The invention provides a novel packaging and fabrication method for LED chips. The chips are redistributed into array chips, transitional isolation photoresist layer (or other photosensitive material) is fabricated on the electrode surface of array chips, and metal layer is fabricated on the substrate or on the transitional isolation photoresist layer far from array chips. The substrate corresponds to the electrode area of the chip, and etches the through-hole. The through-hole exposure of the substrate, the transition isolation photoresist layer (or other sensitive materials) on the development array chip, and then solder paste, conductive paste or sputtering, evaporation coating, electroless coating and other welding technologies are used to weld the arrays of the chip. Packaging, making packaging devices with circuit structure, can produce various kinds of LED lighting devices, modules, LED display, especially small spacing display, Mini LED, Micro LED display panel or module.
【技术实现步骤摘要】
一种新型LED芯片封装制作方法
本专利技术涉及LED封装技术,尤其涉及一种新型LED芯片封装制作方法。
技术介绍
LED芯片封装技术有三种方式实现芯片电极与外部焊盘连接:倒装焊(FlipChipBonding)、载带自动焊(TAB-TapeAutomatedBonding)和引线键合(WireBonding)。LED芯片封装中,芯片和引线框架(支架或基板)的连接为电源和信号的分配提供了电路连接。虽然倒装焊的应用增长很快,但是目前90%以上的连接方式仍是引线键合。这个主要是基于成本的考虑。虽然倒装焊能大幅度提升封装的性能,但是过于昂贵的成本使得倒装焊仅仅用于一些高端的产品上。引线键合就是用非常细小的线把芯片上焊盘和引线框架(或者基板)连接起来的过程。有两种引线键合技术:球形焊接(ballbonding)和楔形焊接(wedgebonding)。对这两种引线键合技术,基本的步骤包括:形成第一焊点(通常在芯片表面),形成线弧,最后形成第二焊点(通常在引线框架/基板上)。两种键合的不同之处在于:球形焊接中在每次焊接循环的开始会形成一个焊球(FreeAirBall,FAB),然后把这个球焊接到焊盘上形成第一焊点;对于楔形焊接,引线在压力和超声能量下直接焊接到芯片的焊盘上。芯片与外部的电气连接是用金属引线以键合的方式把芯片上的I/O连至封装载体并经封装引脚来实现。随着IC芯片特征尺寸的缩小和集成规模的扩大,I/O的间距不断减小、数量不断增多。当I/O间距缩小到70um以下时,引线键合技术就不再适用,必须寻求新的技术途径。晶元级封装技术利用薄膜再分布上艺,使I/O可以分布 ...
【技术保护点】
1.一种新型LED芯片封装制作方法,其特征在于,将LED芯片再分布制作成阵列芯片,形成金属基板、过渡隔离光刻胶层、阵列芯片三明治结构,对过渡隔离光刻胶层进行处理,形成阵列芯片的电极区同金属基板的焊接通道,通过焊接通道实现阵列芯片的电极与金属基板的I/O焊接。
【技术特征摘要】
1.一种新型LED芯片封装制作方法,其特征在于,将LED芯片再分布制作成阵列芯片,形成金属基板、过渡隔离光刻胶层、阵列芯片三明治结构,对过渡隔离光刻胶层进行处理,形成阵列芯片的电极区同金属基板的焊接通道,通过焊接通道实现阵列芯片的电极与金属基板的I/O焊接。2.根据权利要求1所述的新型LED芯片封装制作方法,其特征在于:首先将芯片再分布制作成阵列芯片,然后将阵列芯片电极面与过渡隔离光刻胶层接触,通过金属基板对应LED芯片电极区域光刻,蚀刻制作通孔,通过基板通孔曝光、显影阵列芯片上的过渡隔离光刻胶层,然后采用焊接技术,对阵列芯片的芯片进行电极焊接和封装,制作带电路结构的封装器件。3.根据权利要求1或2所述的新型LED芯片封装制作方法,其特征在于:所述的阵列芯片包括相对设置的第一芯片面和第二芯片面,阵列芯片的电极区包括P电极和N电极,P电极和N电极处于第一芯片面,P电极和N电极之间由绝缘区隔开,金属基板包括相对设置的第一基板表面和第二基板表面,制作方法包括以下步骤:1)由分选机或固晶机将至少一个LED芯片固定在透明胶膜上制作成阵列芯片,其中LED芯片的第一芯片面设置在远离透明胶膜的一侧;2)在金属基板上形成通孔,每个LED芯片的电极区对应位置制作一个通孔;3)形成通孔的金属基板的第一基板表面涂敷光刻胶或感光材料制作过渡隔离光刻胶层;4)将透明胶膜上的阵列芯片转移固定到涂有过渡隔离光刻胶层的金属基板第一基板表面上,去除透明胶膜;5)从金属基板的第二基板表面射入光,对金属基本第一基板面和陈列芯片第一芯片面之间的过渡隔离光刻胶层进行曝光、显影;6)焊接,通过金属基板通孔,对应焊接金属基板与LED芯片电极区;7)去胶,将金属基板第一基板面和阵列芯片第一芯片面之间的光刻胶去除;8)合金,将焊接后的金属基板和芯片电极进行合金处理;9)灌胶、封装阵列芯片;10)按照需要的电路设计,在金属基板第二基板面进行金属蚀刻形成每个芯片的绝缘通道和电路连接,制作成一定电路结构的模组或面板。4.根据权利要求3所述的新型LED芯片封装制作方法,其特征在于:所述的步骤2在金属基板上形成通孔具体包括以下步骤:2-1)在金属基板至少一面涂光刻正胶;2-2)将PAD掩膜板覆盖在涂有光刻正胶的一面上;2-3)曝光、显影、蚀刻,形成通孔,然后去胶;其中,PAD掩膜板上具有透明区和非透明区,透明区与阵列芯片上LED芯片的电极区对应,其他位置为非透明区。5.根据权利要求4所述的新型LED芯片封装制作方法,其特征在于:所述的PAD掩膜板制作包括以下步骤:取一块石英玻璃板,单面制作金属涂层,在金属涂层上涂敷光刻负胶,阵列芯片覆盖到金属涂层上,进行曝光、显影,将PAD分隔掩膜光栅的透光条置于芯片正负电极中间,对准定位后,再进行曝光、显影,将显影后石英板放入蚀刻溶液中将芯片PAD电极显影区域的金属层去除,制作完成PAD掩膜板。6.根据权利要求5所述的新型LED芯片封装制作方法,其特征在于:所述的还包括PAD分隔掩膜光栅制作步骤,具体为:选...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。