一种导电结构、触控结构及触控显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种导电结构、触控结构及触控显示装置，涉及显示技术领域，相对于现有技术，可以降低导电网格的反射率。本发明专利技术实施例提供一种导电结构，包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层；所述调制层与所述黑化层接触；所述调制层的折射率为1.8～2.5，所述黑化层的吸光系数为1.0～2.0，所述导电层的材料为金属或合金；在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～100nm，所述黑化层的厚度范围为30nm～200nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～55nm，所述黑化层的厚度范围为10nm～30nm。

【技术实现步骤摘要】
一种导电结构、触控结构及触控显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种导电结构、触控结构及触控显示装置。
技术介绍
在触控显示装置中，为了减小触控电极的电阻，提高触控电极的信号传递速度，因而常将触控电极设计为金属网格。由于金属网格的材料一般为铝(Al)、银(Ag)等金属，而铝、银的反射率很高，因而射到金属网格上的光大多数会被反射，在观看者观看时，反射光进入人眼，这样人眼就能看到金属网格，从而影响观看效果。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种导电结构、触控结构及触控显示装置，相对于现有技术，可以降低导电网格的反射率。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种导电结构，包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层；所述调制层与所述黑化层接触；所述调制层的折射率为1.8～2.5，所述黑化层的吸光系数为1.0～2.0，所述导电层的材料为金属或合金；在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～100nm，所述黑化层的厚度范围为30nm～200nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导电结构，其特征在于，包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层；所述调制层与所述黑化层接触；所述调制层的折射率为1.8～2.5，所述黑化层的吸光系数为1.0～2.0，所述导电层的材料为金属或合金；在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～100nm，所述黑化层的厚度范围为30nm～200nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～55nm，所述黑化层的厚度范围为10nm～30nm。

【技术特征摘要】
1.一种导电结构，其特征在于，包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层；所述调制层与所述黑化层接触；所述调制层的折射率为1.8～2.5，所述黑化层的吸光系数为1.0～2.0，所述导电层的材料为金属或合金；在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～100nm，所述黑化层的厚度范围为30nm～200nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～55nm，所述黑化层的厚度范围为10nm～30nm。2.根据权利要求1所述的导电结构，其特征在于，所述调制层的材料为铟锌金属氧化物、铟锌合金氧化物、铟锡金属氧化物、铟锡合金氧化物中的一种或多种。3.根据权利要求1或2所述的导电结构，其特征在于，在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度为60nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度为37nm。4.根据权利要求1所述的导电结构，其特征在于，所述黑化层的材料为氧化钼、氮化钼、氮氧化物、氧化钼铌、氮化钼铌、氮氧化钼铌中的一种或多种。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘欢，杨忠正，曾亭，胡海峰，陈军，许占齐，董万如，陈闰，梁超，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11