【技术实现步骤摘要】
一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器及其制造方法
本专利技术涉及半导体器件及其制造领域,特别涉及一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器及其制造方法。
技术介绍
随着存储技术以及电子技术的不断发展,随机存取存储器得到了广泛的应用,可以独立或集成于使用随机存取存储器的设备中,如处理器、专用集成电路或片上系统等。自旋轨道矩磁阻式随机存储器(SOT-MRAM,Spin-OrbitTorqueMagnetoresistiveRandomAccessMemory),是利用磁矩翻转进行随机存储的磁性随机存取存储器,其具有高速读写能力、高集成度以及无限次重复写入的优点。在该器件中,利用自旋轨道耦合产生自旋流,进而诱导磁体的磁矩翻转,然而,磁矩在电流作用下的翻转方向是随机的,而有效的数据存取需要磁矩的定向翻转,如何实现磁矩的定向翻转是SOT-MRAM的研究重点。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提供一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器及其制造方法,实现存储器中磁矩的定向翻转。为实现上述目的,本专利技术有如下技术方案:一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器,包括:自旋轨道耦合层;位于所述自旋轨道耦合层之 ...
【技术保护点】
1.一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器,其特征在于,包括:自旋轨道耦合层;位于所述自旋轨道耦合层之上的磁阻隧道结,所述磁阻隧道结包括由下至上依次层叠的第一磁性层、遂穿层和第二磁性层,所述第一磁性层和所述第二磁性层具有垂直各向异性;其中,沿所述自旋轨道耦合层中的电流方向一侧的磁阻隧道结中存在缺陷,所述缺陷由离子注入产生。
【技术特征摘要】
1.一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器,其特征在于,包括:自旋轨道耦合层;位于所述自旋轨道耦合层之上的磁阻隧道结,所述磁阻隧道结包括由下至上依次层叠的第一磁性层、遂穿层和第二磁性层,所述第一磁性层和所述第二磁性层具有垂直各向异性;其中,沿所述自旋轨道耦合层中的电流方向一侧的磁阻隧道结中存在缺陷,所述缺陷由离子注入产生。2.根据权利要求1所述的存储器,其特征在于,所述离子注入的离子包括N、As、Ar、Be或P。3.根据权利要求1所述的存储器,其特征在于,所述磁阻隧道结还包括所述第二磁性层之上的钉扎层以及所述钉扎层之上的保护层。4.根据权利要求1-3中任一项所述的存储器,其特征在于,在所述磁阻隧道结中,所述第一磁性层和所述第二磁性层较其他层具有更多的缺陷分布。5.根据权利要求1所述的存储器,其特征在于,所述第一磁性层和所述第二磁性层的材料可以为Co、Fe、CoFeB或FePt。6.一种自旋轨道矩磁阻式随机存储器的制造方法,其特征在于,包括:提供衬底;在所...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨美音,罗军,杨腾智,许静,
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所,
类型:发明
国别省市:北京,11
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