一种污水深度处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种污水深度处理装置，包括格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元和污泥浓缩单元；污水首先经过格栅过滤和沉淀后，经提升泵进入混凝沉淀池进行混凝除磷和去有机物，再经等离子体机作等离子处理，利用等离子体机内电极板上的高压脉冲放电产生的的强氧化性物质在氨氮氧化池中氧化污水中的氨氮和有机物，使得水中的COD、BOD、色度、氨氮等污染指标大幅度降低，氧化后的污水进入硝态氮还原池中，利用氢气还原水体中的硝态氮降低水体的总氮，实现再生利用。

A Deep Sewage Treatment Device

The invention discloses a deep treatment device for sewage, which comprises a grille, a sedimentation tank, a coagulation sedimentation tank, a plasma unit, a hydrogen reduction denitrification unit and a sludge concentration unit; the sewage first passes through a grille filter and sedimentation, then enters a coagulation sedimentation tank through a lifting pump for coagulation, phosphorus removal and organic matter removal, and then is treated by a plasma machine as a plasma treatment, using the inner electrode of a plasma machine. The strong oxidizing substance produced by high voltage pulse discharge on board oxidizes ammonia nitrogen and organic matter in wastewater in ammonia-nitrogen oxidation pond, which greatly reduces the pollution indexes of COD, BOD, chroma and ammonia nitrogen in water. The oxidized wastewater enters nitrate-nitrogen reduction pond and reduces the total nitrogen in water by reducing nitrate-nitrogen in water with hydrogen, so as to realize recycling.

