【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射成像装置
本专利技术涉及一种辐射成像装置、辐射成像方法以及计算机程序。更具体地,本专利技术的实施例涉及一种自主便携式辐射测量建模工具,用于在诸如核设施的区域内采集空间记录的、准直的辐射测量并且分析该辐射测量以识别辐射源在设施内的分布。
技术介绍
当操作或者停止使用包含辐射材料的设施时,通常有必要理解该材料的分布,使得可以确定其对环境和进入该环境的任何人的影响。通常情况是,也需要确定这种设施的物理性质。用于确定该信息的传统方法通常包括庞大的设备,并且依赖于围绕设施的各个位置处的外部参考(诸如标记或固定的参考点)。这通常在潜在受污染的环境中是不允许或不切实际的。
技术实现思路
本专利技术的目的在于通过提供一种装置和方法来缓解这一问题,该装置和方法以完全独立于所调查的设施并可以在不依赖于任何外部输入或参考的情况下部署的方式采集空间和辐射数据。相应地,本专利技术的一个方面提供了一种辐射成像装置,该辐射成像装置包括:光学成像装置,该光学成像装置被构造成使现实世界结构成像;位置和方位探测器,该位置和方位探测器被构造成确定相对于作为固定参考系的现实世界结构以六个自由度表示的辐射 ...
【技术保护点】
1.一种辐射成像装置,包括:光学成像装置,所述光学成像装置被构造成使现实世界结构成像;位置和方位探测器,所述位置和方位探测器被构造成确定相对于作为固定参考系的现实世界结构以六个自由度表示的所述辐射成像装置的瞬时位置和方位;辐射探测器,所述辐射探测器被构造成探测电离辐射;辐射源确定部分,所述辐射源确定部分被构造成基于由所述辐射探测器探测的电离辐射的数据结合相对于现实世界结构的所述辐射成像装置的位置和方位的数据来确定辐射源的分布;和图像生成器,所述图像生成器被构造成生成组合图像的数据,所述组合图像包括由所述光学成像装置成像的现实世界结构的光学图像和基于来自所述辐射源确定部分的数 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.30 GB 1611506.51.一种辐射成像装置,包括:光学成像装置,所述光学成像装置被构造成使现实世界结构成像;位置和方位探测器,所述位置和方位探测器被构造成确定相对于作为固定参考系的现实世界结构以六个自由度表示的所述辐射成像装置的瞬时位置和方位;辐射探测器,所述辐射探测器被构造成探测电离辐射;辐射源确定部分,所述辐射源确定部分被构造成基于由所述辐射探测器探测的电离辐射的数据结合相对于现实世界结构的所述辐射成像装置的位置和方位的数据来确定辐射源的分布;和图像生成器,所述图像生成器被构造成生成组合图像的数据,所述组合图像包括由所述光学成像装置成像的现实世界结构的光学图像和基于来自所述辐射源确定部分的数据表示辐射源分布的叠加图像。2.根据权利要求1所述的辐射成像装置,其中,所述辐射探测器被构造成测量电离辐射的量级;和所述辐射源确定部分被构造成确定辐射源的放射性。3.根据权利要求2所述的辐射成像装置,其中,所述图像生成器被构造成生成组合图像的数据,使得所述叠加图像基于来自所述辐射源确定部分的数据表示辐射源的放射性。4.根据任一前述权利要求所述的辐射成像装置,包括:准直器,所述准直器被构造成使电离辐射准直;其中,所述辐射探测器被构造成探测由所述准直器准直的电离辐射。5.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射成像装置,其中,所述辐射探测器是被构造成探测电离辐射的康普顿摄像机。6.根据任一前述权利要求所述的辐射成像装置,其中:所述位置和方位探测器包括范围传感器,所述范围传感器被构造成测量以至少两个维度表示的从所述辐射成像装置到现实世界结构的距离的范围数据;和所述辐射成像装置包括处理单元,所述处理单元被构造成将测量的范围数据和参考范围数据对齐,以便确定相对于作为固定参考系的现实世界结构以至少两个维度表示的所述辐射成像装置的瞬时位置。7.根据权利要求6所述的辐射成像装置,其中,所述处理单元被构造成计算最好地使测量的范围数据与先前测量的范围数据对齐的平移和旋转,以便测量所述辐射成像装置随着时间的位置和/或方位的变化。8.根据权利要求6或7所述的辐射成像装置,其中,所述处理单元被构造成将测量的范围数据与参考范围数据实时对齐,以便建立被调查区域的模型,其中,所述模型以至少两个维度表示。9.根据权利要求8所述的辐射成像装置,包括:显示器,所述显示器被构造成向用户显示所述模型。10.根据权利要求6至8中任一项所述的辐射成像装置,包括:显示器,所述显示器被构造成向用户输出信息以指示所述辐射成像装置在固定参考系内的瞬时位置。11.根据任一前述权利要求所述的辐射成像装置,包括:显示器,所述显示器被构造成基于由所述图像生成器生成的...
【专利技术属性】
技术研发人员:马修·保罗·梅勒,阿什利·纳皮耶,
申请(专利权)人:创造技术有限公司,
类型:发明
国别省市:英国,GB
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