The invention provides an active matrix organic light emitting diode panel, which can avoid the color deviation phenomenon at the edge of the display area, make the RGB pixel units not arranged in a fixed pattern at the unconventional pixel structure float to the corresponding anode material layer, and avoid the pixel units of unconventional pixel structure being unable to pair when receiving the image display control signal. The image display control signal should normally display the corresponding image, resulting in the problem of color deviation, so as to make the screen display normally and improve the problem of color deviation.
【技术实现步骤摘要】
一种有源矩阵有机发光二极管面板
本专利技术涉及有源矩阵有机发光二极管(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode,以下简称AMOLED)显示
,尤其是涉及一种避免显示区域边缘处产生色偏现象的AMOLED面板。
技术介绍
相较于传统液晶显示(LiquidCrystalDisplay)屏幕,有源矩阵有机发光二极管(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode,以下简称AMOLED)屏幕具有响应速度快、自发光、广视角、显示效果好以及较低电能消耗等优点。AMOLED也适于应用在柔性曲面面板上。为了使面板更美观,屏占比更大,柔性曲面面板又引入了圆角设计。然而,柔性曲面面板在引入圆角设计时,随之而来的是圆角边缘处产生色偏(colorshift)现象的问题。当红色(Red,R)、绿色(Green,G)、蓝色(Blue,B)像素单元以RGBG钻石排列方式(RGBGDiamondlayout)呈现规律排列时,现有采用直边边缘设计的AMOLED面板在直边边缘处可以利用图像演算来改善色偏现象的问题。但当AMOLED面板使用圆角设计时,由于圆角半径和圆角弧度的问题,位在圆角边缘的RGB像素单元排列不必然具有一定的规律,从而导致产生色偏现象时,不易仅利用图像算法来改善色偏现象。因此,需要提出一种新的AMOLED面板以解决现有AMOLED面板在使用圆角设计时产生色偏现象的缺陷。
技术实现思路
本专利技术提供一种避免显示区域边缘处产生色偏现象的AMOLED面板,能够解决现有技术的缺陷。本专利技术提供的技术方案如下:本专利技 ...
【技术保护点】
1.一种避免显示区域边缘处产生色偏现象的有源矩阵有机发光二极管(Active Matrix Organic Light Emitting Diode,AMOLED)面板,其特征在于,所述AMOLED面板包括:基板;常规像素结构,所述常规像素结构包括:第一多晶和栅极层制作于所述基板上;第一间绝缘层制作于所述第一多晶和栅极层上,并且在所述第一间绝缘层及所述第一多晶和栅极层上与第一源极层和第一漏极层的相应位置处形成第一过孔,所述第一源极层和所述第一漏极层分别制作于所述第一间绝缘层上相应位置处的所述第一过孔内并延伸至所述第一过孔外;第一平坦化层制作于所述第一间绝缘层、所述第一源极层与所述第一漏极层上,所述第一平坦化层覆盖所述第一间绝缘层、所述第一源极层与所述第一漏极层,并在所述第一平坦化层上与所述第一漏极层相应的位置处形成第二过孔;第一阳极材料层制作于所述第一平坦化层上,并使所述第一阳极材料层经由所述第二过孔延伸并与所述第一漏极层电连接;第一像素定义层制作于所述第一阳极材料层,所述第一像表定义层仅覆盖部份所述第一阳极材料层;及非常规像素结构,所述非常规像素结构包括:第二多晶和栅极层制作于所述基 ...
【技术特征摘要】
1.一种避免显示区域边缘处产生色偏现象的有源矩阵有机发光二极管(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode,AMOLED)面板,其特征在于,所述AMOLED面板包括:基板;常规像素结构,所述常规像素结构包括:第一多晶和栅极层制作于所述基板上;第一间绝缘层制作于所述第一多晶和栅极层上,并且在所述第一间绝缘层及所述第一多晶和栅极层上与第一源极层和第一漏极层的相应位置处形成第一过孔,所述第一源极层和所述第一漏极层分别制作于所述第一间绝缘层上相应位置处的所述第一过孔内并延伸至所述第一过孔外;第一平坦化层制作于所述第一间绝缘层、所述第一源极层与所述第一漏极层上,所述第一平坦化层覆盖所述第一间绝缘层、所述第一源极层与所述第一漏极层,并在所述第一平坦化层上与所述第一漏极层相应的位置处形成第二过孔;第一阳极材料层制作于所述第一平坦化层上,并使所述第一阳极材料层经由所述第二过孔延伸并与所述第一漏极层电连接;第一像素定义层制作于所述第一阳极材料层,所述第一像表定义层仅覆盖部份所述第一阳极材料层;及非常规像素结构,所述非常规像素结构包括:第二多晶和栅极层制作于所述基板上;第二间绝缘层制作于所述第二多晶和栅极层上,并且在所述第二间绝缘层上及所述第二多晶和栅极层上与第二源极层和第二漏极层的相应位置处形成第三过孔,所述第二源极层和所述第二漏极层分别制作于所述第二间绝缘层上相应位置处的所述第三过孔内并延伸至所述第三过孔外;第二平坦化层制作于所述第二间绝缘层、所述第二源极层与所...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄伟杰,李鹏,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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