阵列基板及其制造方法及显示屏技术

本发明专利技术涉及一种阵列基板，包括显示区、以及位于所述显示区外侧的非显示区；所述非显示区包括：外围金属走线层，包括若干外围金属走线；应力吸收框，围绕在所述外围金属走线外；所述应力吸收框的底边由位于所述外围金属走线层下方的金属层或非晶硅层构成；所述应力吸收框的盖边由位于所述外围金属走线层上方的金属层构成；所述应力吸收框的侧边由位于构成所述底边的金属层或非晶硅层上方的金属层构成。上述阵列基板，应力吸收框可以吸收非显示区弯折时的弯曲应力，从而防止围绕在应力吸收框内的无机膜层断裂，进而防止外围金属走线断裂。本发明专利技术还提供一种阵列基板的制造方法和一种显示屏。

Array Substrate and Its Manufacturing Method and Display Screen

The present invention relates to an array substrate, including a display area and a non-display area located outside the display area. The non-display area includes: a peripheral metal alignment layer, including several peripheral metal alignments; a stress absorption frame, surrounded by the peripheral metal alignment; and a bottom edge of the stress absorption frame is composed of a metal layer or an amorphous silicon layer located below the peripheral metal alignment layer. The cover edge of the stress absorbing frame is composed of a metal layer located above the peripheral metal line layer, and the side edge of the stress absorbing frame is composed of a metal layer located above the metal layer constituting the bottom edge or an amorphous silicon layer. The stress absorbing frame can absorb the bending stress in the bending of the non-display area of the array substrate, thereby preventing the inorganic film layer around the stress absorbing frame from breaking, thereby preventing the outer metal line from breaking. The invention also provides a manufacturing method of an array substrate and a display screen.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制造方法及显示屏
本专利技术涉及显示
，特别是一种阵列基板及其制造方法及显示屏。
技术介绍
显示屏包括显示区(AA区)以及非显示区(非AA区)，为了达到某些功能，会要求非显示区能够弯折。例如为了实现窄边框化，将非显示区弯折到屏体的背面，从而减少边框宽度。但是，目前的显示屏，在非显示区的弯折过程中，非显示区中的外围金属走线易断裂，从而造成屏体不良。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种能够有效防止外围金属走线断裂的阵列基板。一种阵列基板，包括显示区、以及位于所述显示区外侧的非显示区；所述非显示区包括：外围金属走线层，包括若干外围金属走线；应力吸收框，围绕在所述外围金属走线外；所述应力吸收框的底边由位于所述外围金属走线层下方的金属层或非晶硅层构成；所述应力吸收框的盖边由位于所述外围金属走线层上方的金属层构成；所述应力吸收框的侧边由位于构成所述底边的金属层或非晶硅层上方的金属层构成。上述阵列基板，应力吸收框可以吸收非显示区弯折时的弯曲应力，从而防止围绕在应力吸收框内的无机膜层断裂，进而防止外围金属走线断裂。在其中一个实施例中，所述应力吸收框的截面呈矩形。在其中一个实施例中，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区、以及位于所述显示区外侧的非显示区；所述非显示区包括：外围金属走线层，包括若干外围金属走线；应力吸收框，围绕在所述外围金属走线外；所述应力吸收框的底边由位于所述外围金属走线层下方的金属层或非晶硅层构成；所述应力吸收框的盖边由位于所述外围金属走线层上方的金属层构成；所述应力吸收框的侧边由位于构成所述底边的金属层或非晶硅层上方的金属层构成。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区、以及位于所述显示区外侧的非显示区；所述非显示区包括：外围金属走线层，包括若干外围金属走线；应力吸收框，围绕在所述外围金属走线外；所述应力吸收框的底边由位于所述外围金属走线层下方的金属层或非晶硅层构成；所述应力吸收框的盖边由位于所述外围金属走线层上方的金属层构成；所述应力吸收框的侧边由位于构成所述底边的金属层或非晶硅层上方的金属层构成。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述应力吸收框的截面呈矩形。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述应力吸收框的底边由位于所述外围金属走线层下方的金属层或非晶硅层中至少两层构成；或所述应力吸收框的盖边由位于所述外围金属走线层上方的至少两层金属层构成；或所述应力吸收框的侧边包括外侧边和至少一个内侧边，所述外侧边和内侧边均由位于构成所述底边的金属层或非晶硅层上方的金属层构成。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述应力吸收框的截面呈目型或横置的目型。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：李威龙，朱晖，马宏帅，张九占，张露，韩珍珍，胡思明，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13