The application discloses a phosphorus-doped self-cleaning single silver LOW_E glass and its preparation method. The phosphorus-doped self-cleaning single silver LOW_E glass is coated with phosphorus-titanium dioxide composite film on the outer side of the glass substrate as a self-cleaning film, while the first Si3N4 film, AZO film, Ag film, NiCr film and the second Si3N4 film are successively plated on the inner surface of the glass substrate as a low-cleaning film. The radiation composite film can realize the response in the visible wavelength range of 380-780 nm, improve the visible light transmission and solar light transmission, so that the phosphorus-doped self-cleaning single silver LOW_E glass has excellent energy-saving effect and self-cleaning effect of visible light response. The preparation method of phosphorus-doped self-cleaning single silver LOW_E glass has high deposition rate, film layer and substrate. The tablet has the advantages of strong adhesion, good repeatability and low cost.
【技术实现步骤摘要】
一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃及其制备方法
本申请属于玻璃制造
,具体涉及一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃及其制备方法。
技术介绍
低辐射玻璃,又称LOW-E玻璃,它是在玻璃表面镀银膜或掺氟的氧化膜后,利用上述膜层反射远红外线的性质,达到隔热、保温的目的,其按膜系结构分为单银低辐射膜系结构和双银低辐射膜系结构,在许多公用建筑尤其是高层建筑越来越受采用。然而,低辐射镀膜玻璃作为建筑物的玻璃幕墙进行高空清洗比较困难具有一定的危险性,因此,人们在低辐射玻璃表面涂覆纳米TiO2薄膜,利用TiO2有降解机物的作用,使低辐射玻璃表面在太阳光下具有降解附着在其表面的有机污染物的能力,使附着在其表面的有机灰尘能很容易被水清洗掉。但是,纯TiO2薄膜的结晶状态中,其晶粒呈规则四方状,表现出四方晶系锐钛矿晶的形貌,不具备可见光波长范围380~780nm响应,以致自洁净效果一般,也导致可见过和太阳光透射率下降,严重影响低辐射玻璃的节能效果。
技术实现思路
本申请为了解决上述技术问题,提供了一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,具有可见光波长范围380~780nm响应的自洁净效果,不仅具有优异的节能效果,还具有良好的自洁净效果。本专利技术的另一目的是提供一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃的制备方法。为解决上述技术问题,本申请采用以下技术方案:一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,包括第一玻璃基板、第二玻璃基体以及设于两者之间的中空密封腔,所述第一玻璃基板包括第一玻璃基体、设于所述第一玻璃基体远离所述中空密封腔面上的磷二氧化钛复合薄膜层以及依次镀设于所述第一玻璃基体 ...
【技术保护点】
1.一种磷掺杂自洁净单银LOW‑E玻璃,包括第一玻璃基板(1)、第二玻璃基体(2)以及设于两者之间的中空密封腔(3),其特征在于:所述第一玻璃基板(1)包括第一玻璃基体(11)、设于所述第一玻璃基体(11)远离所述中空密封腔(3)面上的磷二氧化钛复合薄膜层(12)以及依次镀设于所述第一玻璃基体(11)靠近所述中空密封腔(3)面上的第一Si3N4膜层(13)、AZO膜层(14)、Ag膜层(15)、NiCr膜层(16)、第二Si3N4膜层(17)。
【技术特征摘要】
1.一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,包括第一玻璃基板(1)、第二玻璃基体(2)以及设于两者之间的中空密封腔(3),其特征在于:所述第一玻璃基板(1)包括第一玻璃基体(11)、设于所述第一玻璃基体(11)远离所述中空密封腔(3)面上的磷二氧化钛复合薄膜层(12)以及依次镀设于所述第一玻璃基体(11)靠近所述中空密封腔(3)面上的第一Si3N4膜层(13)、AZO膜层(14)、Ag膜层(15)、NiCr膜层(16)、第二Si3N4膜层(17)。2.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述磷二氧化钛复合薄膜层(12)膜厚90~110nm。3.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述第一Si3N4膜层(13)膜厚20~45nm。4.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述AZO膜层(14)膜厚300~500nm。5.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述Ag膜层(15)膜厚8~10nm。6.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述NiCr膜层(16)膜厚3~5nm。7.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述第二Si3N4膜层(17)膜厚50~85nm。8.根据权利要求1所述的一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述第一玻璃基体(11)与所述第二玻璃基体(2)均为厚度4~10mm的浮法玻璃。9.一种磷掺杂自洁净单银LOW-E玻璃的制备方法,其特征在于包括以下步骤:A、涂覆磷二氧化钛复合薄膜层:用辊涂法将5%掺磷TiO2溶液涂覆到厚度4~10mm的第一玻璃基体任一侧表面上,涂覆膜厚为90~110nm的磷二氧化钛复合薄膜层,涂覆后放入钢化炉中钢化,得到钢化的自洁净玻璃;B、将上述自洁净玻璃的未涂覆面清洗,清洗后送入磁控溅射镀机内逐层进行磁控溅射;C、镀设第一Si3N4膜层:用交流电源溅射,Ar、N2作为溅射气体,磁控溅射硅铝靶Si:Al=9...
【专利技术属性】
技术研发人员:林改,魏佳坤,孙元平,林伟珊,翁伟林,
申请(专利权)人:揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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