The invention belongs to the field of physical and chemical detection technology, and specifically relates to a determination method of silicon content in tin-doped indium oxide powder. The content of silicon in tin-doped indium oxide powder is determined by molybdenum blue spectrophotometry, including preparation of standard solution, preparation of analytical sample solution, determination and calculation of analytical results. The method can quickly, accurately and efficiently determine the content of silicon in tin-doped indium oxide powder. The method is simple and reliable, and can be used to monitor the quality of tin-doped indium oxide powder and promote the healthy development of tin-doped indium oxide powder industry.
【技术实现步骤摘要】
掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法
本专利技术属于理化检测
,具体涉及一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法。
技术介绍
氧化铟锡(ITO,或者掺锡氧化铟)是一种铟(III族)氧化物(In2O3)and锡(IV族)氧化物(SnO2)的混合物,通常质量比为90%In2O3,10%SnO2。它在薄膜状时,透明,略显茶色。在块状态时,它呈黄偏灰色。ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。ITO也被用于各种光学镀膜,最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。掺锡氧化铟(Indiumtinoxide,IT0)是一种n型半导体材料,在实际应用中多以薄膜的形式出现。ITO薄膜具有对可见光透明、强烈反射红外光、电阻低的特性,应用广泛。ITO薄膜的制备一般都是先将ITO粉末制成靶材,然后用直流磁控溅射法将靶材制成ITO薄膜,对于制备靶材所用的ITO粉末,要求纯度高、粒度细、分散性好、掺杂均匀性好。我国生产掺锡氧化铟粉的生产厂家有株冶集团、威海宝丽佳电子有限公司、河北鹏达新材料科技有限公司、柳州百韧特先进材料有限公司(柳州华锡铟锡材料有限公司)等,掺锡氧化铟粉主要作为制取ITO靶材的原料,使用量日益增多,ITO靶材通过磁控溅射获得的ITO导电膜作为透明电极广泛应用于笔记本电脑、电脑显示器、智能手机、液晶电视等,是当今信息产业极为重要的电子功能材料,应用极为广泛。而制取高性 ...
【技术保护点】
1.一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法,其特征在于,采用钼蓝光度法进行测定掺锡氧化铟粉中硅的含量,具体包括如下步骤:(1)制备标准溶液:①硅标准贮存溶液:准确称取0.2140 g预先在1000℃灼烧1 h并于干燥器冷却至室温的二氧化硅,ωSiO2≥99.99%,置于铂坩埚中,加入2 g无水碳酸钠并混匀,于1000 ℃高温炉中熔融10 min~15 min,取出冷却,置于400 mL聚四氟乙烯烧杯中,用热水浸出熔块并洗净坩埚,加热溶解熔块,冷却至室温,移入1 000 mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀;立即移入干燥的塑料瓶中;此溶液1 mL 含0.1 mg 硅;②硅标准溶液A: 移取20.00 mL硅标准贮存溶液于100 mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀,立即移入干燥的塑料瓶中,此溶液1 mL 含20 µg硅,贮存于塑料瓶中;③硅标准溶液B: 移取10.00 mL硅标准溶液A于100 mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀,立即移入干燥的塑料瓶中,此溶液1 mL 含2 µg硅,贮存于塑料瓶中;(2)称取1.0 g掺锡氧化铟粉试样,精确至0.0001g,将试样置于预先盛有2g氢氧化钠的30 ...
【技术特征摘要】
1.一种掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法,其特征在于,采用钼蓝光度法进行测定掺锡氧化铟粉中硅的含量,具体包括如下步骤:(1)制备标准溶液:①硅标准贮存溶液:准确称取0.2140g预先在1000℃灼烧1h并于干燥器冷却至室温的二氧化硅,ωSiO2≥99.99%,置于铂坩埚中,加入2g无水碳酸钠并混匀,于1000℃高温炉中熔融10min~15min,取出冷却,置于400mL聚四氟乙烯烧杯中,用热水浸出熔块并洗净坩埚,加热溶解熔块,冷却至室温,移入1000mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀;立即移入干燥的塑料瓶中;此溶液1mL含0.1mg硅;②硅标准溶液A:移取20.00mL硅标准贮存溶液于100mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀,立即移入干燥的塑料瓶中,此溶液1mL含20µg硅,贮存于塑料瓶中;③硅标准溶液B:移取10.00mL硅标准溶液A于100mL容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀,立即移入干燥的塑料瓶中,此溶液1mL含2µg硅,贮存于塑料瓶中;(2)称取1.0g掺锡氧化铟粉试样,精确至0.0001g,将试样置于预先盛有2g氢氧化钠的30mL银坩埚中,再覆盖4g氢氧化钠于表面,移入已升温至400℃的高温炉中除去水分,继续升温至700℃,熔融5min~10min,取出坩埚,冷却;(3)随同试样做空白试验;(4)用水吹洗干净银坩埚外部后放入400mL聚四氟乙烯烧杯中,加入30mL沸水,浸出完全后用水洗出坩埚;加入1滴10g/L的酚酞乙醇溶液,用盐酸(1+1)调至溶液红色恰好褪去,加15mL盐酸(1+1),冷却至室温,移入100mL塑料容量瓶中,用水稀释至刻度,混匀;用中速滤纸干过滤,弃去开始的部分溶液;按表1分取滤液于100mL容量瓶中,补加盐酸(1+1),用水稀释至约50mL;(5)加入5mL100g/L的钼酸铵溶液,混匀,于室温放置10min~15min...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄肇敏,韦猛,赖馥馨,林葵,周素莲,黎颖,李健,罗艳,胡永玫,黎羿合,韦莉,聂小明,黄一帆,刘平,何贵香,邓卫利,李凤,
申请(专利权)人:广西壮族自治区冶金产品质量检验站,广西壮族自治区分析测试研究中心,桂林理工大学南宁分校,
类型:发明
国别省市:广西,45
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