曝光装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具有第1温度调节机构(113)和第2温度调节机构(211)，第1温度调节机构(113)通过向收容投影光学系统(104)的镜筒(110)的内部供给气体来调节镜筒内部的温度，第2温度调节机构(211)通过向被设置在对构成投影光学系统的光学元件(201)进行保持的保持部件(206)中的流路(209)供给液体来调节光学元件以及保持部件的温度，其中，第1温度调节机构的目标温度和第2温度调节机构的目标温度不同。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及物品制造方法
本专利技术涉及曝光装置以及使用了它的物品制造方法。
技术介绍
在作为半导体器件、液晶显示装置等的制造工序的光刻工序中，将原版的图案经投影光学系统向感光性的基板转印的曝光装置是已知的。这里，若曝光处理涉及到长时间，则投影光学系统内部的光学元件吸收曝光光线，被吸收的光线的能量被转换为热量，该光学元件、该光学元件的保持部件以及包围它们的空气的温度会上升。此时，在收容投影光学系统的镜筒的内部空间产生温度分布，该空间的屈光率变化，由此，曝光装置的成像性能变化。因此，已知为了降低镜筒的内部空间的温度分布而使被控制了温度的空气在镜筒的内部空间循环这样的技术。专利文献1公开了以下曝光装置：通过与镜筒的内部温度伴随曝光处理而上升相对应地使向镜筒内部供给的空气的温度上升，抑制因镜筒内部的温度分布造成的成像性能的变化。另外，专利文献2公开了以下曝光装置：通过相对于投影光学系统所包含的光学元件、其保持部件使液体循环，进行光学元件、其保持部件的温度控制。在先技术文献专利文献1：日本特开2012-058440号公报专利文献2：日本特开2017-134389号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题一般认为，在收容投影光学系统的镜筒的内部，通过并行地实施镜筒的内部空间的温度控制和投影光学系统所包含的光学元件及其保持部件的温度控制，来降低镜筒的内部空间的温度和光学元件及其保持部件的温度之差。此时，以空气的热时间常数和光学元件及其保持部件的材料的热时间常数之差为起因，容易在镜筒内部产生温度分布。本专利技术的目的在于提供一种通过降低收容投影光学系统的镜筒的内部的温度分布而可抑制投影光学系统的成像性能变化的曝光装置。用于解决课题的方案本专利技术的曝光装置具有第1温度调节机构和第2温度调节机构，所述第1温度调节机构通过向收容投影光学系统的镜筒的内部供给气体，来调节所述镜筒的内部的温度，所述第2温度调节机构通过向被设置在对构成所述投影光学系统的光学元件进行保持的保持部件中的流路供给液体，来调节所述光学元件以及所述保持部件的温度，其特征在于，所述第1温度调节机构的目标温度和所述第2温度调节机构的目标温度不同。从以下示例性实施例的描述(参考附图)，本专利技术的其他特征将变得显而易见。附图说明图1是表示有关本专利技术的曝光装置的结构的图。图2是表示有关本专利技术的可变镜装置的结构的图。图3是表示以往的温度控制方法中的课题的图。图4是表示本专利技术的实施方式1中的温度控制方法的图。图5是表示本专利技术的实施方式2中的温度控制方法的图。具体实施方式下面，参照各图对本专利技术的实施方式详细地进行说明。另外，本专利技术并非是被限定于下面的实施方式的专利技术，下面的实施方式只不过表示本专利技术实施的具体例子。(曝光装置的结构)使用图1，说明有关本实施方式的曝光装置100的结构。曝光装置100是通过经掩膜(原版)对基板上的抗蚀剂进行曝光，在该抗蚀剂形成与掩膜的图案对应的潜像的装置。作为曝光方式，有步进扫描方式、步进重复方式，但是，这里为采用步进扫描方式的曝光装置。但是，本专利技术并非是限定于特定的曝光方式的专利技术。曝光装置100可具备照明光学系统101、对位用显微镜102、对形成了图案的掩膜M进行保持的掩膜载置台103、投影光学系统104和保持基板W的基板载置台105。另外，曝光装置100可包括总体地控制曝光处理的控制装置130。照明光学系统101具有光源，相对于被保持在掩膜载置台103上的掩膜M照射曝光光线。对位用显微镜102是对被形成在掩膜M和基板W上的对位用校准标记进行观察的光学系统。曝光装置100通过使掩膜M和基板W同步地进行扫描曝光，能够将掩膜M上的图案转印到涂抹了抗蚀剂的基板W上。投影光学系统104是将形成在掩膜M上的图案的像向被保持在基板载置台105上的基板W投影的光学系统。有关本实施方式的曝光装置100包括作为光学元件的可变镜201。可变镜201构成凹面反射镜。从照明光学系统101出射并透过了掩膜M的曝光光线由平面反射镜107将光路折曲，向作为凹面反射镜的可变镜201的反射面201a入射。在可变镜201的反射面201a被反射的曝光光线在凸面反射镜108反射，再次向可变镜201的反射面201a入射。