【技术实现步骤摘要】
一种污水深度处理装置
本专利技术涉及一种污水深度处理装置。
技术介绍
当前的市政污水处理厂比较常用污水处理技术不外乎活性污泥法和生物膜法两种工艺。活性污泥法主要有A2/O及其改良工艺(如UCT工艺)、各种氧化沟工艺、SBR类及其变型工艺(CAST工艺等)等，目前活性污泥法占有绝对优势，仅有少数污水厂采用生物膜法工艺。采用这些工艺的出水如不加深度处理多数只能达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级B标准出水指标，其指标如表1：表1基本控制项目最高允许排放浓度(日均值)序号基本控制项目一级B标准(mg/L)1COD602BOD203SS204动植物油35石油类36阴离子表面活性剂17总氮(以N计)208氨氮(以N计)8(15)9总磷(以P计)110色度(稀释倍数)3011pH6-912粪大肠菌群数(个/L)104为了改善水环境，2015年国务院下达了“关于印发水污染防治行动计划的通知(国发〔2015〕17号)”。通知要求“现有城镇污水处理设施，要因地制宜进行改造，2020年底前达到相应排放标准或再生利用要求。敏感区域(重点湖泊、重点水库、近岸海域汇水区域)城镇污水处理设施应于2017年底前全面达到一级A排放标准。建成区水体水质达不到地表水Ⅳ类标准的城市，新建城镇污水处理设施要执行一级A排放标准”。现有的多数市政污水处理厂的污水处理工艺的出水只能达到一级B的标准，部分污水厂在A2/O及其改良工艺(如UCT工艺)之后增加混凝除磷和生物脱氮或MBR工艺处理后可以达到一级A标准的出水水质。这两种工艺，污水的停留时间大都在13小时以上，不仅构筑物占地面积大，生产工艺流程长，设备多、投资多，建设期长、运行费用高，而且经过处理后的排放水只能达到《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级A标准出水指标，不能达到《地表水环境质量标准》(GB3838－2002)的有关水质标准，因此，急需一种经济实用、占地面积小、施工期短的污水深度处理装置。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术的目的在于提供一种污水深度处理装置。本专利技术通过以下技术方案来实现：一种污水深度处理装置，包括格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元和污泥浓缩单元；所述等离子体单元包括等离子体机；所述氢还原脱氮单元包括氨氮氧化池和氢还原池，所述氨氮氧化池和氢还原池为一体化设置；所述污泥浓缩单元包括污泥浓缩池和污泥脱水机；所述格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元依次连接，污水经过格栅过滤和沉淀池沉淀后经过混凝反应池进行混凝反应，然后经过等离子体单元进行等离子体氧化后再经过氢还原脱氮单元进行氢还原脱氮；污泥浓缩单元则对所述沉淀池和混凝沉淀池的沉淀进行污泥浓缩及过滤。优选地，所述格栅包括粗格栅和细格栅。优选地，所述沉淀池为曝气沉砂池。优选地，在所述沉淀池和混凝沉淀池之间设置好氧生物处理单元。优选地，在所述好氧生物处理单元之前设置初沉池，在所述好氧生物处理单元后设置二沉池。优选地，所述混凝沉淀池中所用的混凝剂为铝盐、铁盐、聚铝、聚铁的一种或任意两种以上组合；所述铝盐为硫酸铝或氯化铝；所述铁盐为硫酸铁或硫酸亚铁；所述聚铝为聚合氯化铝、聚合硫酸铝或聚合硅酸铝；所述聚铁为聚合氯化铁、聚合硫酸铁或聚合硅酸铁；混凝剂的用量为5～50g/m3；助凝剂为PAM，用量为1～2g/m3。优选地，在混凝沉淀池前设置有水体PH检测单元，当所述水体的pH小于7时，在所述水体中加入氢氧化钠、碳酸钠或石灰乳调节所述水体的pH值为7～9。优选地，所述等离子体机的脉冲工作电压为50～10000V，最佳工作电压60～1000V，脉冲频率为2400～2600MHz，最佳脉冲频率为2450～2500MHz，电流密度为10～1000mA/cm2，最佳电流密度为50～300mA/cm2，污水在等离子体机中的停留时间为1～8min，最佳停留时间为3～5min。优选地，污水在氨氮氧化池中氧化20～90min，最佳氧化时间30～60min。优选地，污水在硝态氮还原池中反应10～90min，最佳反应40～60min。污水在所述污水深度处理装置中处理的时间为3～8小时，最佳的处理时间为4～5小时。本专利技术具有如下有益效果：1、投资省；2、出水水质高；3、占地少；4、工艺流程短；5、建设施工期短；6、污水运行的调试期短；7、运行费用低。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。图1为一种污水物化等离子体深度处理工艺流程图之一；图2为一种污水物化等离子体深度处理工艺流程图之二；图3为一种污水深度处理装置示意图。图中：1、污水进口；2、等离子体机；3、污水出水口；4、氨氮氧化池；5、氢还原池；6、再生水；7、污泥出口；8、污泥浓缩单元；9、氢气。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一参照图1和图3，某污水处理厂的市政污水物化等离子体深度处理的实施例，污水处理厂包括粗格栅、细格栅、曝气沉砂池、一级提升泵房、初沉池、高效沉淀池、等离子体机、一体化氨氮氧化池和脱硝态氮还原池(等离子体机、一体化氨氮氧化池和硝态氮还原池为一体机，见图3)和污泥脱水系统。除粗格栅、细格栅、曝气沉砂池、一级提升泵房、初沉池、高效沉淀池、等离子体机、一体化氨氮氧化池和硝态氮还原池依次连接外，在等离子体机的出水口设置有一个回流管与高效沉淀池的进水口连接，用于将等离子处理后的污水部分回流至高效沉淀池；初沉池、高效沉淀池的底部还设置有污泥出口，通过污泥泵和污泥管将污泥泵至污泥脱水系统。所述污水的进水水质指标如表2。表2、某污水处理厂的进水水质指标序号基本控制项目测定值(mg/L)1COD4902BOD2653SS3204动植物油-5石油类-6阴离子表面活性剂7总氮(以N计)708氨氮(以N计)599总磷(以P计)810色度(稀释倍数)11pH6-9采用图1的污水处理工艺,步骤如下：1、格栅过滤与沉淀将污水收集后经过粗格栅、细格栅过滤，再经过曝气沉砂池去除大颗粒固形物、泥砂等，再经过提升泵提升至初沉池。2、物化处理将初沉池的污水泵入高效沉淀池并从等离子体机出水口回流污水量5～15％的等离子体处理水至高效沉淀池进水口，以提供足够的氧化性物质，向沉淀池中按1～50g/m3加入硫酸亚铁溶液和1～5mg/m3助凝剂进行混凝反应5分钟，Fe2+与等离子体处理产生的Cl·、O·、OH·反应生成Fe3+，Fe3+与PO43﹢反应生成磷酸铁沉淀除去污水的磷，与OH-反应生成Fe(OH)3沉淀进行絮凝(混凝)反应，通过吸附作用除去石油类、动植物油等有机物，进入沉淀池停留时间为20分钟，进行沉淀分离，污泥进入污泥处理系统脱水成泥块，清液进入过滤池。3、等离子脱氮处理(本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种污水深度处理装置，其特征在于，包括格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元和污泥浓缩单元；所述等离子体单元包括等离子体机；所述氢还原脱氮单元包括氨氮氧化池和硝态氮还原池，所述氨氮氧化池和氢还原池为一体化设置；所述污泥浓缩单元包括污泥浓缩池和污泥脱水机；所述格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元依次连接，污水经过格栅过滤和沉淀池沉淀后经过混凝反应池进行混凝反应，然后经过等离子体单元进行等离子体氧化氨氮后再经过氢还原脱氮单元进行氢还原脱氮；污泥浓缩单元则对所述沉淀池和混凝沉淀池的沉淀进行污泥浓缩及过滤。

【技术特征摘要】
1.一种污水深度处理装置，其特征在于，包括格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元和污泥浓缩单元；所述等离子体单元包括等离子体机；所述氢还原脱氮单元包括氨氮氧化池和硝态氮还原池，所述氨氮氧化池和氢还原池为一体化设置；所述污泥浓缩单元包括污泥浓缩池和污泥脱水机；所述格栅，沉淀池，混凝沉淀池，等离子体单元，氢还原脱氮单元依次连接，污水经过格栅过滤和沉淀池沉淀后经过混凝反应池进行混凝反应，然后经过等离子体单元进行等离子体氧化氨氮后再经过氢还原脱氮单元进行氢还原脱氮；污泥浓缩单元则对所述沉淀池和混凝沉淀池的沉淀进行污泥浓缩及过滤。2.根据权利要求1所述的污水深度处理装置，其特征在于，所述格栅包括粗格栅和细格栅。3.根据权利要求1或2所述的污水深度处理装置，其特征在于，所述沉淀池为曝气沉砂池。4.根据权利要求1或2所述的污水深度处理装置，其特征在于，在所述沉淀池和混凝沉淀池之间设置好氧生物处理单元。5.根据权利要求4所述的污水深度处理装置，其特征在于，在所述好氧生物处理单元之前设置初沉池，在所述好氧生物处理单元后设置二沉池。6.根据权利要求1或2所述的污水深度处理装置，其特征在于，所述混凝沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴以伯，闫承凯，
申请(专利权)人：大渊环境技术厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35