在其上形成有光屏蔽膜的波导及其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种波导及其制造方法，所述波导具有形成在所述平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜，该光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，并且基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0。

A waveguide on which a light shielding film is formed and its fabrication method

The invention relates to a waveguide and a manufacturing method thereof. The waveguide has an optical shielding film formed on a cutting surface on the edge side of the planar waveguide. The thickness of the optical shielding film is 2 to 10 microns, and the optical density (OD) is 0.7 to 1.0 based on the optical shielding film with a thickness of 1.0 micron.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在其上形成有光屏蔽膜的波导及其制造方法
本申请要求于2016年12月14日提交的韩国专利申请No.10-2016-0170797的优先权的权益，该申请的全部公开内容通过引用并入本说明书中。本专利技术涉及一种具有光屏蔽膜的波导，更具体地，涉及一种包括用于抑制漏光和外部光的流入的光屏蔽层的波导。
技术介绍
由增强现实(AR)眼镜为代表的可穿戴增强现实设备需要近眼显示器(NED)以便将数字图像传输至用户的眼睛。NED的组件之一是平面波导。进入这种波导的光线在平行于波导平面的方向上传输并且反射至光栅或半透明反射镜以到达用户的眼睛。此时，一些光线传播至波导的末端并且发散至波导的边缘，在NED的操作过程中引起如图1中所示的漏光现象。应当改善这种漏光现象，因为当操作产品时它降低了用户便利性和美观性。此外，从波导的边缘进入的外部光会引起非预期的光学干涉，这会导致图像质量的劣化。因此，在波导的切割边缘上的光屏蔽涂层能够抑制外部光的流入，从而抑制从NED输出的图像质量的劣化。在过去，波导用塑料外壳覆盖，或者在其边缘粘附有胶带以屏蔽光。然而，在上述方法中，光屏蔽层的厚度厚达数十纳米至数毫米，并且难以将光屏蔽涂层的宽度控制为薄且精确至数百纳米至数微米。[现有技术文献][专利文献](专利文献1)KR10-2012-0076973A
技术实现思路
技术问题在使用油墨形成光屏蔽膜的情况下，难以通过诸如接触型印刷，例如，丝网印刷的常规方式涂布波导的窄切割面。此外，当波导的切割面被加工成弯曲表面或倾斜表面时，难以通过常规方法精确地涂布光屏蔽层。然而，作为非接触型印刷方法的喷墨印刷方法即使在弯曲的或倾斜的表面的窄切割区域中也能够精确印刷。因此，本专利技术的一个目的是提供一种波导，该波导通过用黑色油墨涂布波导的切割面以形成光屏蔽膜，来防止在波导的边缘处发生的漏光和外部光流入波导中。技术方案为了解决上述问题，本专利技术提供一种在平面波导的边缘侧的切割面上具有光屏蔽膜的波导，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0。另外，本专利技术提供一种所述波导的制造方法，包括以下步骤：a)使用可固化的油墨组合物在平面波导的边缘侧的切割面上形成厚度为2μm至10μm的光屏蔽膜的涂层；以及b)使所述光屏蔽膜的图案固化以形成基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0的光屏蔽膜。本专利技术还提供一种包括所述波导的波导模块。有益效果根据本专利技术，即使光屏蔽膜以薄的厚度形成，由于光屏蔽膜的优异的光密度和优异的粘合力，也可以防止在波导的边缘处发生的漏光现象和外部光流入波导中。附图说明图1是示出波导的用途和漏光现象的示意图；图2是示出沿着本专利技术的波导的光传播路径的示意图；图3是示出形成本专利技术的波导的光屏蔽膜的过程的示意图；图4A至图4C是示出根据本专利技术的波导的切割面的形状形成波导的方法的示意图；图5是示出根据本专利技术的一个实施方案制造的波导的横截面的示意图；图6是示出根据本专利技术的一个实施方案制造的波导的前视图的示意图。具体实施方式下文中，将更详细地描述本专利技术。本专利技术提供一种波导，在该波导上在平面波导的边缘侧的切割面上形成光屏蔽膜。对于平面波导，入射光被波导的内壁反射。此时，如果在切割面上没有形成适当的光屏蔽膜，则引起发光(漏光现象)的问题或者会从外部进入不必要的光。本专利技术的波导通过在平面波导的边缘侧的切割面上形成具有优异的光密度(OD)的小的厚度的光屏蔽膜，能够阻挡内部光的发散和外部光的流入，如图2中所示。上面形成有光屏蔽膜的波导的切割面可以被加工成平坦表面、弯曲表面或倾斜表面。在本专利技术中，通过下面描述的制造方法可以形成各种形状的光屏蔽膜。另外，所述光屏蔽膜可以在波导的切割面的侧面和侧棱上形成。通过不仅在侧面上而且在侧棱上形成光屏蔽膜，可以阻挡内部光的发散并且阻挡外部光的流入。所述光屏蔽膜包含选自炭黑、石墨、金属氧化物和有机黑色颜料中的至少一种黑色油墨颜料。