一种铜制程用剥离液的制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种铜制程用剥离液的制备装置，包括分别与混合罐进口连接的醇醚储罐、有机溶剂储罐、缓蚀剂储罐、表面活性剂储罐、去离子水储罐和顺次连接的混合罐、调节阀、过滤装置和成品罐；所述混合罐内还设有导流机构，所述导流机构包括混合罐内上端与混合罐进口位置相对应的进液盘和与进液盘底面相连通的导流管，所述混合罐内壁设有环形凸起，所述进液盘放置在环形凸起上，所述进液盘的底面直径大于环形凸起之间的内径。本实用新型专利技术混合罐内设有导流机构，原料液进入罐体内后，流至进液盘上，原料液体在重力的作用下流出导流管，使各个组分原料充分混合，缩短了生产所需时间，生产效率有较大幅度的提高。

A preparation device of stripping solution for copper process

The utility model discloses a preparation device of stripping liquid for copper process, which comprises an alcohol ether tank, an organic solvent tank, an inhibitor tank, a surfactant tank, a deionized water tank and a sequentially connected mixing tank, a regulating valve, a filtering device and a finished product tank, which are respectively connected with the inlet of the mixing tank. The mixing tank also has a diversion mechanism, the diversion mechanism includes a mixing tank. The inner upper end of the mixing tank corresponds to the inlet position of the mixing tank and the flow guide pipe connected with the bottom of the mixing tank. The inner wall of the mixing tank is provided with an annular protrusion. The liquid inlet plate is placed on the annular protrusion, and the bottom diameter of the liquid inlet plate is larger than the inner diameter between the annular protrusions. The mixing tank of the utility model is provided with a diversion mechanism. After the raw material liquid enters the tank body, it flows to the intake tray, and the raw material liquid flows out of the diversion tube under the action of gravity, so that the raw materials of each component are fully mixed, the production time is shortened, and the production efficiency is greatly improved.

【技术实现步骤摘要】
一种铜制程用剥离液的制备装置
本技术涉及剥离液的制备
，具体涉及一种铜制程用剥离液的制备装置，用于TFT行业。
技术介绍
当集成电路芯片持续往轻、薄、短、小及高密度方向发展时，对缺陷的容忍度也相对降低，随着集成电路器件密集度的提高，单位芯片的面积也越来越小，原本不会影响良率的缺陷却变成了良率的致命杀手。在液晶面板等制造过程中，需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步使用专用的剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。剥离过程是将剥离液喷淋到刻蚀后的产品表面，剥离液会将未被紫外线照射的感光光阻溶解掉，留下被保护的部分，从而形成线路。凡是晶圆上存在的有形污染与不完美，统称为缺陷，一般包括晶圆上的物理性异物、化学性玷污和晶圆本身的缺陷。物理性异物一般指机械掉落的微尘，工艺残留下来的光刻胶，不正常的反应生成物等；化学性玷污，一般指残留化学药品，有机溶剂和光阻残留等。因此，为了避免晶圆产生物理或化学缺陷，需要制备更高品质更高纯度的剥离液。
技术实现思路
本技术的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种杂质更少，纯度更高，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜制程用剥离液的制备装置，包括分别与混合罐进口连接的醇醚储罐、有机溶剂储罐、缓蚀剂储罐、表面活性剂储罐、去离子水储罐和顺次连接的混合罐、调节阀、过滤装置和成品罐；其特征在于，所述混合罐内还设有导流机构，所述导流机构包括混合罐内上端与混合罐进口位置相对应的进液盘和与进液盘底面相连通的导流管，所述混合罐内壁设有环形凸起，所述进液盘放置在环形凸起上，所述进液盘的底面直径大于环形凸起之间的内径。

【技术特征摘要】
1.一种铜制程用剥离液的制备装置，包括分别与混合罐进口连接的醇醚储罐、有机溶剂储罐、缓蚀剂储罐、表面活性剂储罐、去离子水储罐和顺次连接的混合罐、调节阀、过滤装置和成品罐；其特征在于，所述混合罐内还设有导流机构，所述导流机构包括混合罐内上端与混合罐进口位置相对应的进液盘和与进液盘底面相连通的导流管，所述混合罐内壁设有环形凸起，所述进液盘放置在环形凸起上，所述进液盘的底面直径大于环形凸起之间的内径。2.根据权利要求1所述的铜制程用剥离液的制备装置，其特征在于，所述混合罐的进口有两个，以混合罐轴线为对称轴分别设于混合罐顶部的左右两侧。3.根据权利要求2所述的铜制程用剥离液的制备装置，其特征在于，所述导流管至少设置三个，所述至少三个导流管以...

【专利技术属性】
技术研发人员：戈士勇，
申请(专利权)人：江阴润玛电子材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32