一种具有光栅图案的盖板及其制造方法技术

技术编号:20875165 阅读:32 留言:0更新日期:2019-04-17 11:17
本申请公开了一种具有光栅图案的盖板及其制造方法。该盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层,光栅图案位于盖板本体及反射层之间。通过上述方式,能够提高盖板的光栅图案的清晰度及亮度,从而能够提高盖板的观赏性。

【技术实现步骤摘要】
一种具有光栅图案的盖板及其制造方法
本申请涉及材料领域,特别是涉及一种具有光栅图案的盖板其制造方法。
技术介绍
近年来,随着终端,如手机更新迭代的速度加快,其盖板材质依次经历了塑胶、金属、陶瓷、玻璃的发展历程。为了增强手机的卖点和吸引点,手机厂商在手机外观上做了很多的工作,不断的丰富手机外观的图案。本申请的专利技术人在长期的研发过程中发现,现有的图案通常是通过丝印油墨本身的颜色和图案来表现的,其炫目度有限,不能满足消费者的观感需求。
技术实现思路
本申请提供一种具有光栅图案的盖板其制造方法,以提高盖板的光栅图案的清晰度及亮度,以提高盖板的观赏性。为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种有光栅图案的盖板,该盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层,光栅图案位于盖板本体及反射层之间。其中,盖板本体包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合。其中,光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹,光栅条纹的宽度为0.01mm-0.05mm,相邻两个光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。其中,光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm,相邻两个光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm,且宽度与间距的比值为1:1。其中,相邻两个光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构,以使得光栅条纹与间隙具有不同的光学特性。其中,纳米微结构的深度为100nm-500nm。其中,反射层包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。其中,反射层的厚度范围为10nm-150nm。为解决上述技术问题,本申请采用的另一技术方案是:提供一种具有光栅图案的盖板的制造方法,该制造方法包括:在盖板本体的表面上形成多个间隔设置的掩膜条纹;对掩膜条纹保护下的盖板本体进行等离子蚀刻,以在掩膜条纹外露的盖板本体表面上形成纳米微结构,进而在盖板本体的表面上形成与掩膜条纹对应的光栅条纹;去除掩膜条纹;在光栅条纹所在的盖板本体表面上形成反射层。为解决上述技术问题,本申请采用的又一技术方案是:提供一种终端,该终端包括上述具有光栅图案的盖板。本申请的有益效果是:区别于现有技术,本申请实施例具有光栅图案的盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层,光栅图案位于盖板本体及反射层之间。通过上述方式,本申请实施例通过在盖板本体的表面上设置光栅图案,能够利用光的反射式干涉使盖板具有更加炫目的光栅图案,同时在光栅图案背离盖板本体的一侧设置反射层,能够增加入射光的反射强度,能够提高光栅图案的清晰度及亮度,因此,能够提高盖板的观赏性。附图说明图1是本申请具有光栅图案的盖板第一实施例的结构示意图;图2是本申请具有光栅图案的盖板第二实施例的结构示意图;图3是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法一流程示意图;图4是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法的工艺流程示意图;图5是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法另一流程示意图;图6是本申请具有光栅图案的盖板第三实施例的结构示意图;图7是图6实施例具有光栅图案的盖板的制造方法一流程示意图;图8是本申请终端一实施例的结构示意图;图9是本申请汽车一实施例的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。本申请首先提出一种具有光栅图案的盖板,如图1所示,本实施例盖板101包括盖板本体102以及形成于盖板本体102的表面上的光栅图案103及反射层104,光栅图案103位于盖板本体102及反射层104之间。本实施例的盖板101可以为终端的盖板,如设置在手机的盖板等。在将盖板101安装于手机本体上时,盖板101的反射层104靠近手机显示屏,即盖板101设置在显示屏的外侧。在其它实施例中,盖板还可以用于家电、汽车等产品。入射光从盖板本体102背离光栅图案103的一侧入射,光栅图案103对入射光进行反射后产生干涉现象,光照时,在一定角度下观看盖板101,将能获取如CD盘表面一样的发散式光图案;同时,未被光栅图案103反射的入射光被反射层104反射至光栅图案103,光栅图案103对这部分反射光也会产生干涉现象,能够提高光利用率,能够提高盖板101光栅图案的清晰度及亮度。本申请实施例通过在盖板本体102的表面上设置光栅图案103,利用光的反射式干涉使图案具有更加炫目的观感,同时在光栅图案103背离盖板本体102的一侧设置反射层104,能够增加入射光的反射强度,能够提高光栅图案103的清晰度及亮度,以提高盖板101的观赏性。进一步地,从盖板本体102及反射层104的材料考虑,为实现上述效果,盖板本体102包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合,其组合可以是PC、PMMA和PET三层复合基等;反射层104为透明氧化物膜层,该透明氧化物膜层至少包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。进一步地,从反射层104的厚度考虑,为实现上述效果,反射层104的厚度范围可以为10nm-150nm,该厚度具体可以为10nm、30nm、50nm、70nm、90nm、110nm、130nm及150nm等。进一步地,从反射层104的物理特征考虑,为实现上述效果,反射层104的折射率范围可以为2.0-2.8,该折射率具体可以为2.0、2.2、2.4、2.6及2.8等。可选地,本实施例的光栅图案103包括多个间隔设置的光栅条纹105。其中,光栅条纹的宽度范围可以为0.01mm-0.05mm,该宽度具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等;相邻两个光栅条纹105之间的间距范围可以为0.01mm-0.05mm,该间距具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等。可选地,光栅条纹105的宽度范围优选为0.015mm-0.025mm,该宽度具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等;相邻两个光栅条纹105之间的间距范围优选为0.015mm-0.025mm,该间距具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等。在一具体应用中,从光栅效果的物理特性考虑,为了获得45度光栅闪耀效果,光栅条纹105的宽度与相邻两个光栅条纹105之间的间距比为1:1。在其它实施例中,为得到不同角度光栅闪耀效果,可以适应性调整光栅条纹的宽度与相邻两个光栅条纹之间的间距比值大小。为进一步提高光栅图案的清晰度,本申请进一步第二实施例的具有光栅图案的盖板,如图2所示,本实施例的盖板201与上述实施例盖板的区别在于:本实施例的相邻两个光栅条纹202之间的间隙内形成有纳米微结构203,以使得光栅条纹202与间隙具有不同的光学特性。未设置纳米微结构的光栅条纹202与设置有纳米微结构203的间隙的物理微结构不同,因此,二者对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有光栅图案的盖板,其特征在于,所述盖板包括盖板本体以及形成于所述盖板本体的表面上的光栅图案及反射层,所述光栅图案位于所述盖板本体及所述反射层之间。

【技术特征摘要】
1.一种具有光栅图案的盖板,其特征在于,所述盖板包括盖板本体以及形成于所述盖板本体的表面上的光栅图案及反射层,所述光栅图案位于所述盖板本体及所述反射层之间。2.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板,其特征在于,所述盖板本体包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合。3.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板,其特征在于,所述光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹,所述光栅条纹的宽度为0.01mm-0.05mm,相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。4.根据权利要求3所述的具有光栅图案的盖板,其特征在于,所述光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm,相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm,且所述宽度与所述间距的比值为1:1。5.根据权利要求3所述的具有光栅图案的盖板,其特征在于,相邻两个所述光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构,以使得所...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘志宇
申请(专利权)人:佛山市易晟达科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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