一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法技术

本发明专利技术公开了一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法，所述方法包括以下步骤：步骤1)获取符合K统计分布模型的观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N；步骤2)利用观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N，构造R估计器，从而对K统计分布模型的形状参数进行估计；步骤3)利用得到的K统计分布模型的形状参数，计算恒虚警检测方法中的自适应检测门限值；将待检测量与门限值进行对比；若大于门限值，判断为有目标；否则，判断为无目标。本发明专利技术的方法中利用R估计器对K统计分布模型的参数进行估计，该R估计器不论观测样本大小，对于取值范围在0.2～10之间的待估形状参数都有着较为优秀的估计精度，打破了现有估计器对于不同估计情况的局限性，使得同一个估计器能够适应更广泛的应用。

【技术实现步骤摘要】
一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法
本专利技术涉及雷达和声纳数据处理领域，具体涉及一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法。
技术介绍
近年来，随着高分辨率雷达和声纳的应用，空间内散射体回波的统计特性已经不满足中心极限定理的条件，故其背景统计特性偏离瑞利分布，即重拖尾性质的非瑞利分布。而这类系统中广泛使用的恒虚警(CFAR)方法依赖于背景的统计分布模型。背景分布模型的偏离会导致虚警率的提高，降低系统的检测性能，甚至导致系统不能正常工作。因此，寻找更符合实际背景噪声统计分布模型参数的估计方法，为建立模型提供更好的支持成为该领域重要的问题之一。K分布是目前最常用的一种描述非高斯混响的分布模型，它的两个分布参数(形状参数和尺度参数)具有明确的物理解释，允许我们将声纳系统的实际环境与匹配滤波输出的混响包络的概率密度函数有机地联系起来，使预测不同声纳系统配置的性能成为可能。K分布的形状参数与主动声纳系统每个分辨单元内散射体数目有关，决定着分布的拖尾程度，相较于尺度参数，对声纳系统虚警概率和检测性能的影响更大。因此，对K分布形状参数估计方法的研究是目前声纳领域的研究热点之一。关于K分布杂波本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法，包括以下步骤：步骤1)获取符合K统计分布模型的观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N；步骤2)利用观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N，构造R估计器，从而对K统计分布模型的形状参数进行估计；步骤3)利用得到的K统计分布模型的形状参数，计算恒虚警检测方法中的自适应检测门限值；将待检测量与门限值进行对比；若大于门限值，判断为有目标；否则，判断为无目标。

【技术特征摘要】
1.一种基于K统计分布模型背景的目标检测方法，包括以下步骤：步骤1)获取符合K统计分布模型的观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N；步骤2)利用观测样本数据{zi}，i＝1，2，...，N，构造R估计器，从而对K统计分布模型的形状参数进行估计；步骤3)利用得到的K统计分布模型的形状参数，计算恒虚警检测方法中的自适应检测门限值；将待检测量与门限值进行对比；若大于门限值，判断为有目标；否则，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐达，罗海力，郝程鹏，刘明刚，李娜，施博，闫晟，宿晓静，朱东升，
申请(专利权)人：中国科学院声学研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11