压膜装置及真空压膜机制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种压膜装置，包括用于收放基材的基材收放装置、分别用于收放上覆膜与下覆膜的两覆膜收放装置，以及设于基材移动路径上用于将上覆膜与下覆膜分别压合于基材上表面与下表面的压膜组件，其特征在于：还包括设于基材移动路径上且位于压膜组件上游的基材限位装置，以及分别设于上覆膜移动路径及下覆膜移动路径上的覆膜限位装置。本实用新型专利技术提供的压膜装置在工作时，基材在压膜处理前在传送的路径上经过基材限位装置，上覆膜、下覆膜在传送的路径上经过覆膜限位装置，使得基材、上覆膜、下覆膜在传送的过程中在宽度方向上保持平整、绷紧；使得上覆膜、下覆膜与基材之间的相对位置更加平整、整齐，降低了压膜处理后的次品率。

Film Pressing Device and Vacuum Film Pressing Machine

The utility model provides a film pressing device, which includes a base material collecting device for collecting and placing the substrate, a double film collecting and placing device for collecting and placing the overlay film and the underlying film respectively, and a film pressing module for pressing the overlay film and the underlying film respectively on the upper surface and the lower surface of the substrate on the moving path of the substrate. The upper base material limit device of the membrane module and the film cover limit device respectively arranged on the moving path of the overlay film and the moving path of the underlying film. When the film-pressing device provided by the utility model works, the base material passes through the base material limiting device on the transmission path before the film-pressing treatment, and the overlaying film and the underlying film pass through the Film-covering limiting device on the transmission path, so that the base material, the overlaying film and the underlying film remain flat and tight in the width direction during the transmission process; and the relative position between the overlaying film, the underlying film and the base material is made. It is smoother and neater, and reduces the defective rate after film pressing treatment.

【技术实现步骤摘要】
压膜装置及真空压膜机
本技术属于贴膜设备
，更具体地说，是涉及一种压膜装置及真空压膜机。
技术介绍
随着印刷电路板行业的迅速发展，COF(常称覆晶薄膜)精密线路的生产和应用也变得越来越广泛，相应的，对贴膜设备的精密程度和性能的要求也逐渐提高。目前的FPC(柔性印刷线路板)技术多掌握在韩国、日本、台湾等国家和地区的少数厂家手中，在国内的应用并不成熟和广泛。在卷带COF产品高精密线路中，线路仅有不到10um的宽度，对于设备及工艺的条件非常苛刻，另外，普通压膜机张力控制系统力度过大，压COF产品的超薄(29um)基材时，容易对基材造成拉扯，导致基材涨缩变形、基材和干膜皱褶、干膜偏位，次品率较高，难以满足COF精密线路的品质要求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空压膜装置，以解决现有技术中存在的压膜时基材变形、基材和干膜褶皱、干膜偏位，次品率高的问题。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：提供一种压膜装置，包括用于收放基材的基材收放装置、分别用于收放上覆膜与下覆膜的两覆膜收放装置，以及设于所述基材移动路径上用于将所述上覆膜与所述下覆膜分别压合于所述基材上表面与下表面的压膜组件，还包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.压膜装置，包括用于收放基材的基材收放装置、分别用于收放上覆膜与下覆膜的两覆膜收放装置，以及设于所述基材移动路径上用于将所述上覆膜与所述下覆膜分别压合于所述基材上表面与下表面的压膜组件，其特征在于：还包括设于所述基材移动路径上且位于所述压膜组件上游的基材限位装置，以及分别设于所述上覆膜移动路径及所述下覆膜移动路径上的覆膜限位装置。

【技术特征摘要】
1.压膜装置，包括用于收放基材的基材收放装置、分别用于收放上覆膜与下覆膜的两覆膜收放装置，以及设于所述基材移动路径上用于将所述上覆膜与所述下覆膜分别压合于所述基材上表面与下表面的压膜组件，其特征在于：还包括设于所述基材移动路径上且位于所述压膜组件上游的基材限位装置，以及分别设于所述上覆膜移动路径及所述下覆膜移动路径上的覆膜限位装置。2.如权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述基材限位装置包括用于支撑所述基材的基材限位辊以及两个套设在所述基材限位辊上、用于限制基材宽度方向位置的基材限位盘。3.如权利要求2所述的压膜装置，其特征在于：所述基材限位辊上设置有用于调节两所述基材限位盘相对位置的第一调节装置。4.如权利要求1所述的压膜装置，其特征在于：所述覆膜限位装置包括用于支撑所述上覆膜或者下覆膜的覆膜限位辊以及两个套设在所述覆膜限位辊、用于限制所述上覆膜或者下覆膜的宽度方向位置的覆膜限位盘。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：计晓东，沈洪，李晓华，
申请(专利权)人：上达电子深圳股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44