IQC设备及金属掩膜片的展平方法技术

本发明专利技术提供一种IQC设备及金属掩膜片的展平方法。该IQC设备包括载台以及设于所述载台下方的展平单元；所述载台用于承载金属掩膜片；该金属掩膜片在载台上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元用于通过磁力将金属掩膜片卷曲的部分向靠近载台的方向吸附，以展平金属掩膜片，达到自然展平金属掩膜片的目的，且适用于卷曲程度不同的多个金属掩膜片，后续可以精确量测金属掩膜片入料的尺寸精度，提高入料检测品质管理准确度，还可以将相同尺寸精度的金属掩膜片统一张网，实现分类张网，可以提升金属掩膜片张网后的像素位置精度至少1um，从而降低OLED产品的子像素间距，提升产品竞争力。

Flattening Method of IQC Equipment and Metal Mask

The invention provides an IQC device and a flattening method of a metal mask. The IQC device includes a platform and a flattening unit located below the platform; the platform is used to carry metal masks; the metal masks curl horizontally or vertically on the platform; and the flattening unit is used to absorb the curled part of the metal masks to the direction close to the platform by magnetic force to flatten the metal masks so as to achieve natural flattening of the metal masks. The purpose of this paper is to apply it to multiple metal masks with different crimping degree. The following can accurately measure the dimension accuracy of metal masks and improve the quality management accuracy of feeding detection. The same dimension accuracy of metal masks can also be uniformly stretched to realize classified stretching. It can improve the pixel position accuracy of metal masks at least 1um after stretching, thus reducing OLED products. Subpixel spacing improves product competitiveness.

【技术实现步骤摘要】
IQC设备及金属掩膜片的展平方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种IQC设备及金属掩膜片的展平方法。
技术介绍
有机发光二极管显示装置(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED器件通常采用氧化铟锡(ITO)电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。PDLGap(子像素间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种IQC设备，其特征在于，包括：载台(10)以及设于所述载台(10)下方的展平单元(20)；所述载台(10)用于承载金属掩膜片(30)；该金属掩膜片(30)在载台(10)上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元(20)用于通过磁力将金属掩膜片(30)卷曲的部分向靠近载台(10)的方向吸附，以展平金属掩膜片(30)。

【技术特征摘要】
1.一种IQC设备，其特征在于，包括：载台(10)以及设于所述载台(10)下方的展平单元(20)；所述载台(10)用于承载金属掩膜片(30)；该金属掩膜片(30)在载台(10)上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元(20)用于通过磁力将金属掩膜片(30)卷曲的部分向靠近载台(10)的方向吸附，以展平金属掩膜片(30)。2.如权利要求1所述的IQC设备，其特征在于，所述展平单元(20)包括相邻的第一电磁块单元(21)及第二电磁块单元(22)；所述IQC设备还包括与第一电磁块单元(21)及第二电磁块单元(22)均连接的控制单元(70)；所述控制单元(70)用于控制第一电磁块单元(21)从载台(10)的中心区域向远离中心区域的一侧运动，控制第二电磁块单元(22)从载台(10)的中心区域向远离中心区域的另一侧运动。3.如权利要求1所述的IQC设备，其特征在于，还包括设于所述载台(10)上方的量测单元(40)，该量测单元(40)用于量测展平后的金属掩膜片(30)的尺寸。4.如权利要求3所述的IQC设备，其特征在于，所述量测单元(40)还用于检测展平后的金属掩膜片(30)是否存在缺陷。5.如权利要求2所述的IQC设备，其特征在于，还包括与第一电磁块单元(21)及第二电磁块单元(22)均电性连接的电源(50)，该电源(50)用于向第一电磁块单元(21)及第二电磁块单元(22)供电，使第一电磁块单元(21)及第二电磁块单元(22)产生磁力。6.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志乔，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42