炭黑的实例包括：Cisto5HIISAF-HS、CistoKH、Cisto3HHAF-HS、CistoNH、Cisto3M、Cisto300HAF-LS、Cisto116HMMAF-HS、Cisto116MAF、CistoFMFEF-HS、CistoSOFEF、CistoVGPF、CistoSVHSRF-HS和CistoSSRF(DonghaeCarbonCo.,Ltd.)；diagramblackII、diagramblackN339、diagramblackSH、diagramblackH、diagramLH、diagramHA、diagramSF、diagramN550M、diagramM、diagramE、diagramG、diagramR、diagramN760M、diagramLR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、MA77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B和OIL31B(MitsubishiChemical公司)；PRINTEX-U、PRINTEX-V、PRINTEX-140U、PRINTEX-140V、PRINTEX-95、PRINTEX-85、PRINTEX-75、PRINTEX-55、PRINTEX-45、PRINTEX-300、PRINTEX-35、PRINTEX-25、PRINTEX-200、PRINTEX-40、PRINTEX-30、PRINTEX-3、PRINTEX-A、SPECIALBLACK-550、SPECIALBLACK-350、SPECIALBLACK-250、SPECIALBLACK-100和LAMPBLACK-101(DegussaCo.,Ltd.)；RAVEN-1100ULTRA、RAVEN-1080ULTRA、RAVEN-1060ULTRA、RAVEN-1040、RAVEN-1035、RAVEN-1020、RAVEN-1000、RAVEN-890H、RAVEN-890、RAVEN-880ULTRA、RAVEN-860ULTRA、RAVEN-850、RAVEN-820、RAVEN-790ULTRA、RAVEN-780ULTRA、RAVEN-760ULTRA、RAVEN-520、RAVEN-500、RAVEN-460、RAVEN-450、RAVEN-430ULTRA、RAVEN-420、RAVEN-410、RAVEN-2500ULTRA、RAVEN-2000、RAVEN-1500、RAVEN-1255、RAVEN-1250、RAVEN-1200、RAVEN-1190ULTRA、RAVEN-1170(ColumbiaCarbonCo.)、它们的混合物等。作为所述有机黑色颜料，可以使用苯胺黑、内酰胺黑或苝黑系列，但是有机黑色颜料不限于此。基于光屏蔽膜的总重量，黑色油墨颜料的含量可以为10重量％至25重量％。黑色油墨颜料的含量应当满足上述范围以确保油墨的分散稳定性和储存稳定性并且制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种波导，包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜：其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.7至1.0。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.14 KR 10-2016-01707971.一种波导，包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜：其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.7至1.0。2.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜包含选自炭黑、石墨、金属氧化物和有机黑色颜料中的至少一种黑色油墨颜料。3.根据权利要求1所述的波导，其中，基于所述光屏蔽膜的总重量，黑色油墨颜料的含量为10重量％至25重量％。4.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜的厚度为3μm至7μm。5.根据权利要求1所述的波导，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为2μm至5μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.80至1.0。6.根据权利要求1所述的波导，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为5μm至10μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.70至0.90。7.根据权利要求1所述的波导，其中，所述波导的所述光屏蔽膜的粘合力为4B至5B。8.根据权利要求1所述的波导，其中，上面形成有所述光屏蔽膜的所述波导的所述切割面是平坦表面、弯曲表面或倾斜表面。9.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜在所述波导的所述切割面的侧面和侧棱上形成。10.一种波导的制造方法，包括：a)在所述平面波导的边缘侧的切割面上涂布可固化的油墨组合物至厚度为2μm至10μm来形成光屏蔽膜的涂层；以及b)使所述涂层...

【专利技术属性】
技术研发人员：金雅琳，俞在贤，朴圣恩，金俊衡，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR