基板及显示面板制造技术

技术编号:21092902 阅读:25 留言:0更新日期:2019-05-11 11:12
本实用新型专利技术涉及一种基板及显示面板,其中,基板包括:基板;阵列开关,形成于衬底上;第一钝化层,形成于阵列开关上;第二钝化层,位于第一钝化层上;彩色滤光层,形成于第一钝化层和第二钝化层之间;距离调节层,形成于第一钝化层和第二钝化层之间,以增大第一钝化层和第二钝化层之间的距离;以及像素电极层,形成于第二钝化层上;像素电极层通过贯穿第一钝化层、彩色滤光层、距离调节层以及第二钝化层的过孔与阵列开关电连接。上述基板可以降低像素电极和数据线之间的耦合电容,提高显示面板的显示质量。

【技术实现步骤摘要】
基板及显示面板
本技术涉及显示面板
,特别是涉及一种基板及显示面板。
技术介绍
通常液晶显示其都是由背光模组、TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)基板、CF(colorfilter,彩色滤光片)基板以及两个基板之间的液晶(LC)层组成。其基板原理就是通过在两基板上施加电压使得液晶分子发生偏转,将背光模组的光线折射出来产生画面。COA(Color-filteronArray,彩色滤光阵列基板,也称阵列上彩色滤光基板)技术是一种将彩色滤光片直接做到TFT基板上的一种集成技术。传统的彩色滤光阵列基板中,像素电极和数据线之间的耦合电容较大,会影响显示面板的显示质量。
技术实现思路
基于此,有必要针对传统的彩色滤光阵列基板中,像素电极和数据线之间的耦合电容较大,会影响显示面板的显示质量的问题,提供一种基板及显示面板。一种基板,包括:衬底;阵列开关,形成于所述衬底上;第一钝化层,形成于所述阵列开关上;第二钝化层,位于所述第一钝化层上;至少一层彩色滤光层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间;距离调节层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间,以增大所述第一钝化层和所述第二钝化层之间的距离;以及像素电极层,形成于所述第二钝化层上;所述像素电极层通过贯穿所述第一钝化层、所述彩色滤光层、所述距离调节层以及所述第二钝化层的过孔与所述阵列开关电连接。上述基板在第一钝化层和第二钝化层之间除了形成有彩色滤光层之外,还形成有距离调节层。距离调节层用于增大第一钝化层和第二钝化层之间的距离,从而使得形成于第二钝化层上的像素电极与阵列开关的数据线的距离增大,进而可以降低像素电极和数据线之间的耦合电容,提高显示面板的显示质量。在其中一个实施例中,所述第一钝化层在所述衬底上的投影位于所述距离调节层在所述衬底上的投影内部;所述距离调节层在所述衬底上的投影位于所述第二钝化层在所述衬底上的投影内部。在其中一个实施例中,所述距离调节层包括钝化层和彩色滤光层中的至少一种。在其中一个实施例中,所述距离调节层为通过与所述第一钝化层和/或所述第二钝化层相同的光罩制备而成的膜层;或者所述距离调节层为通过与所述彩色滤光层相同的光罩制备而成的膜层。在其中一个实施例中,所述距离调节层为钝化层;所述距离调节层的层数为1~5层。在其中一个实施例中,各所述距离调节层设置在相邻两层彩色滤光层之间。在其中一个实施例中,所述距离调节层为透明膜层。在其中一个实施例中,各所述距离调节层的表面均为平坦面。一种基板,包括:衬底;阵列开关,形成于所述衬底上;第一钝化层,形成于所述阵列开关上;第二钝化层,位于所述第一钝化层上;两层彩色滤光层,均形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间;距离调节层,形成于所述两层彩色滤光层之间,以增大所述第一钝化层和所述第二钝化层之间的距离;所述距离调节层为钝化层;以及像素电极层,形成于所述第二钝化层上;所述像素电极层通过贯穿所述第一钝化层、所述彩色滤光层、所述距离调节层以及所述第二钝化层的过孔与所述阵列开关电连接。一种显示面板,包括如前述任一实施例所述的基板。附图说明图1为传统的基板的结构示意图;图2为一实施例中的基板的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。在本技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“横向”、“上”、“下”“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”以及“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,需要说明的是,当元件被称为“形成在另一元件上”时,它可以直接连接到另一元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以直接连接到另一元件或者同时存在居中元件。相反,当元件被称作“直接在”另一元件“上”时,不存在中间元件。彩色滤光阵列(Color-filteronArray,COA)基板是指将彩色滤光层直接集成在TFT(ThinFilmTransistor、薄膜晶体管)后得到的基板结构。图1为传统的彩色滤光阵列基板(后文中统称为COA基板)的结构示意图。参见图1,该COA基板包括基板102、阵列开关110、第一钝化层104、彩色滤光层120、第二钝化层130以及形成在第二钝化层130上的像素电极140。阵列开关110形成于基板102一侧。第一钝化层104形成于阵列开关110上远离基板102的一侧。彩色滤光层120形成在第一钝化层110上远离阵列开关110的一侧。第二钝化层130则形成在彩色滤光层120上远离第一钝化层110的一侧。像素电极140形成在第二钝化层130上,并通过过孔150与阵列开关110电连接。阵列开关110可以采用本领域常用的阵列开关结构来,且本领域技术人员均知晓像素电极140通过过孔150是与阵列开关110中的漏极连接。从图1中可以看出,相对于传统的阵列开关与彩膜基板相对设置的结构而言,COA基板将彩色滤光层120形成在第一钝化层104上,然后再在彩色滤光层120上形成第二钝化层130,继而在第二钝化层130上形成像素电极140,导致像素电极140与阵列开关110上的不相连的导电电极之间形成有寄生电容Cpd,从而会影像显示面板的显示质量。为解决传统的COA基板所带来的显示质量问题,提供了一种基板。一实施例中的基板如图2所示。该基板包括衬底202、阵列开关210、第一钝化层204、彩色滤光层220、距离调节层230、第二钝化层240以及像素电极层250。阵列开关设置在衬底202上。在本案中以衬底202上设置有阵列开关210的一侧为上,相对侧为下。第一钝化层204形成在阵列开关210上。第一钝化层204作为保护层,用于对阵列开关进行保护,以将阵列开关中的金属表面转化为不易被氧化的状态,而延缓金属的腐蚀速度。第二钝化层240形成在第一钝化层204上。彩色滤光层220形成在第一钝化层204和第二钝化层240之间。彩色滤光层220至少为一层。距离调节层230同样设置在第一钝化层204和第二钝化层240之间。像素电极层250形成在第二钝化层240上。像素电极250通过贯穿第一钝化层204、彩色滤光层220、距离调节层230以及第二钝化层240的过孔260与阵列开关210电连接。作为本领域技术人员均知晓,像素电极250是与阵列开关210中的漏极连接。上述基板在第一钝化层204和第二钝化层240之间除了形成有彩色滤光层220之外,还形成有距离调节层230。距离调节层230能够增大第一钝化层204和第二钝化层240之间的距离,从而也就增大了像素电极层250与阵列开关210之间的距离,也即使得形成于第二钝化层240上的像素电极250与阵列开关210的数据线的距离增大,进而可以降低像素电极和数据线之间的耦合电容,提高显示面板的显示质量。在一实施例中,第一钝化层204在衬底202上的投影位于距离调节层230在衬底20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板,其特征在于,包括:衬底;阵列开关,形成于所述衬底上;第一钝化层,形成于所述阵列开关上;第二钝化层,位于所述第一钝化层上;至少一层彩色滤光层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间;距离调节层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间,以增大所述第一钝化层和所述第二钝化层之间的距离;以及像素电极层,形成于所述第二钝化层上;所述像素电极层通过贯穿所述第一钝化层、所述彩色滤光层、所述距离调节层以及所述第二钝化层的过孔与所述阵列开关电连接。

【技术特征摘要】
1.一种基板,其特征在于,包括:衬底;阵列开关,形成于所述衬底上;第一钝化层,形成于所述阵列开关上;第二钝化层,位于所述第一钝化层上;至少一层彩色滤光层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间;距离调节层,形成于所述第一钝化层和所述第二钝化层之间,以增大所述第一钝化层和所述第二钝化层之间的距离;以及像素电极层,形成于所述第二钝化层上;所述像素电极层通过贯穿所述第一钝化层、所述彩色滤光层、所述距离调节层以及所述第二钝化层的过孔与所述阵列开关电连接。2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述第一钝化层在所述衬底上的投影位于所述距离调节层在所述衬底上的投影的内部;所述距离调节层在所述衬底上的投影位于所述第二钝化层在所述衬底上的投影的内部。3.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述距离调节层包括钝化层和彩色滤光层中的至少一种。4.根据权利要求3所述的基板,其特征在于,所述距离调节层为通过与所述第一钝化层和/或所述第二钝化层相同的光罩制备而成的膜层;或者所述距离调节层为通过与所述彩...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋振莉
申请(专利权)人:惠科股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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