基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜及其制备方法，能够实现宽谱范围内高效率的减反。本发明专利技术所涉及的制备方法，其特征在于，包括：步骤1.通过电化学氧化方式对经氧化铝片后得到的AAO模板进一步深度氧化扩孔，使AAO模板上形成多个聚集体单元，每个聚集体单元均为多孔结构，得到具有聚集体单元的AAO模板；步骤2.通过旋涂方式在具有聚集体单元的AAO模板上形成一层保护膜；步骤3.腐蚀去除背部的铝基底，得到自独立的AAO模板；步骤4.将自独立的AAO模板转移到衬底上，用溶剂去除保护膜，得到形成有多个团簇状聚集单元的AAO模板；步骤5.在具有团簇聚集单元的AAO模板上沉积纳米颗粒，得到宽谱减反膜。

Wide-spectrum antireflective film based on anodic alumina template and its preparation method

The invention provides a broad-spectrum anti-reflection film based on anodic alumina template and a preparation method thereof, which can realize high-efficiency anti-reflection in a wide-spectrum range. The preparation method of the present invention is characterized by: step 1. The AAO template obtained from alumina sheet is further oxidized and expanded by electrochemical oxidation, so that multiple aggregate units are formed on the AAO template, each aggregate unit is porous structure, and the AAO template with aggregate units is obtained; step 2. The AAO template with aggregate units is obtained by spin coating method. A protective film is formed on the AAO template; Step 3. Corrosion removes the aluminium substrate on the back to obtain the self-independent AAO template; Step 4. Transfer the self-independent AAO template onto the substrate, remove the protective film with solvent, and obtain the AAO template with multiple cluster-like aggregation units; Step 5. Deposition of nanoparticles on the AAO template with cluster-like aggregation units to obtain broad-spectrum antireflection film.

【技术实现步骤摘要】
基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜及其制备方法
本专利技术属于光学薄膜
，具体涉及一种基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜及其制备方法。技术背景减反膜是一种应用范围很广的光学镀膜，广泛应用于各种光学器件、太阳能电池、平板显示器、热反射镜等领域，在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位。减反膜的研究依赖其制备工艺，制备出高效率、宽光谱的减反膜有利于其科学的研究和应用的发展。随着离子束技术、激光技术的应用，人们研究了多种减反膜的工艺。比如自上而下的刻蚀技术：EBL、FIB、RIE等，这些方法都有一定的局限性，高级的设备，复杂的工艺或者小面积的生产。另外，自下而上的生长薄膜的工艺，也由于低效率和窄波段，不能满足现代科技的应用，所以自下而上的自组装技术应运而生。物理上应用比较广的模板有阳极氧化铝(AAO)模板、聚苯乙烯(PS)微球、二氧化硅微球等。由于可以利用模板的大小来微观调控其间颗粒的尺寸，减反效率在一定波段得到了很大的提升。但是要实现宽谱范围内的高效率减反，仍然是一个难题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而进行的，目的在于提出一种基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜及其制备方法，能够实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1.通过电化学氧化方式对经氧化铝片后得到的AAO模板进一步深度氧化扩孔，使AAO模板上形成多个聚集体单元，每个聚集体单元均为多孔结构，得到具有聚集体单元的AAO模板；步骤2.通过旋涂方式在具有聚集体单元的AAO模板上形成一层保护膜；步骤3.腐蚀去除背部的铝基底，得到自独立的AAO模板；步骤4.将自独立的AAO模板转移到衬底上，用溶剂去除保护膜，得到空隙进一步扩大、形成有多个团簇状聚集单元的AAO模板；步骤5.在具有团簇聚集单元的AAO模板上沉积纳米颗粒，得到宽谱减反膜。

【技术特征摘要】
1.一种基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1.通过电化学氧化方式对经氧化铝片后得到的AAO模板进一步深度氧化扩孔，使AAO模板上形成多个聚集体单元，每个聚集体单元均为多孔结构，得到具有聚集体单元的AAO模板；步骤2.通过旋涂方式在具有聚集体单元的AAO模板上形成一层保护膜；步骤3.腐蚀去除背部的铝基底，得到自独立的AAO模板；步骤4.将自独立的AAO模板转移到衬底上，用溶剂去除保护膜，得到空隙进一步扩大、形成有多个团簇状聚集单元的AAO模板；步骤5.在具有团簇聚集单元的AAO模板上沉积纳米颗粒，得到宽谱减反膜。2.根据权利要求1所述的基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜的制备方法，其特征在于：其中，在步骤1中，深度氧化扩孔的时间至少为10min。3.根据权利要求1所述的基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜的制备方法，其特征在于：其中，在步骤1中，多孔结构的孔深为300nm～100μm，相邻聚集单元之间形成的空隙的深度也为300nm～100μm。4.根据权利要求1所述的基于阳极氧化铝模板的宽谱减反膜的制备方法，其特征在于：其中，在步骤2中，是将PMMA旋涂在具有聚集体单元的AAO模板...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘昌，李慧，吴昊，张恒，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42