纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰技术

本发明专利技术公开了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。

Structure and Processing Method of Laser Anti-counterfeiting Sign and Jewelry with Nano-micro-engraving Technology

The invention discloses a nano micro-engraving technology laser anti-counterfeiting marking structure and processing method and jewelry, including a marking structure with anti-counterfeiting layer; the marking structure is provided with a decorative surface and an installation surface for installing and jewelry structure; the decorative surface is used for setting graphical and literal portraits, and the anti-counterfeiting layer is arranged on the decorative surface; the anti-counterfeiting layer includes a decorative surface containing anti-counterfeiting layer. A number of dots are made and regularly distributed by micro-sculpture technology. The dot-body connection forms a special text, figure or picture for reflecting light and forming a text, figure or picture formed by the dot-body connection on a light-color display surface. The anti-counterfeiting sign structure has several dots for reflecting laser, and several dots can form specific graphics by dot-line and line-plane, and display on the display surface by reflection, so as to achieve the anti-counterfeiting purpose.

【技术实现步骤摘要】
纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰
本专利技术涉及防伪印刷装饰材料领域，特别涉及一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰。
技术介绍
随着经济的发展，广大群众对于微雕产品的热爱愈发强烈。在当前市场中，存在许多微雕结构，微雕结构通常包括许多图形、图案、文字或色彩，在进行人为辨识观测时能够获得与众不同的视觉效果。此外，对于当前市场环境下的首饰，市面上假冒伪劣产品越来越多，商家的声誉和利益都受到极大的损害，因此商家对包装防伪性能的要求越来越高，尽可能做到别人无法仿造的程度。具有较强视觉冲击性且难于仿造的包装防伪功能受到商家的青睐。镭射全息防伪标识具有较强的视觉冲击性和趣味性，并且其制作过程和精度要求较高，一般设备及技术无法仿造，因此受到各行各业的一致认可，在烟标、酒盒、化妆品盒、牙膏盒、不干胶、软包装等包装印刷产品上都有较多应用。然而，镭射全息防伪目前更多倾向于纸质包装的应用，在首饰领域的应用还具有一定的局限性，对当前的企业商标品牌尚未达到真正的防伪要求。鉴于此，迫切需要一种结合纳米微雕技术与镭射防伪技术结合的防伪结构，使其能够应用于大多数首饰，并且在镭射激光照射下能够达到显示图形的目的，同时实现了防伪验证。公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术的总体
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。针对上述现象，本专利技术提出了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰，应用于首饰配件，包括但不限于使用镶嵌、爪镶、包镶等技术运用，旨在解决上述存在的问题，致力于装饰配件行业的发展，保护企业的品牌商标权利。
技术实现思路
为了满足上述要求，本专利技术的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，目的在于提出一种结构，能够应用于首饰配件，包括但不限于使用镶嵌、爪镶、包镶等技术运用，实现防伪效果。本专利技术的第二个目的在于提供一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法。本专利技术的第三个目的在于提供一种包括纳米微雕技术镭射防伪标志结构体首饰。为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。进一步技术方案为，所述点状体的高度为0.001-0.100mm，所述点状体的上端均处于一个平面或曲面。进一步技术方案为，所述安装面设有粘性物质，用于安装于首饰结构。进一步技术方案为，所述安装面设有安装结构，所述的安装结构采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体与首饰结构固定连接。进一步技术方案为，所述点状体上端设有保护层，用于保护点状体不会脱落衰减。一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，基于上述任一项所述的纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，包括以下步骤：刻板步骤，运用超微型自行雕刻技术，将防伪内容雕刻制成图档格式，并得到防伪图档数据；数据处理步骤，将防伪图档数据进行排版处理，将排版处理后的数据传输至微雕设备，准备进行微雕；微雕步骤，将防伪图档数据中的字体、图形或画像以纳米微雕技术雕刻在标志结构体装饰面上，获得防伪层；其中，所述刻板步骤还包括，选取预展示防伪图像，并提取所述预展示防伪图像的轮廓；依据所述轮廓以及预展示图像设计微雕图档格式并制作微雕刻板。进一步技术方案为，所述刻板步骤还包括，所述防伪图档数据包含利用355光波反射投影原理设置的点状体反射面角度信息。进一步技术方案为，所述微雕步骤还包括，所述防伪层的点状体以点成线、以线成面，所述防伪层上方设置有保护层，用于防止点状体脱落衰减。进一步技术方案为，当所述防伪层被镭射激光照射时，所述防伪层可在显示面反射出防伪信息。本专利技术还公开了一种首饰，包括如上述任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，和/或，采用上述任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法制作。相比于现有技术，本专利技术的有益效果在于：该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。同时，包含防伪标志结构体的首饰因为镭射防伪功能实现了较强视觉冲击效果，镭射防伪与防伪标志结构体印刷同步完成，加工步骤简单。此外，由于防伪标志结构体具备保护层，实现了微雕内容不可剔除，真正做到一物一码稳定性，不会产生产品褪色，脱落等情况，能够减少商标防伪衰减情况，该技术真正保证了防伪功能的持久性和唯一性。下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步描述。附图说明图1是本专利技术一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体具体实施例结构示意图；图2是图1实施例结构后视图(反面)示意图；图3是图1实施例使用镭射激光笔验证防伪标志结构体防伪效果产生投射立体结构的示意图。附图标记1标志结构体2装饰面3防伪层4点状体5安装面6安装结构具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细说明。下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1以及图2所示的结构，为本专利技术一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，包括具有防伪层3的标志结构体1；所述标志结构体1设有一个装饰面2，以及用于安装与首饰结构的安装面5，其中安装面5位于标志结构体另一端或其他面，所述标志结构体1包括但不限于柱体、条状体、快状体、管状体等；所述装饰面2用于设置图形文字画像，所述防伪层3设置于装饰面2上；所述防伪层3包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体4，所述点状体4连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。如图3所示的实施例中，当所述防伪层被镭射激光照射时，图中侧面展示的芯片为标志结构体，所述防伪层朝向白纸与镭射激光笔方向，所述防伪层可在显示面反射出防伪信息(即图中的投射立体结构，可以展示为图形或画像或字体)，其中，所述显示面为白纸(仅作为示例，亦可应用于其他显示面)，使用镭射激光笔进行防伪验证。优选地，所述点状体4的高度为0.001-0.100mm，所述点状体4的上端均处于一个平面或曲面。其中，所述点状体4的最佳高度为0.005mm。如图1以及图2所示的实施例中，所述安装面5设有胶水或粘性物质，用于安装于首饰结构上。如图2所示的实施例中，所述安装面5设有安装结构6，所述的安装结构6采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体1与首饰结构固定连接，即采用螺栓连接或焊接或铆接。所述首饰结构与标志结构体均设有用于固定连接的孔，采用螺栓或铆钉或焊接等方式使标志结构体1与首饰结构连接。优选地，所述点状体4上端设有保护层，用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。

【技术特征摘要】
1.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。2.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体的高度为0.001-0.100mm，所述点状体的上端均处于一个平面或曲面。3.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有粘性物质，用于安装于首饰结构。4.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有安装结构，所述的安装结构采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体与首饰结构固定连接。5.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体上端设有保护层，用于保护点状体不会脱落衰减。6.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，基于权利要求1-5任一项所述的纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括以下步骤：刻板步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡惠，林海坤，
申请(专利权)人：深圳圣世文化发展有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44