The invention relates to a preparation method of high-strength embedded anti-reflection film for optical plastics surface, which includes the following steps: (1) in clean environment, the optical plastics substrate material is washed and purged to obtain a clean optical plastics substrate material; (2) in clean environment, the clean optical plastics substrate material obtained in step (1) is coated with uniform anti-reflection film to obtain plating. Optical plastics with antireflective films were prepared; (3) Optical plastics with antireflective films were prepared by using volatile organic solvents; (2) Optical plastics coated with antireflective films were treated in atmosphere. Compared with the existing technology, while maintaining the original excellent optical transmission performance, the invention greatly improves the bonding force between the film and the base interface, greatly improves the mechanical properties, flexibly adjusts the depth of the anti-reflection film embedded in the surface of optical plastics according to the requirements, and the coated anti-reflection film can be prepared directly on a large-area substrate by a simple operation method, which is easy to achieve low cost and large-scale. Industrial production.
【技术实现步骤摘要】
一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法
本专利技术涉及一种光学薄膜制备方法,尤其是涉及一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法。
技术介绍
与玻璃基底相比,光学塑料基底具有更廉价、更轻便、柔性且不易碎等优势,故可广泛应用于电子设备、光伏设备和眼镜片等领域。由于塑料基底(如PC、PMMA等)大多耐热性极差,故应用于塑料基底上的减反膜需采用低温的方式制备。在众多的镀膜方法中,溶胶-凝胶技术的制备过程无需高温,镀制的薄膜折射率可控且适合大尺寸不规则形状镀膜,因此可以用于批量生产多功能柔性光学元件的减反膜。然而,由于溶胶-凝胶薄膜与基底粘附力极差,通常需要高温热处理来提高薄膜的强度,光学塑料不耐热的特点则限制了溶胶-凝胶光学薄膜在其表面的应用。针对溶胶-凝胶光学薄膜在机械强度方面存在的问题,科研工作者们开展了大量研究。中国CN201610333647.5公开了一种高强度双层减反膜的制备方法,包括以下步骤:1)氧化钛溶胶的制备;2)氧化硅溶胶的制备;3)玻璃片的准备;4)镀双层减反膜;5)烘干、成品,获得了拥有优良机械性能的减反膜。中国专利CN201610285617.1公开了一种高强度宽波段减反膜的制备方法,该薄膜采用不同折射率氧化硅纳米颗粒堆叠而成,经高温煅烧后机械强度得到很大提升。上述两种方法制得的减反膜不仅拥有较高的光学透过率,其耐用性也有大幅提高。但上述方法镀制的减反膜仅在玻璃基底上进行研究,并未提及可以在其它基底上有所应用,且其制备过程所需的高温热处理对光学塑料基底是极不适用的。中国专利CN201720969074.5公开了一种减反膜镜片, ...
【技术保护点】
1.一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:(1)清洁环境下,将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫,得到洁净的光学塑料基底材料;(2)清洁环境下,将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜,得到镀制了减反膜的光学塑料;(3)将挥发性有机溶剂置于恒温密闭环境中备用;(4)将步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料放入步骤(3)的密闭环境中进行反应,即完成制备。
【技术特征摘要】
1.一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:(1)清洁环境下,将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫,得到洁净的光学塑料基底材料;(2)清洁环境下,将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜,得到镀制了减反膜的光学塑料;(3)将挥发性有机溶剂置于恒温密闭环境中备用;(4)将步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料放入步骤(3)的密闭环境中进行反应,即完成制备。2.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法,其特征在于,步骤(1)中:所述光学塑料基底材料为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯丙烯腈、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯、聚苯乙烯中的一种。3.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法,其特征在于,步骤(1)和(2)中所述清洁环境的相对湿度小于50%。4.根据权利要求1所述的一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述冲洗吹扫的步骤为:用无水乙醇冲洗基底材料表面5-10s,以干净的无纺布擦拭并用氮气吹去表面残余的乙醇残...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晓栋,赵慧月,沈军,苏怡璇,
申请(专利权)人:同济大学,
类型:发明
国别省市:上海,31
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