【技术实现步骤摘要】
一种半导体洁净输送系统
本技术涉及半导体清洁领域，尤其涉及一种半导体洁净输送系统。
技术介绍
半导体制造工艺是实现由材料到分立器件或集成系统的关键，其中清洗工艺是使用最普遍的工艺步骤；一般的半导体晶片的清洗之后到输送之间采用的是人工搬运的方式将半导体晶体通过移动架进行转移至下一步的烘干的工序上，需要从移动架上进行卸下转到烘干的移动架上非常不方便容易造成二次污染，此外，清洗一般采用的浸泡式超声波的清洗效果不理想。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种半导体洁净输送系统，能够解决一般的清洗后的半导体晶片需要通过转移架进行装卸转移到烘干工序中，浪费了大量的时间效率低下且对半导体容易造成二次污染。为解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种半导体洁净输送系统，其创新点在于：包括吊轨、夹持气缸、脉冲清洁机构和输送装置；所述吊轨呈环形结构设置在脉冲清洁机构和输送装置之间；所述夹持气缸具有若干个且通过滑块沿着竖直方向设置在环形的吊轨上，所述夹持气缸通过循环电机驱动沿着吊轨的铺设轨迹移动，所述夹持气缸在吊轨上至少形成夹持工位、清洗工位、输送工位和等待工位四个工位；所述夹持工位位...
【技术保护点】
1.一种半导体洁净输送系统，其特征在于：包括吊轨、夹持气缸、脉冲清洁机构和输送装置；所述吊轨呈环形结构设置在脉冲清洁机构和输送装置之间；所述夹持气缸具有若干个且通过滑块沿着竖直方向设置在环形的吊轨上，所述夹持气缸通过循环电机驱动沿着吊轨的铺设轨迹移动，所述夹持气缸在吊轨上至少形成夹持工位、清洗工位、输送工位和等待工位四个工位；所述夹持工位位于原料处，清洗工位位于脉冲清洁机构的上方，所述输送工位位于输送装置的上方；所述脉冲清洁机构包括池体、气包和脉冲管；所述气包通过支撑板水平设置在池体的顶端，所述气包的一侧边连接有脉冲气源，气包的另一侧水平设置有出气口且出气口处设置有脉冲阀；...
【技术特征摘要】
1.一种半导体洁净输送系统，其特征在于：包括吊轨、夹持气缸、脉冲清洁机构和输送装置；所述吊轨呈环形结构设置在脉冲清洁机构和输送装置之间；所述夹持气缸具有若干个且通过滑块沿着竖直方向设置在环形的吊轨上，所述夹持气缸通过循环电机驱动沿着吊轨的铺设轨迹移动，所述夹持气缸在吊轨上至少形成夹持工位、清洗工位、输送工位和等待工位四个工位；所述夹持工位位于原料处，清洗工位位于脉冲清洁机构的上方，所述输送工位位于输送装置的上方；所述脉冲清洁机构包括池体、气包和脉冲管；所述气包通过支撑板水平设置在池体的顶端，所述气包的一侧边连接有脉冲气源，气包的另一侧水平设置有出气口且出气口处设置有脉冲阀；所述脉冲管至少具有两个且脉冲...
【专利技术属性】
技术研发人员：山世清，
申请(专利权)人：江苏晶睿光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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