一种冬水田农机入田下陷防止方法技术

本发明专利技术属于水稻种植技术领域，公开了一种冬水田农机入田下陷防止方法，包括：耕层深度大于20cm的冬水稻田通过连续免耕降低耕层深度，连续免耕年限2‑4年；降低耕层深度后稻田通过旋耕机旋耕保持土壤耕层在10‑15cm，旋耕机旋耕深度10cm；在水稻生长中期即分蘖盛期到拔节前第一次排水晒田，晒田强度为田间20cm耕层土壤含水量降低到60％‑70％；第二次排水晒田：在水稻生长后期即齐穗后10‑15天第二次排水晒田，土壤表层紧实度值大于收割机理论接地压力实现机收；水稻生长期间水分管理：除两次排水晒田时间外的其他时期，田间以浅水灌溉为主。本发明专利技术突破了冬水田(深脚田)水稻生产机械化技术瓶颈，并能提高水稻产量；提出了冬水田免耕年限和两次晒田强度指标。

A Method to Prevent Farming Machinery Settlement in Winter Paddy Field

The invention belongs to the field of rice planting technology, and discloses a method for preventing the subsidence of winter paddy field agricultural machinery, including: the depth of ploughing layer is reduced by continuous no-tillage in winter paddy field with a depth of more than 20 cm, and the duration of continuous no-tillage is 2 to 4 years; after reducing the depth of tillage layer, the paddy field maintains the soil tillage layer at 10 to 15 cm by rotary tillage machine, and the depth of rotary tillage machine is 10 cm at the middle stage of rice growth; During the first drainage and sunning period from tillering peak to jointing stage, the soil moisture content in the 20 cm tillage layer decreased to 60%70%. The second drainage and sunning period: in the second drainage and sunning period at the late stage of rice growth, that is, 10_15 days after full heading, the soil surface compactness value was greater than the theoretical grounding pressure of harvester to achieve machine harvesting; during rice growth, water management: except for two drainage and sunning periods During his period, shallow water irrigation was the main method in the field. The invention breaks through the bottleneck of mechanization technology of rice production in winter paddy field (deep foot field) and can improve rice yield, and puts forward the no-tillage life of winter paddy field and the intensity index of twice drying field.

