【技术实现步骤摘要】
单晶圆卡盘及使用方法
本专利技术涉及单晶圆清洗
,尤其是涉及一种单晶圆卡盘及使用方法。
技术介绍
在半导体晶圆制造工艺过程中,单晶圆需要经过多次的清洗步骤。单晶圆湿法清洗,分为槽式清洗和单晶圆清洗两种方式。单晶圆清洗可以降低重要的清洗过程中交叉污染的风险,提高成品率。单晶圆清洗工艺中很重要的一环就是对单晶圆的支撑、夹持装置,由于现在对单晶圆的要求越来越高,尺寸越来越小,可接触的晶圆区域也逐渐变小。但是在进行工艺时对单晶圆清洗的均匀性、机械手夹持的精度等方面的要求非常高,同时还要保证方便装卡、拆卸,有足够的操作空间等等因素,导致对单晶圆的承载、固定极其困难。在单晶圆清洗装置中,由于单晶圆厚度薄,因此在大部分处理过程中需要夹具固定,但现有的技术中夹具结构复杂,装夹及拆卸不便,在取放过程中容易出现掉落或碎裂情况而损坏单晶圆。公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术总体
技术介绍
的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种单晶圆卡盘及使用方法,以缓解现有技术中存在的夹具结构复杂、 ...
【技术保护点】
1.一种单晶圆卡盘,其特征在于,包括基座、压板、第一限位柱、第二限位柱和支撑柱;多个所述第一限位柱圆形阵列于所述基座,所述第一限位柱的远离所述基座的端部与所述压板连接;多个所述支撑柱间隔设置在所述基座,并指向所述压板,且所述支撑柱位于多个所述第一限位柱围成的圆形空间内;多个所述第二限位柱间隔设置于所述压板,并指向所述基座。
【技术特征摘要】
1.一种单晶圆卡盘,其特征在于,包括基座、压板、第一限位柱、第二限位柱和支撑柱;多个所述第一限位柱圆形阵列于所述基座,所述第一限位柱的远离所述基座的端部与所述压板连接;多个所述支撑柱间隔设置在所述基座,并指向所述压板,且所述支撑柱位于多个所述第一限位柱围成的圆形空间内;多个所述第二限位柱间隔设置于所述压板,并指向所述基座。2.根据权利要求1所述的单晶圆卡盘,其特征在于,多个所述支撑柱与多个所述第二限位柱在垂直于所述基座方向一一对应。3.根据权利要求2所述的单晶圆卡盘,其特征在于,多个所述支撑柱在所述基座上圆形阵列,并且,多个所述支撑柱的阵列圆心与多个所述第一限位柱的阵列圆心重合。4.根据权利要求3所述的单晶圆卡盘,其特征在于,所述压板包括圆环部和凸出部;多个所述凸出部沿圆环部的周向间隔设置于所述圆环部的内侧;所述第一限位柱与所述圆环部连接,所述第二限位柱一一...
【专利技术属性】
技术研发人员:王洪建,赵宏亮,刘建民,高津平,
申请(专利权)人:北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所,
类型:发明
国别省市:北京,11
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