在可变镜201的反射面201a被反射的曝光光线由平面反射镜107将光路折曲，在基板W上成像。另外，如使用图2在后面阐述的那样，通过使可变镜201的反射面201a变形，可使投影光学系统104的成像位置变化。在收容投影光学系统104的镜筒110中的可变镜201附近形成供气口110a以及排气口110b。可在供气口110a以及排气口110b分别连接用于镜筒110内的温度稳定化的供气机构111以及排气机构112。由空调机构113进行了空气调节的空气等气体由供气机构111经供气口110a送入镜筒110内，由排气机构112经排气口110b排气。在曝光时，各光学元件因曝光光线而发热，但是，能够通过该吸气排气降低镜筒110的内部空间的温度分布。空调机构113作为第1温度调节机构发挥功能。另外，镜筒110的内部空间的温度由镜筒内温度测量构件106测量。(可变镜装置的结构)图2是表示包括可变镜201和对可变镜201进行保持的基座(保持部件)206的可变镜装置200的结构的图。可变镜装置200被构成为能够使可变镜201的反射面201a的形状变化。可变镜201是薄镜，具有反射光线的反射面201a和其相反侧的背面201b。基座206具有与可变镜201的背面201b相向的第1面206a和其相反侧的第2面206b。可变镜201的包括背面201b的中心的一部分由固定部件202固定在基座206的包括第1面206a的中心的一部分。为了抑制以因热而造成的应变为起因的形状误差的产生，可变镜201例如使用低热膨胀光学玻璃。对反射面201a实施适于所使用的光线的波长的涂敷。基座206经固定部件202对可变镜201进行支撑，且对位移传感器208以及致动器固定用的保持器207进行保持。可变镜装置200具有被设置在可变镜201和基座206之间并对可变镜201的背面201b施加力而使反射面201a变形的致动器203。致动器203例如是由磁铁204和线圈205构成的音圈马达(VCM)。例如，磁铁204被配置在可变镜201的背面201b，线圈205与磁铁204相向地通过由保持器207保持而被固定在基座206。致动器203遍及可变镜201的整个面地配置有多个，但是，本专利技术并非是限定于特定的致动器203的数量、配置方式的专利技术。另外，致动器203也可以是音圈马达以外的致动器。在基座206的内部形成流路209，从液体温度控制机构211向该流路209供给温度被控制的液体。液体温度控制机构211作为第2温度调节机构发挥功能。作为液体，例如使用水。通过使作为制冷剂的液体在流路209循环，在致动器203中产生的热经传热棒210被冷却。另外，通过使高温的液体在流路209循环，还能够使基座206以及可变镜201的温度上升。另外，也可以采用将流路不是设置在基座206的内部而是设置在可变镜201的内部、使液体在该流路循环的结构。可变镜装置200可包括控制致动器203的控制器220。用于对光学性能的误差进行修正的可变镜201的目标形状的数据从控制装置13本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，所述曝光装置具有第1温度调节机构和第2温度调节机构，所述第1温度调节机构通过向收容投影光学系统的镜筒的内部供给气体，来调节所述镜筒的内部的温度，所述第2温度调节机构通过向被设置在对构成所述投影光学系统的光学元件进行保持的保持部件中的流路供给液体，来调节所述光学元件以及所述保持部件的温度，其特征在于，所述第1温度调节机构的目标温度和所述第2温度调节机构的目标温度不同。

【技术特征摘要】
2017.10.06 JP 2017-1964231.一种曝光装置，所述曝光装置具有第1温度调节机构和第2温度调节机构，所述第1温度调节机构通过向收容投影光学系统的镜筒的内部供给气体，来调节所述镜筒的内部的温度，所述第2温度调节机构通过向被设置在对构成所述投影光学系统的光学元件进行保持的保持部件中的流路供给液体，来调节所述光学元件以及所述保持部件的温度，其特征在于，所述第1温度调节机构的目标温度和所述第2温度调节机构的目标温度不同。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第2温度调节机构的目标温度比所述第1温度调节机构的目标温度高。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，根据所述保持部件的热容量、热传递率以及热传导率中的至少一者，决定所述第2温度调节机构的目标温度。4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，根据所述光学元件的热容量、热传递率以及热传...

【专利技术属性】
技术研发人员：安永大辅，西川原朋史，浅田克己，柴田雄吾，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP