一种宽带宽长周期光纤光栅刻写装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种宽带宽长周期光纤光栅刻写装置，包括紫外激光器、步进电机、折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜、光纤固定架、ASE、OSA和两个MFA，折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜共光轴依次固定在步进电机顶面，紫外激光器位于折转镜的入射光路上，第一柱面镜和第二柱面镜位于折转镜的出射光路上，在待刻写的载氢光纤上剥离一段涂覆层，并将其固定在光纤固定架上，使得紫外激光器发出的紫外光束经折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜后照射到待刻写的载氢光纤的剥离涂覆层段上，载氢光纤一端通过MFA连接ASE，另一端通过MFA连接OSA。本发明专利技术可将长周期光栅带宽提高至100nm以上，刻写出的宽带宽长周期光纤光栅应用领域会更加广泛，为后续应用研究提供了便利。

【技术实现步骤摘要】
一种宽带宽长周期光纤光栅刻写装置
本专利技术属于光纤光栅领域，具体涉及一种紫外光刻写宽带宽长周期光纤光栅的装置。
技术介绍
光纤光栅中根据周期的长短可以分为两大类：周期小于1μm的称为短周期或反射型光纤光栅，即布拉格光纤光栅(FBG)；周期为几十到几百微米甚至更长的称为透射型或长周期光纤光栅(LPFG)。1978年，加拿大通信研究中心的Hill等人首次利用驻波法在掺锗光纤中研制出世界上第一支永久性的实现反向模式间耦合的光纤布拉格光栅。1996年，A.M.Vengsarkar等人用紫外光通过振幅掩模板照射氢载硅锗光纤，首先研制成了现在通常意义上长周期光纤光栅(LPFG)。1996年,Bhatia等人详细研究了长周期光纤光栅的各种特性，提出了其在通信与传感领域中的应用。1997年，T.Erdogan从模式耦合的角度深入研究了长周期光纤光栅的光谱特性，从而奠定了长周期光纤光栅的理论基础。1998年，Davis等人首次提出了用CO2激光脉冲激光写入长周期光纤光栅的技术，使长周期光纤光栅的制作和应用进入了一个新的发展阶段。长周期光纤光栅(LPFG)，光栅周期在100μm以上，LPFG中发生的是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种宽带宽长周期光纤光栅刻写装置，其特征在于：包括紫外激光器、步进电机、折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜、光纤固定架、ASE、OSA和两个MFA，折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜共光轴依次固定在步进电机顶面，紫外激光器位于折转镜的入射光路上，第一柱面镜和第二柱面镜位于折转镜的出射光路上，在待刻写的载氢光纤上剥离一段涂覆层，并将其固定在光纤固定架上，使得紫外激光器发出的紫外光束经折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜后照射到待刻写的载氢光纤的剥离涂覆层段上，待刻写的载氢光纤一端通过MFA连接ASE，另一端通过MFA连接OSA。

【技术特征摘要】
1.一种宽带宽长周期光纤光栅刻写装置，其特征在于：包括紫外激光器、步进电机、折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜、光纤固定架、ASE、OSA和两个MFA，折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜共光轴依次固定在步进电机顶面，紫外激光器位于折转镜的入射光路上，第一柱面镜和第二柱面镜位于折转镜的出射光路上，在待刻写的载氢光纤上剥离一段涂覆层，并将其固定在光纤固定架上，使得紫外激光器发出的紫外光束经折转镜、第一柱面镜、第二柱面镜后照射到待刻写的载氢光纤的剥离涂覆层段上，待刻写的载氢光纤一端通过MFA连接ASE，另一端通过MFA连接OSA。2.根据权利要求1所述的宽带宽长周期光纤光栅刻写...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈华，关智文，矫岢蓉，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：江苏,32