The invention discloses a low-radiation coated glass and its processing technology. The coated glass comprises a glass substrate. The surface of the glass substrate is arranged outward in turn with a first dielectric layer, a first barrier layer, a functional layer, a second barrier layer and a second dielectric layer. The optimized scheme is that the first barrier layer and the second barrier layer are graphene layer, the first barrier layer and the second barrier layer are respectively graphene layer, and the first barrier layer and the second barrier layer are graphene layer. The thickness of the barrier layer is 20 35 nm, respectively. The invention provides a low-radiation coated glass and its processing technology, which has reasonable proportioning design and simple process operation. It not only effectively prepared a low-radiation coated glass, but also optimized and improved the film layer of the coated glass, and improved its light transmittance and far-infrared reflectance while reducing the radiation rate of the coated glass. The uniformity of the film layer is better and the performance is more stable. It improves the service life of coated glass and has high practicability.
【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺
本专利技术涉及镀膜玻璃
,具体是一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃,又叫Low-E玻璃,一般采用物理或化学方法在玻璃表面上镀上含有一层或两层甚至多层膜系的金属薄膜或金属氧化物薄膜,来降低能量吸收或控制室内外能量交换,保障生活、工作的舒适性,并以此达到环保节能的目的。随着镀膜玻璃的研究和深入,我们对于玻璃的性能和需求越来越高,现如今的镀膜玻璃一般利用氧化物膜来阻隔银层与介质层,避免银层的性能受到影响,但是在实际使用中,氧化物的脆性较低,耐弯折性不强,极大地限制了我们的应用范围,这给我们带来了极大的不便。针对上述情况,我们设计了一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺,不仅需要对镀膜玻璃的膜层进行优化和提高,同时还要保证镀膜玻璃具有较低的辐射率、较好的透光率和红外反射率,这是我们亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种低辐射镀膜玻璃及其加工工艺,以解决现有技术中的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种低辐射镀膜玻璃,所述镀膜玻璃包括玻璃基片,所述玻璃基片表面向外依次设置有第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第二介质层。较优化的方案,所述第一阻挡层、第二阻挡层分别为石墨烯层,所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度分别为20-35nm。较优化的方案,所述第一介质层包括锡酸锌层、掺锡氧化锌层和氮化硅层,所述锡酸锌层位于靠近玻璃基片的一侧,所述氮化硅层位于靠近第一阻挡层的一侧,所述掺锡氧化锌层位于锡酸锌层、氮化硅层之间。较优化的方案,所述锡酸锌层的厚度为20-35nm,所述掺锡氧化锌 ...
【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述镀膜玻璃包括玻璃基片,所述玻璃基片表面向外依次设置有第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第二介质层。
【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述镀膜玻璃包括玻璃基片,所述玻璃基片表面向外依次设置有第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第二介质层。2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一阻挡层、第二阻挡层分别为石墨烯层,所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度分别为20-35nm。3.根据权利要求2所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一介质层包括锡酸锌层、掺锡氧化锌层和氮化硅层,所述锡酸锌层位于靠近玻璃基片的一侧,所述氮化硅层位于靠近第一阻挡层的一侧,所述掺锡氧化锌层位于锡酸锌层、氮化硅层之间。4.根据权利要求3所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述锡酸锌层的厚度为20-35nm,所述掺锡氧化锌层的厚度为10-20nm,所述氮化硅层的厚度为5-16nm。5.根据权利要求4所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第二介质层为Ti-Si-N层,所述第二介质的厚度为25-45nm。6.根据权利要求5所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述功能层为掺银铜层,所述功能层中银、铜的质量配比为1:2,所述功能层的厚度为5-10nm。7.根据权利要求6所述的一种低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基片为无色玻璃基片。8.一种低辐射镀膜玻璃的加工工艺,其特征在于:包括以下步骤:清洗玻璃基片;玻璃基片表面镀膜;得到成品。9.根据权利要求8所述的一种低辐射镀膜玻璃的加工工艺,其特征在于:包括以下步骤:清洗玻璃基片:首先将玻璃基片放入高锰酸钾的浓硫酸溶液中浸泡,然后用去离子水洗净,再依次放入丙酮、乙醇分别超声波清洗,再用去离子水漂洗,氮气烘干,备用;在玻璃基片表面上溅射第一介质层:在氩气和氧气氛围中溅射锡酸锌层:选用锌锡合金作为靶材,所述锌、锡的质量比为54:(46-50);取制得的锌锡合金靶材和步骤1)处理后的玻璃基片,氩气、氧气氛围中,在玻璃基片上进行溅射,磁控溅射镀膜工艺参数为:真空度为1.0×10-3Pa-1.0×10-5Pa,工作压强为0.2-1.5Pa,溅射功率为30-160W,溅射时间为0.5-1.5h,氧气的流量为60-70sccm;然后进行镀膜,制得所述锡酸锌层;进行热处理,得到基片A;在锡酸锌层上溅射掺锡氧化锌层:选用ZnO:SnO2靶材,氩气、氧气氛围中,在步骤a)处理的基片A上进行溅射,溅射工艺参数为:真空度为1.0×10-3Pa-1.0×10-5Pa,工作压强为2.4-2.8Pa,溅射功率为50-150W,溅射时间为0.8-1.2h,进行镀膜,再在氩气和氧气氛围中退火,得到基片B;在掺锡氧化锌层上溅射氮化硅层:以多晶硅为靶材,氩气、氮气氛围中,在步骤b)处理的基片B上进行溅射,溅射工艺参数为:真空度为1.0×10-3Pa-1.0×10-5Pa,溅射功率为180-220W,溅射时间为2-3h,氮气和氩气的体积比为1:4,然后进行镀膜,得到基片C;在第一介质层上,利用气相沉积法沉积第一阻挡层:取步骤2)中处理的基片C,放入石英管式炉中,抽真空,反充氩气至常压,反复3次;升温至1100-1200℃,充入氢气和甲烷,反应一段时间;再关闭碳源,温度下降至800-900℃,再升温至1100-1200℃,充入氢气和甲烷,氢气和甲烷的流量比为50:4.2sccm,反应一段时间;关闭碳源,温度降至室温,得到基片D;在第一阻挡层上溅射功能层:氩气氛围中,在步骤3)处理的基片D上进行溅射,溅射工艺参数为:真空度为3×10-3Pa,银靶、铜靶的功率分别为90-100W,溅射时间为4-6s,溅射完毕使功能层隔绝空气,得到基片E;在功能层上,利用气相沉积法沉积第二阻挡层:取步骤4)中处理的基片E,放入石英管式炉中,抽真空,通入氩气和甲烷,氩气和甲烷的体积比为3:...
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