【技术实现步骤摘要】
一种冬水田农机入田下陷防止方法
本专利技术属于水稻种植
，尤其涉及一种冬水田农机入田下陷防止方法。
技术介绍
目前，业内常用的现有技术是这样的：夏季种稻，冬季淹水的冬闲田，习惯上称为“冬水田”。冬水田是川东南中稻-再生稻区稻田管理的主要形式。冬水田主要作用是“集雨保栽”，该区无灌溉水源，稻田冬季集雨蓄水，保障春季育秧、插秧水源。在长期演化过程中，冬水田土壤具有特殊的物理性质，主要表现为结构分散，土壤粘结性、可塑性差，没有犁底层。过深的耕层被形容为“人下过膝、牛下齐肚、机械下田不动”，严重影响水稻种植机械化的发展。据统计，冬水田地区是全国农业机械化水平最低的地区之一。因此，研究冬水田(深脚田)农机入田下陷防止技术，突破冬水田区机械入田下陷问题，是发展该区现代农业的关键技术之一。综上所述，现有技术存在的问题是：冬水田土壤具有特殊的物理性质，主要表现为结构分散，土壤粘结性、可塑性差，没有犁底层，严重影响水稻种植机械化的发展。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题，本专利技术提供了一种冬水田农机入田下陷防止方法。本专利技术是这样实现的，一种冬水田农机入田下陷防止方法，所述冬水田农机入田下陷防止方法包括：第一步，耕层深度大于20cm的冬水稻田通过连续免耕降低耕层深度，连续免耕年限2-4年；第二步，降低耕层深度后稻田通过旋耕机旋耕保持土壤耕层在10-15cm，旋耕机旋耕深度10cm；第三步，在水稻生长中期即分蘖盛期到拔节前第一次排水晒田，晒田强度为田间20cm耕层土壤含水量降低到60％-70％；第四步，第二次排水晒田：在水稻生长后期即齐穗后10-15天第二次排水晒田，土壤表层紧实度值大于收割机理论接地压力实现机收；第五步，水稻生长期间水分管理：除两次排水晒田时间外的其他时期，田间以浅水灌溉为主。进一步，所述第三步中四川盆东南冬水田区在5月15日到5月30日期间排水晒田。进一步，所述第四步中土壤表层2.5cm紧实度值大于收割机理论接地压力，理论接地压力＝机械质量/履带接地面积。综上所述，本专利技术的优点及积极效果为：本专利技术创新性提出通过“免旋结合构建合理“耕层””和“两段晒田确保理想紧实度”的技术措施可解决机收入田下陷问题，突破了冬水田(深脚田)水稻生产机械化技术瓶颈，并能提高水稻产量；提出了冬水田免耕年限和两次晒田强度指标。附图说明图1是本专利技术实施例提供的冬水田农机入田下陷防止方法流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。针对冬水田土壤具有特殊的物理性质，主要表现为结构分散，土壤粘结性、可塑性差，没有犁底层，严重影响水稻种植机械化的发展的问题。本专利技术突破了冬水田(深脚田)水稻生产机械化技术瓶颈，并能提高水稻产量；提出了冬水田免耕年限和两次晒田强度指标。下面结合附图对本专利技术的应用原理作详细的描述。如图1所示，本专利技术实施例提供的冬水田农机入田下陷防止方法包括以下步骤：S101：连续免耕：耕层深度大于20cm的冬水稻田(深脚田)通过连续免耕降低耕层深度，连续免耕年限2-4年；S102：旋耕机旋耕整地：降低耕层深度后稻田通过旋耕机旋耕保持土壤耕层在10-15cm，旋耕机旋耕深度10cm左右，应避免蓄力或机械深翻耕；S103：第一次排水晒田：在水稻生长中期即分蘖盛期到拔节前第一次排水晒田，晒田强度为田间20cm耕层土壤含水量降低到60％-70％。如四川盆东南冬水田区一般在5月15日到5月30日期间排水晒田；S104：第二次排水晒田：在水稻生长后期即齐穗后10-15天第二次排水晒田，土壤表层(2.5cm)紧实度值大于收割机理论接地压力(理论接地压力＝机械质量/履带接地面积)可实现机收；S105：水稻生长期间水分管理：除两次排水晒田时间外的其他时期，田间以浅水灌溉为主。下面结合具体实施例对本专利技术的应用原理作进一步的描述。该技术在四川省农业科学院水稻高粱研究所泸县基地应用20亩，效果明显。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冬水田农机入田下陷防止方法，其特征在于，所述冬水田农机入田下陷防止方法包括：第一步，耕层深度大于20cm的冬水稻田通过连续免耕降低耕层深度，连续免耕年限2‑4年；第二步，降低耕层深度后稻田通过旋耕机旋耕保持土壤耕层在10‑15cm，旋耕机旋耕深度10cm；第三步，在水稻生长中期即分蘖盛期到拔节前第一次排水晒田，晒田强度为田间20cm耕层土壤含水量降低到60％‑70％；第四步，第二次排水晒田：在水稻生长后期即齐穗后10‑15天第二次排水晒田，土壤表层紧实度值大于收割机理论接地压力实现机收；第五步，水稻生长期间水分管理：除两次排水晒田时间外的其他时期，田间以浅水灌溉为主。

【技术特征摘要】
1.一种冬水田农机入田下陷防止方法，其特征在于，所述冬水田农机入田下陷防止方法包括：第一步，耕层深度大于20cm的冬水稻田通过连续免耕降低耕层深度，连续免耕年限2-4年；第二步，降低耕层深度后稻田通过旋耕机旋耕保持土壤耕层在10-15cm，旋耕机旋耕深度10cm；第三步，在水稻生长中期即分蘖盛期到拔节前第一次排水晒田，晒田强度为田间20cm耕层土壤含水量降低到60％-70％；第四步，第二次排水晒田：在水稻生长后期即齐穗后10-15天...

【专利技术属性】
技术研发人员：张林，徐富贤，熊洪，刘茂，郭晓艺，蒋鹏，周兴兵，朱永川，
申请(专利权)人：四川省农业科学院水稻高粱研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51