基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理装置可包括：第一盘，其设置在腔室中并且被配置为执行转动运动，第一盘包括周期性地布置在距中心轴的特定半径内的多个座孔；多个第二盘，其分别设置在座孔中并且被配置为根据第一盘的转动运动进行绕转及旋转运动；第一旋转连接器结构，其设置在第二盘和座孔之间，以允许第二盘的旋转运动及与第二盘的电连接；静电卡盘，其设置在第二盘上并配置成使用通过第一旋转连接器结构提供的电力保持基板；第一磁性齿轮，其固定到第二盘并配置成在第二盘上施加扭矩；和第二磁性齿轮，其设置在腔室中，以与第一磁性齿轮相互作用但被阻止转动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置
本专利技术涉及一种基板处理装置，尤其涉及一种能够提高在处理多个基板的工艺中的均匀性的基板处理装置。该基板处理装置包括：主盘，其被配置为执行转动运动；以及辅助盘，其被配置为执行绕转及旋转运动。
技术介绍
通常，为了制造半导体存储器件、液晶显示器件、有机发光器件等，需要在基板上进行多次半导体制造工艺。例如，为了在基板上形成所需图案，沉积和图案化工艺应重复几次。详细地，半导体制造工艺包括在基板上形成薄膜的沉积工艺、打开薄膜的期望区域的光刻工艺、以及去除薄膜的开口区域的蚀刻工艺。在半导体制造工艺中，每个工艺在处理室中进行，该处理室被制备为具有优化的工艺环境。通常，用于处理诸如晶片的圆形基板的装置被放置在处理室中，并且被配置为具有一圆形的第一盘和多个圆形的第二盘，每个第二盘的直径小于第一盘的直径。在使用基板处理装置的情况下，基板处理工艺包括将基板装载在第二盘上，然后在转动第一盘并绕转及旋转第二盘的同时将源材料注入到基板上。通过重复基板处理工艺，可以在基板上形成所需形状的结构。这里，附加部件(其被配置为注入空气或任何其他气体)用于使第二盘绕其中心转动或旋转(即，实现第二盘的旋转运动本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，包括：第一盘，其设置在腔室中并且构造成执行转动运动，所述第一盘包括多个座孔，所述座孔周期性地布置在距中心轴的特定半径内；多个第二盘，其分别设置在所述座孔中并构造成根据所述第一盘的所述转动运动执行绕转及旋转运动；第一旋转连接器结构，其设置在所述第二盘和所述座孔之间，以允许所述第二盘的旋转运动和与所述第二盘的电连接；静电卡盘，其设置在所述第二盘上并配置成使用通过所述第一旋转连接器结构供应的电力来保持基板；第一磁性齿轮，其固定至所述第二盘并被配置为在所述第二盘上施加扭矩；和第二磁性齿轮，其设置在所述腔室中，以与所述第一磁性齿轮相互作用但被阻止转动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.30 KR 10-2016-01108791.一种基板处理装置，包括：第一盘，其设置在腔室中并且构造成执行转动运动，所述第一盘包括多个座孔，所述座孔周期性地布置在距中心轴的特定半径内；多个第二盘，其分别设置在所述座孔中并构造成根据所述第一盘的所述转动运动执行绕转及旋转运动；第一旋转连接器结构，其设置在所述第二盘和所述座孔之间，以允许所述第二盘的旋转运动和与所述第二盘的电连接；静电卡盘，其设置在所述第二盘上并配置成使用通过所述第一旋转连接器结构供应的电力来保持基板；第一磁性齿轮，其固定至所述第二盘并被配置为在所述第二盘上施加扭矩；和第二磁性齿轮，其设置在所述腔室中，以与所述第一磁性齿轮相互作用但被阻止转动。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述第一磁性齿轮包括：旋转磁体支撑板，其与所述第二盘固定耦合，所述旋转磁体支撑板具有圆盘形状；和多个第一永磁体，其设置在所述旋转磁体支撑板的外周表面上，具有交替的磁化方向并且彼此间隔特定距离，其中所述第二磁性齿轮包括：固定磁体支撑板，其设置在所述腔室的底面和所述第一盘之间，所述固定磁体支撑板具有垫圈或圆环形状；和多个第二永磁体，其具有交替的磁化方向，设置在所述固定磁体支撑板的外周表面上，其中，所述第一永磁体和所述第二永磁体构造成根据所述第二盘的旋转状态而在所述第二盘上施加吸引力或排斥力，从而转动所述第二盘。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述静电卡盘包括：静电卡盘主体；电极安置部分，其形成在所述静电卡盘主体的顶面中，以具有凹陷形状；绝缘构件，其填充所述电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛昇澈，刘真赫，李敏秀，崔东焕，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR