于:建模过程中,采用器件高频工作时影响动态导通阻抗变化的参数来计算开通损耗Pcon。
【技术特征摘要】
1.一种GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其步骤包括:(1)测量并计算在在HEMT器件开关过程中,HEMT器件处在关断状态时,高漏极电压下的HEMT器件关断损耗Poff;(2)测量并计算在HEMT器件完全开通后,HEMT器件处在饱和状态时,HEMT器件的开通损耗Pcon;(3)测量并计算HEMT器件处于从关断到开通之间的开启变换状态时,HEMT器件的开启变换损耗Pturn_on;(4)测量并计算HEMT器件处于从开通到关断之间的关断变换状态时,HEMT器件的关断变换损耗Pturn_off;(5)计算GaNHEMT器件总的的高频动态损耗Ptotal:Ptotal=Poff+Pcon+Pturn_on+Pturn_off其特征在于:建模过程中,采用器件高频工作时影响动态导通阻抗变化的参数来计算开通损耗Pcon。2.根据权利要求1所述的GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其特征在于:步骤(2)中器件处在开通状态,该阶段记为t4-t7时间段,此时间段内通过器件的电流的有效值Idrain_rms为:器件的开通损耗Pcon为:Pcon=Idrain_rms2Rdson_DCkdvkdfkddkth_Rkcu;上式中kdv、kdf、kdd、kcu、kth_R分别为该阶段的电压、频率、占空比、电流和温度的线性系数,Idrain_rms为通过器件的电流的有效值,Rdson_DC为器件的开通状态下的导通阻抗。3.根据权利要求2所述的GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其特征在于:所述kdv、kdf、kdd、kcu、kth_R分别通过动态阻抗提取电路提取。4.根据权利要求1-3中任一项所述的GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其特征在于:在计算HEMT器件的开启变换损耗Pturn_on的过程中,通过采用栅电荷Qg的电容表征形式Cgd_vf,来替代HEMT器件的输出电容Coss。5.根据权利要求4所述的GaNHEMT器件高频动态损耗的非线性分段时序模型建立方法,其特征在于:步骤(3)中将HEMT器件从关断到开通之间的开启变换状态分为三个时间段;第一时间段为HEMT器件从关断到初步开通,记为t1-t2阶段,漏极电流Ids处于线性上升的状态,由t1时间点的0升至t2时间点的起始电流Ista,同时漏极电压Vds由于寄生电感在di/dt影响下,下降到t2的电压Vr水平,该时间段的器件开启变换损耗Pturn_on_cr计算方式为:式中,Rturn_on_cr为开启变换状态中器件通阻,△Vds为漏极电压在该状态中的变化量,△Ichannel为沟道电流在该状态中的变化量,kdv、kdf、kdd、kcu、kth_R分别为该阶段的电压、频率、占空比、电流和温度的线性系数,Leff_Gate和Weff_Gate分别为有效沟道长度和宽度,μs为氮化镓电子迁移率,Cgs为器件栅源电容,Ista为起始的漏极电流,Vdrive_H为器件开通时栅极驱动电压,Ls是器件源极端和地之间的串联电感,Vth为器件栅极阈值电压,gm为器件的跨导值,Vmr为器件开通时的密勒平台电压,fs为器件工作频率,Klag是器件栅极开通延迟的拟合系数,通过测量器件在不同关断电压、工作频率和占空比下的开通时延得到的,t1-t2代表t1时间点到t2时间点的长度,Rg_on为栅极驱动的上拉电阻。第二时间段为器件进一步开启阶段,记为t2-t3阶段,通过电感负载流经器件的电流进一步增加,随着器件输出电容Coss的放电,漏极电压下降幅度变化很大,由高压状态下降到器件栅极阈值开启电压,同时电路中的杂散电感Lstray和输出电容Coss共振,漏极电流Ids产生振荡。漏极电压Vds下降幅度变化大于第一时间段,该时间段内采用栅漏电荷Qgd替代电容Coss得到新的电容表征形式Cgd_vf的方法来计算损耗,该时间段内器件电容Cgd_vf计算方式、时间段t2-t3长度、该时间段内的平均沟道电流Ivf和损耗Pturn_on_vf的计算方法分别为:其中,△V为该阶段中栅极电压的变化量,Vr为此阶段栅极电压参考值,Lstray为电路中的杂散电感,Cstray为电路中的杂散电容,为平均沟道电流,Qgd为栅漏电荷,Rdson为器件的导通阻抗,Rg_on为栅极驱动的上拉电阻;第三时间段记为t3-t4阶段,漏极电压Vds降低到阈值电压Vth以下,器件进入线性区,栅极电压维持在米勒平台电压Vmr状态,此时间段的持续时间、该阶段内器件的开通电压Von_r和损耗Pturn_on_mr分别为:Von_r=IstaRdsonkdvkdfkddkth_R基于阶段三中各个时间段的开通过程损耗计算,得到测量下总的开通状态期间的损耗为各个部分之和:Pturn_on(measured)=Pturn_on_cr+Pturn_on_vf+Pturn_on_mr。...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈敦军,王蕊,雷建明,张荣,郑有炓,
申请(专利权)人:南京大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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